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1、(10)申请公布号 CN 102856151 A (43)申请公布日 2013.01.02 CN 102856151 A *CN102856151A* (21)申请号 201210381362.0 (22)申请日 2012.10.10 101126873 2012.07.25 TW H01J 37/32(2006.01) (71)申请人 友达光电股份有限公司 地址 中国台湾新竹市 (72)发明人 杨总胜 王春盛 江舜彦 (74)专利代理机构 隆天国际知识产权代理有限 公司 72003 代理人 张艳杰 张浴月 (54) 发明名称 等离子体反应机台 (57) 摘要 一种等离子体反应机台， 包含 ：。
2、 腔体、 平台及 缓冲组件。腔体具有容置空间 ； 平台， 设置于腔体 内 ； 缓冲组件， 设置于腔体内且邻近平台的侧边， 缓冲组件与平台共同将容置空间区隔为第一空间 与第二空间， 并且部分与侧边形成气体通道， 气体 通道由第一空间朝第二空间的方向呈渐扩状而连 通第一空间与第二空间。本发明以缓冲组件将腔 体内的容置空间区隔为第一空间及第二空间， 并 以缓冲组件与平台的侧边界定出气体通道， 其中， 气体通道由第一空间朝第二空间的方向为渐扩 状， 使得气体易于由第二空间向第一空间流动， 但 却较难反向流动， 因此， 当空气反向流动时， 工艺 生成物堆积于缓冲组件的本体部处， 而不会累积 于平台上。 。
3、(30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书 2 页 说明书 5 页 附图 11 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 2 页 说明书 5 页 附图 11 页 1/2 页 2 1. 一种等离子体反应机台， 包含 ： 一腔体， 具有一容置空间 ； 一平台， 设置于该腔体内 ； 及 一缓冲组件， 设置于该腔体内且邻近该平台的一侧边， 该缓冲组件与该平台共同将该 容置空间区隔为一第一空间与一第二空间， 并且该缓冲组件部分与该侧边形成一气体通 道， 该气体通道由该第一空间朝该第二空间的方向呈渐扩状而连通该第一空间与该第二空 间。 2. 如权利要求 1 所。
4、述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件包含一本体部与一倾斜 部， 该倾斜部的一端连接于该本体部， 另一端朝向该平台倾斜延伸。 3. 如权利要求 2 所述的等离子体反应机台， 其中该倾斜部与该平台之间形成该气体通 道。 4. 如权利要求 2 所述的等离子体反应机台， 其中该倾斜部与该平台之间的夹角介于 15至 75之间。 5. 如权利要求 2 所述的等离子体反应机台， 还包含 ： 一抽气单元， 位于该腔体， 抽取气 体由该第二空间朝该第一空间的方向流动。 6. 如权利要求 5 所述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件还包含一遮蔽部， 对应该 抽气单元设置并连接于该倾斜部。 7. 如权利要求 6 。
5、所述的等离子体反应机台， 其中该倾斜部未连接于该本体部的一端与 该平台之间形成一开口， 该开口位于该遮蔽部的两端。 8. 如权利要求 7 所述的等离子体反应机台， 其中距离该遮蔽部较远的该开口宽度大于 距离该遮蔽部较近的该开口宽度， 其中该开口宽度为该倾斜部未连接于该本体部的一端与 该平台间的最短距离。 9. 如权利要求 1 所述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件还包含一延伸部， 连接于 该倾斜部， 并与该平台之间形成一开口。 10. 如权利要求 1 所述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件还包含多个第一挡板与 多个第二挡板， 交错排列而围绕于该平台的侧边， 所述多个第一挡板与所述多个第二挡。
6、板 分别与该平台之间形成该气体通道。 11. 一种等离子体反应机台， 包含 ： 一腔体， 具有一底面以及至少一侧壁面， 该底面以及该至少一侧壁面围出一容置空 间 ； 一平台， 设置于该腔体内 ； 及 至少一缓冲组件， 设置于该平台与该至少一侧壁面之间， 该缓冲组件具有一导流面， 且 该导流面靠近该平台的一端与该底面的间距小于该导流面远离该平台的一端与该底面的 间距。 12. 如权利要求 11 所述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件与该平台共同将该容置 空间区隔为一第一空间与一第二空间。 13. 如权利要求 11 所述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件包含一本体部与一倾斜 部， 该倾斜部的一。
7、端连接于该本体部， 另一端朝向该平台倾斜延伸， 其中该导流面位于该倾 斜部朝向该第二空间的一表面。 权 利 要 求 书 CN 102856151 A 2 2/2 页 3 14. 如权利要求 13 所述所述的等离子体反应机台， 其中该倾斜部与该平台之间形成一 气体通道。 15. 如权利要求 13 所述的等离子体反应机台， 其中该倾斜部与该平台之间的夹角介于 15至 75之间。 16. 如权利要求 13 所述的等离子体反应机台， 还包含 ： 一抽气单元， 位于该腔体， 抽取 气体由该第二空间朝该第一空间的方向流动。 17. 如权利要求 16 所述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件还包含一遮蔽部，。
8、 对应 该抽气单元设置并连接于该倾斜部。 18. 如权利要求 17 所述的等离子体反应机台， 其中该倾斜部未连接于该本体的一端与 该平台之间形成一开口， 该开口位于该遮蔽部的两端。 19. 如权利要求 18 所述的等离子体反应机台， 其中距离该遮蔽部较远的该开口大于距 离该遮蔽部较近的该开口。 20. 如权利要求 11 所述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件还包含一延伸部， 连接 于该倾斜部， 并与该平台之间形成一开口。 21. 如权利要求 11 所述的等离子体反应机台， 其中该缓冲组件还包含多个第一挡板与 多个第二挡板， 交错排列而围绕于该平台的侧边， 所述多个第一挡板与所述多个第二挡板 。
9、分别与该平台之间形成该气体通道。 权 利 要 求 书 CN 102856151 A 3 1/5 页 4 等离子体反应机台 技术领域 0001 本发明涉及一种等离子体反应机台， 特别涉及一种能改善腔体流场的等离子体反 应机台。 背景技术 0002 以往等离子体反应机台上的平台， 在工艺腔体 (Process Chamber,PC) 进片后， 高 压气流吹入工艺腔体内， 再由帮浦 (pump) 所抽走。在公知的平台中， 吸出口只设置于平台 的角落， 导致气流路径较长， 气流路径越长其气阻会越高， 气阻造成气体流速降低， 使得尘 粒在经过平台上方区域时即沉降， 并掉落在玻璃上而产生残余物。 0003。
10、 另一种情况是， 在通工艺气体时， 在初期冲压达工艺压力的状况， 冲压时自动调压 阀全关而工艺气体吹入。 当工艺气体吹入平台下方而夹带积于平台下方处的工艺生成物或 是尘粒扰动而飘散， 工艺生成物或是尘粒亦跟着气体方向扰动而掉落至玻璃上， 使得在后 续的工艺中持续产生残余物。 0004 再者， 在工艺腔体进行蚀刻时， 所吹入工艺气体经等离子体解离后， 蚀刻并产生生 成物。传统等离子体反应机台上的平台的四角出口对于玻璃产生生成物后， 因路径长短差 异性大， 因此对于抽走生成物的效率有差异， 经常导致生成物未被带走而残留于玻璃上， 而 遮蔽到原本应该继续刻蚀的位置， 而产生刻蚀残留残余物。 因此， 。
11、如何改良等离子体反应机 台上腔体流场， 使其减少残余物影响， 为本申请的发明人以及从事此相关行业的技术领域 者亟欲改善的课题。 发明内容 0005 有鉴于此， 为解决现有技术存在的问题， 本发明提出一种等离子体反应机台， 包 含 ： 腔体、 平台及缓冲组件。腔体具有容置空间 ； 平台， 设置于腔体内 ； 缓冲组件， 设置于腔 体内且邻近平台的侧边， 缓冲组件与平台共同将容置空间区隔为第一空间与第二空间， 并 且部分与侧边形成气体通道， 气体通道由第一空间朝第二空间的方向呈渐扩状而连通第一 空间与第二空间。 0006 此外， 缓冲组件包含本体部与倾斜部， 倾斜部的一端连接于本体部， 另一端朝向平。
12、 台倾斜延伸。其中倾斜部与平台之间形成气体通道， 而倾斜部与平台之间的夹角为介于 15至 75之间。 0007 再者， 本发明的等离子体反应机台还包含抽气单元位于腔体， 抽取气体由第二空 间朝第一空间的方向流动。其中缓冲组件还包含遮蔽部， 对应抽气单元设置并连接于倾斜 部， 倾斜部未连接于本体部的一端与平台之间形成开口， 开口位于遮蔽部的两端， 其中距离 遮蔽部较远的开口宽度大于距离遮蔽部较近的开口宽度。 0008 本发明亦提出一种等离子体反应机台， 包含 ： 腔体、 平台及至少一缓冲组件。 腔体， 具有底面以及至少一侧壁面， 底面以及至少一侧壁面围出容置空间 ； 平台， 设置于腔体内 ； 及。
13、至少一缓冲组件， 设置于平台与至少一侧壁面之间， 缓冲组件具有导流面， 且导流面靠近 说 明 书 CN 102856151 A 4 2/5 页 5 平台的一端与底面的间距小于导流面远离平台的一端与底面的间距。 0009 其中缓冲组件与平台共同将容置空间区隔为第一空间与第二空间。再者， 缓冲组 件包含本体部与倾斜部， 倾斜部的一端连接于本体部， 另一端朝向平台倾斜延伸。 倾斜部与 平台之间形成气体通道。 0010 此外， 本发明的等离子体反应机台还包含抽气单元位于腔体， 抽取气体由第二空 间朝第一空间的方向流动。其中缓冲组件还包含遮蔽部， 对应抽气单元设置并连接于倾斜 部， 倾斜部未连接于本体部。
14、的一端与平台之间形成开口， 开口位于遮蔽部的两端， 其中距离 遮蔽部较远的开口大于距离遮蔽部较近的开口。 0011 本发明以缓冲组件将腔体内的容置空间区隔为第一空间及第二空间， 并以缓冲组 件与平台的侧边界定出气体通道， 其中， 气体通道由第一空间朝第二空间的方向为渐扩状， 使得气体易于由第二空间向第一空间流动， 但却较难反向流动， 因此， 当空气反向流动 （第 一空间向第二空间流动） 时， 工艺生成物堆积于缓冲组件的本体部处， 而不会累积于平台 上。 0012 以下在实施方式中详细叙述本发明的详细特征以及优点， 其内容足以使任何本领 域普通技术人员了解本发明的技术内容并据以实施， 且根据本说。
15、明书所公开的内容、 权利 要求及附图， 任何本领域普通技术人员可轻易地理解本发明相关的目的及优点。 附图说明 0013 图 1 为本发明等离子体反应机台的示意图。 0014 图 2 为本发明等离子体反应机台第一实施例的俯视图。 0015 图 3A 为本发明等离子体反应机台第一实施例的剖面图 ( 一 )。 0016 图 3B 为本发明等离子体反应机台第一实施例的剖面图 ( 二 )。 0017 图 3C 本发明等离子体反应机台第一实施例的局部放大图。 0018 图 4A 为本发明等离子体反应机台第二实施例的剖面图 ( 一 )。 0019 图 4B 为本发明等离子体反应机台第二实施例的剖面图 ( 二。
16、 )。 0020 图 4C 为本发明等离子体反应机台第二实施例的局部放大图。 0021 图 5 为本发明等离子体反应机台第三实施例的示意图。 0022 图 6A 为本发明等离子体反应机台第三实施例的剖面图 ( 一 )。 0023 图 6B 为本发明等离子体反应机台第三实施例的剖面图 ( 二 )。 0024 【主要附图标记说明】 0025 10 腔体 0026 11 容置空间 0027 12 第一空间 0028 13 第二空间 0029 14 底面 0030 15 侧壁面 0031 20 平台 0032 30 缓冲组件 0033 31 本体部 说 明 书 CN 102856151 A 5 3/5。
17、 页 6 0034 32 倾斜部 0035 33 第一挡板 0036 34 第二挡板 0037 35 遮蔽部 0038 36 延伸部 0039 37 导流 0040 40 气体通道 0041 50 抽气单元 0042 60 开口 0043 60a 开口宽度 具体实施方式 0044 请参阅图 1 所示， 图 1 为本发明一具体实施例的等离子体反应机台的示意图。本 实施例的等离子体反应机台包含腔体 10、 平台 20 及缓冲组件 30。 0045 腔体 10 为概呈矩形的立方体结构， 而具有容置空间 11， 进一步来说， 腔体 10 具有 底面 14， 以及至少一个侧壁面 15， 以本实施例而言，。
18、 侧壁面 15 为四个， 借由底面 14 及四个 侧壁面 15 而围成一个容置空间 11。 0046 腔体 10 主要经由气体线路 ( 图中未示 ) 输入工艺气体。本实施例的等离子体反 应机台包含平台 20， 平台 20 其优选地对应腔体 10 的形状， 于本实施例中， 例如为概呈矩形 的立方体结构。基此， 平台 20 设置于腔体 10 中而位于容置空间 11。 0047 请参阅图 2 所示， 图 2 为本发明等离子体反应机台第一实施例的俯视图。本发明 的等离子体反应机台具有缓冲组件 30， 缓冲组件 30 概呈片体结构， 设置于腔体 10 内且邻 近于平台 20 的侧边， 进一步来说， 缓冲。
19、组件 30 设置于平台 20 与腔体 10 的侧壁面 15 之间。 缓冲组件 30 具有多个第一挡板 33 与多个第二挡板 34， 第一挡板 33 与第二挡板 34 借由交 错排列的方式围绕于平台 20 的侧边， 并且第一挡板 33 与第二挡板 34 分别与平台 20 之间 形成气体通道 40( 如图 3A 所示 )。此外， 当第一挡板 33 与第二挡板 34 交错排列围绕于平 台 20 的侧边时， 第一挡板 33 与第二挡板 34 会彼此相抵触， 为方便设置第一挡板 33 与第二 挡板 34 于腔体 10 中， 优选地可于第二挡板 34 的两端分别设置对应第一挡板 33 的缺口， 使 得第一。
20、挡板 33 嵌合于缺口， 而达到第一挡板 33 与第二挡板 34 于腔体 10 中时， 不再相互抵 触， 但本发明并非以此为限， 缺口亦设置于第一挡板 33。以本发明的第一实施例而言， 第一 挡板 33 与第二挡板 34 的数量分别为两个， 但本发明并非以此为限。 0048 请参阅图 3A、 图 3B 及图 3C 所示， 图 3A 为本发明等离子体反应机台第一实施例的 剖面图 ( 一 )， 图 3B 为本发明等离子体反应机台第一实施例的剖面图 ( 二 )， 图 3C 本发明 等离子体反应机台第一实施例的局部放大图。请先参照图 3A， 图 3A 为图 2AA 处的剖面， 缓 冲组件 30 与平台。
21、 20 共同将容置空间区隔成第一空间 12 与第二空间 13， 缓冲组件 30 的部 分区段与平台 20 的侧边之间形成连通第一空间 12 与第二空间 13 的气体通道 40。于本实 施例中， 缓冲组件 30 更具有本体部 31 与倾斜部 32。倾斜部 32 的一端连接于本体部 30， 另 一端则朝向平台 20 处延伸， 本体部 31 则连接于腔体 10 上而使得缓冲组件 30 固定于容置 空间 11 中。 说 明 书 CN 102856151 A 6 4/5 页 7 0049 基此， 倾斜部 32 与平台 20 之间形成气体通道 40。由于倾斜部 32 相对于平台 20 之间具有夹角， 因此。
22、使得气体通道 40 由第一空间 12 朝第二空间 13 的方向呈渐扩状而连通 第一空间 12 与第二空间 13， 进一步来说， 缓冲组件 30 具有导流面 37， 导流面 37 位于倾斜 部 32 朝向第二空间 13 的表面， 且导流面 37 靠近平台 20 的一端与底面 14( 如图 1A 所示 ) 的间距小于导流面 37 远离平台 20 的一端与底面 14 的间距。于一实施例中， 倾斜部 32 与 平台 20 之间的夹角， 优选地为 15至 75之间， 但本发明并非以此为限。此外， 图 3B 的剖 面图为 BB 处的剖面， 其为经由第一挡板 33 处的剖面图， 与图 3A 不同的地方在于图。
23、 3A 为 第二档板 34 的剖面， 因此， 图 3B 的结构与图 3A 的结构相同， 在此不再累述。 0050 参阅图3C所示， 为第一实施例的局部放大图， 本发明的缓冲组件30借由倾斜部32 与平台 20 之间形成气体通道 40， 使气体通过开口 60 经过气体通道 40 流动， 同时气体带着 尘粒顺着导流面 37 流动， 使气体与尘粒流动于第二空间中， 并且将尘粒带回本体部 31 处， 而不累积于平台 20 上。 0051 请参阅图 4A、 图 4B 及图 4C 所示， 图 4A 为本发明等离子体反应机台第二实施例的 剖面图 ( 一 )， 图 4B 为本发明等离子体反应机台第二实施例的剖。
24、面图 ( 二 )， 图 4C 为本发 明等离子体反应机台第二实施例的局部放大图。请参阅图 4A， 图 4A 的剖面为第二挡板 34 的剖面。第二实施例与第一实施例不同的地方在于， 第二实施例的缓冲组件 30 更具有延伸 部 36， 连接于倾斜部 32。基此， 未连接于倾斜部 32 的一端与平台 20 之间形成开口 60。以 本实施例而言， 延伸部36优选地约略平行于本体部31， 但本发明并非以此为限。 惟图4B为 第一挡板 33 处的剖面， 其结构与图 4A 相同， 因此在此不再累述。为第二实施例的局部放大 图。 0052 参阅图 4C， 本发明的缓冲组件 30 借由倾斜部 32、 延伸部 3。
25、6 与平台 20 之间形成气 体通道 40， 使气体通过开口 60 经过气体通道 40 流动， 同时气体带着尘粒顺着导流面 37 流 动， 使气体与尘粒流动于第二空间中， 并且将尘粒带至本体部31处， 而不累积于平台20上。 0053 请参阅图 5、 图 6A 及图 6B 所示， 图 5 为本发明等离子体反应机台第三实施例的示 意图， 图 6A 为本发明等离子体反应机台第三实施例的剖面图 ( 一 )， 图 6B 为本发明等离子 体反应机台第三实施例的剖面图 ( 二 )。图 6A 为图 5 于 EE 处的剖面， 图 6B 为图 5 于 FF 处的剖面。 请先参照图5所示， 本实施例的等离子体反应。
26、机台具有抽气单元50位于腔体10 中， 借由抽气单元可抽取腔体 10 中的气体由第二空间 13 朝第一空间 12 的方向流动。以本 实施例而言， 抽气单元 50 优选地为两个， 分别位于平台 20 的相对应侧边。再请参照图 5 及 图 6A， 第三实施例与前述实施例另一不同的地方在于， 第三实施例的缓冲组件 30 具有遮蔽 部 35， 遮蔽部 35 对应于抽气单元 50 设置， 并且连接于倾斜部 32， 而遮蔽部 35 未连接于倾 斜部 32 的一端则延伸至平台 20， 使得遮蔽部 35 与平台 20 之间不存在开口 60。至此， 倾斜 部 32 未连接于本体部 31 的一端， 仅部分区段与遮。
27、蔽部 35 相连接。 0054 再请参照图 5、 图 6A 及图 6B， 倾斜部 32 未连接于本体部 31 的一端与平台 20 之间 形成开口 60。此开口 60 则分别位于遮蔽部 35 的两端。其中开口 60 据有开口宽度 60a， 为 对应开口 60 处的倾斜部 32 未连接于本体部 31 的一端与平台 20 间的最短距离。并且于此 实施例中， 距离遮蔽部 35 较远的开口 60 宽度大于距离较近遮蔽部 35 的开口 60 宽度。亦 即， 完全无连接遮蔽部 35 的倾斜部 32， 其未连接于本体部 31 的一端约略呈曲线状， 使得此 处的开口 60 大于有遮蔽部 35 的开口 60， 用。
28、以平衡曲线状的开口 60 的流场与有遮蔽部 35 说 明 书 CN 102856151 A 7 5/5 页 8 的开口 60 的流场， 使得整体流场平均分布。 0055 再请参照图 6A 及图 6B， 抽气单元 50 附近因具有较强吸力， 因此对应抽气单元 50 的上设有遮蔽部 35， 避免抽气单元 50 抽气时， 其上方的气流过强， 而能使得所有气体能均 匀地至开口 60 由第二空间 13 朝第一空间 12 的方向流动。 0056 本发明以缓冲组件将腔体内的容置空间区隔为第一空间及第二空间， 并以缓冲组 件与平台的侧边界定出气体通道， 其中， 气体通道由第一空间朝第二空间的方向为渐扩状， 使。
29、得气体易于由第二空间向第一空间流动， 但却较难反向流动， 因此， 当空气反向流动 （第 一空间向第二空间流动） 时， 工艺生成物堆积于缓冲组件的本体部处， 而不会累积于平台 上。 0057 虽然本发明的技术内容已经以优选实施例公开如上， 然其并非用以限定本发明， 任何本领域普通技术人员， 在不脱离本发明的精神所作些许的更动与润饰， 皆应涵盖于本 发明的范畴内， 因此本发明的保护范围当视所附的权利要求所界定的范围为准。 说 明 书 CN 102856151 A 8 1/11 页 9 图 1 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 9 2/11 页 10 图 2 说 明 书 附 图 CN。
30、 102856151 A 10 3/11 页 11 图 3A 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 11 4/11 页 12 图 3B 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 12 5/11 页 13 图 3C 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 13 6/11 页 14 图 4A 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 14 7/11 页 15 图 4B 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 15 8/11 页 16 图 4C 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 16 9/11 页 17 图 5 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 17 10/11 页 18 图 6A 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 18 11/11 页 19 图 6B 说 明 书 附 图 CN 102856151 A 19 。