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1、(10)申请公布号 CN 104364614 A (43)申请公布日 2015.02.18 CN 104364614 A (21)申请号 201380030748.X (22)申请日 2013.04.11 2012-091288 2012.04.12 JP G01F 1/68(2006.01) H01L 21/56(2006.01) (71)申请人 日立汽车系统株式会社 地址 日本茨城县 (72)发明人 河野务 半泽惠二 德安升 田代忍 (74)专利代理机构 北京银龙知识产权代理有限 公司 11243 代理人 张敬强 严星铁 (54) 发明名称 流量传感器及其制造方法 (57) 摘要 本发明提。
2、供一种能够抑制每个流量传感器的 性能偏差且实现性能提高的技术。 例如, 在与在形 成在半导体芯片 (CHP1) 上的露出的流量检测部 (FDU) 上流动的气体的前进方向并行的任意剖面 中, 通过使不与配置在中央部附近的半导体芯片 (CHP1) 重合地配置在半导体芯片 (CHP1) 的外侧 区域的突出销(EJPN)从下金属模具(BM)突起, 使 封闭体从下金属模具 (BM) 脱模。由此, 根据本实 施方式一, 与将突出销 (EJPN) 配置在与半导体芯 片 (CHP1) 重合的区域地进行封闭体从下金属模 具 (BM) 的脱模的场合相比, 能够减小脱模时施加 在封闭体上的变形。 (30)优先权数据。
3、 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2014.12.11 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2013/060888 2013.04.11 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2013/154144 JA 2013.10.17 (51)Int.Cl. 权利要求书 3 页 说明书 25 页 附图 16 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书3页 说明书25页 附图16页 (10)申请公布号 CN 104364614 A CN 104364614 A 1/3 页 2 1. 一种流量传感器的制造方法, 该流量传感器具有第一芯片搭载部以及配置在上述第。
4、 一芯片搭载部上的第一半导体芯片, 上述第一半导体芯片具有形成在第一半导体基板的主面上的流量检测部、 以及形成 在上述第一半导体基板的与上述主面相反侧的背面中、 与上述流量检测部相对的区域的隔 膜, 在使形成在上述第一半导体芯片上的上述流量检测部露出的状态下, 由包括树脂的封 闭体密封上述第一半导体芯片的一部分, 该流量传感器的制造方法的特征在于, 具备 : (a) 准备具有上述第一芯片搭载部的基材的工序 ; (b) 准备上述第一半导体芯片的工序 ; (c) 在上述第一芯片搭载部上搭载上述第一半导体芯片的工序 ; (d) 上述 (c) 工序后, 在使形成在上述第一半导体芯片上的上述流量检测部露。
5、出的状 态下, 利用上述封闭体封闭上述第一半导体芯片的一部分的工序, 上述 (d) 工序具有 : (d1) 准备上金属模具与供突出销插入的下金属模具的工序 ; (d2) 上述 (d1) 工序后, 一边将上述上金属模具的一部分按压在上述第一半导体芯片 的上表面, 并且, 在上述上金属模具与上述第一半导体芯片之间形成包围上述流量检测部 的第一空间, 一边利用上述上金属模具与上述下金属模具隔着第二空间夹入搭载了上述第 一半导体芯片的上述基材的工序 ; (d3) 上述 (d2) 工序后, 使树脂流入上述第二空间的工序 ; (d4) 上述 (d3) 工序后, 使上述树脂固化并形成上述封闭体的工序 ; 以。
6、及 (d5) 上述 (d4) 工序后, 使上述封闭体从上述下金属模具脱模的工序, 上述 (d5) 工序在与在露出的上述流量检测部上流动的气体的前进方向并行的任意剖 面中, 通过使不与上述第一半导体芯片重合地配置在上述第一半导体芯片的外侧区域的上 述突出销从上述下金属模具突起, 使上述封闭体从上述下金属模具脱模。 2. 根据权利要求 1 所述的流量传感器的制造方法, 其特征在于, 在上述基材上, 在上述第一芯片搭载部的周围配置挡板, 在与在露出的上述流量检测部上流动的气体的前进方向并行的任意剖面中, 上述突出 销配置在上述第一半导体芯片的外侧区域且上述挡板的内侧区域。 3. 根据权利要求 2 所。
7、述的流量传感器的制造方法, 其特征在于, 在上述挡板上设有定位孔, 在上述下金属模具上, 在与上述定位孔对应的位置设有定位销, 上述 (d2) 工序通过将设在上述下金属模具上的定位销插入设在上述挡板上的上述定 位孔中, 将上述基材固定在上述下金属模具上。 4. 根据权利要求 1 所述的流量传感器的制造方法, 其特征在于, 供上述突出销插入的设在上述下金属模具上的插入孔的直径比上述突出销的直径大, 在上述 (d3) 工序中, 上述树脂进入上述插入孔与上述突出销之间的间隙的一部分, 由 此, 在上述 (d4) 工序中, 在上述封闭体的下表面形成第一凸形状部。 5. 根据权利要求 1 所述的流量传感。
8、器的制造方法, 其特征在于, 权 利 要 求 书 CN 104364614 A 2 2/3 页 3 在上述 (d3) 工序中, 上述突出销的前端部的高度比上述下金属模具的上表面的高度 高, 由此, 在上述 (d4) 工序中, 在上述封闭体的下表面形成底面比上述封闭体的下表面向 内部进入的凹部。 6. 根据权利要求 1 所述的流量传感器的制造方法, 其特征在于, 在上述 (d3) 工序中, 上述突出销的前端部的高度比上述下金属模具的上表面的高度 低, 由此, 在上述 (d4) 工序中, 在上述封闭体的下表面形成第二凸形状部。 7. 根据权利要求 1 所述的流量传感器的制造方法, 其特征在于, 在。
9、与在露出的上述流量检测部上流动的气体的前进方向并行的任意剖面中, 上述突出 销设在上述第一半导体芯片的一端部与上述封闭体的外壁之间。 8. 根据权利要求 1 所述的流量传感器的制造方法, 其特征在于, 在与在露出的上述流量检测部上的气体的前进方向并行的任意剖面中, 上述突出销不 与上述第一芯片搭载部重合地设在上述第一芯片搭载部的外侧区域。 9. 根据权利要求 1 所述的流量传感器的制造方法, 其特征在于, 上述第一半导体芯片还具有控制上述流量检测部的控制电路部。 10. 根据权利要求 1 所述的流量传感器的制造方法, 其特征在于, 还具备(e)工序, 在上述(c)工序前, 准备具有控制上述流量。
10、检测部的控制电路部的第 二半导体芯片, 在上述 (a) 工序中准备的上述基材具有第二芯片搭载部, 上述 (c) 工序在上述第二芯片搭载部上搭载上述第二半导体芯片, 上述 (d) 工序由上述封闭体封闭上述第二半导体芯片, 上述 (d2) 工序一边通过将上述上金属模具的底面按压在上述第一半导体芯片上, 形 成包围上述流量检测部的上述第一空间, 一边利用上述上金属模具与上述下金属模具隔着 上述第二空间夹入搭载了上述第一半导体芯片及上述第二半导体芯片的上述基材。 11. 一种流量传感器, 其特征在于, 具有 : (a) 第一芯片搭载部 ; 以及 (b) 配置在上述第一芯片搭载部上的第一半导体芯片, 上。
11、述第一半导体芯片具有 : (b1) 形成在上述第一半导体基板的主面上的流量检测部 ; 以及 (b2) 形成在上述第一半导体基板的与上述主面相反侧的背面中、 与上述流量检测部相 对的区域的隔膜, 在使形成在上述第一半导体芯片上的上述流量检测部露出的状态下, 由包括树脂的封 闭体封闭上述第一半导体芯片的一部分, 在与在露出的上述流量检测部上流动的气体的前进方向并行的任意剖面中, 在上述封 闭体的下表面中、 不与上述第一半导体芯片重合地在与上述第一半导体芯片的外侧区域对 应的区域形成凹部或凸部。 12. 根据权利要求 11 所述的流量传感器, 其特征在于, 上述第一半导体芯片还具有控制上述流量检测部。
12、的控制部。 13. 根据权利要求 11 所述的流量传感器, 其特征在于, 还具备 : 权 利 要 求 书 CN 104364614 A 3 3/3 页 4 (c) 第二芯片搭载部 ; 以及 (d) 配置在上述第二芯片搭载部上的第二半导体芯片, 上述第二半导体芯片具有上述控制部, 该控制部形成在第二半导体基板的主面上, 且 控制上述流量检测部, 上述第二半导体芯片由上述封闭体封闭。 14. 根据权利要求 11 所述的流量传感器, 其特征在于, 在上述第一芯片搭载部与上述第一半导体芯片之间插入有板状结构体。 权 利 要 求 书 CN 104364614 A 4 1/25 页 5 流量传感器及其制造。
13、方法 技术领域 0001 本发明涉及流量传感器及其制造方法, 尤其涉及对树脂封闭型的流量传感器及其 制造技术有效的技术。 背景技术 0002 在日本特开 2004-74713 号公报 ( 专利文献 1) 中, 作为半导体包装的制造方法, 公 开了通过设置了脱模薄膜板的金属模具夹紧部件, 并使树脂流入的技术。 0003 现有技术文献 0004 专利文献 0005 专利文献 1 : 日本特开 2004-74713 号公报 发明内容 0006 发明所要解决的课题 0007 例如, 以往在汽车等内燃机关中设有电子控制燃料喷射装置。该电子控制燃料喷 射装置通过适当地调整流入内燃机关中的气体 ( 空气 )。
14、 与燃料的量, 具有有效地使内燃机 关进行工作的作用。 因此, 在电子控制燃料喷射装置中, 需要正确地把握流入内燃机关的气 体 ( 空气 )。因此, 在电子控制燃料喷射装置上设有测定气体 ( 空气 ) 的流量的流量传感器 ( 气流传感器 )。 0008 即使在流量传感器中, 尤其利用半导体微机械加工技术制造的流量传感器能够减 小成本, 并且能够以低电力驱动, 因此备受瞩目。 这种流量传感器例如在由硅构成的半导体 基板的背面形成由各向异性蚀刻形成的隔膜 ( 薄板部 ), 在与该隔膜相对的半导体基板的 表面形成由发热电阻与测温电阻构成的流量检测部。 0009 在实际的流量传感器中, 例如除了形成隔。
15、膜及流量检测部的第一半导体芯片外, 还具有形成控制流量检测部的控制电路部的第二半导体芯片。 上述第一半导体芯片及第二 半导体芯片例如搭载在基板上, 与形成在基板上的配线 ( 端子 ) 电连接。具体地说, 例如第 一半导体芯片利用由金属线构成的金属丝与形成在基板上的配线连接, 第二半导体芯片使 用形成在第二半导体芯片上的冲击电极, 与形成在基板上的配线连接。 这样, 搭载在基板上 的第一半导体芯片与第二半导体芯片通过形成在基板上的配线电连接。其结果, 能利用形 成在第二半导体芯片上的控制电路部控制形成在第一半导体芯片上的流量检测部, 从而构 成流量传感器。 0010 此时, 连接第一半导体芯片与。
16、基板的金属线 ( 金属丝 ) 为了防止由变形引起的接 触等, 通常由浇注树脂固定。即, 金属线 ( 金属丝 ) 由浇注树脂覆盖并固定, 利用该浇注树 脂, 保护金属线 ( 金属丝 )。另一方面, 构成流量传感器的第一半导体芯片及第二半导体芯 片通常未由浇注树脂封闭。即, 在通常的流量传感器中, 呈只有金属线 ( 金属丝 ) 由浇注树 脂覆盖的结构。 0011 在此, 金属线 ( 金属丝 ) 的利用浇注树脂的固定由于在未由金属模具等固定第一 说 明 书 CN 104364614 A 5 2/25 页 6 半导体芯片的状态下进行, 因此, 存在由于浇注树脂的收缩, 第一半导体芯片从搭载位置偏 离的。
17、问题。 另外, 浇注树脂通过滴下而形成, 因此, 存在浇注树脂的尺寸精度下降的问题。 其 结果, 每个流量传感器在形成有流量检测部的第一半导体芯片的搭载位置产生偏离, 并且 浇注树脂的形成位置也微妙地不同, 各流量传感器的检测性能产生偏差。 因此, 为了控制各 流量传感器的性能偏差, 需要对每个流量传感器进行检测性能的修正, 产生追加流量传感 器的制造工序的性能修正工序的必要性。尤其当性能修正工序变长时, 流量传感器的制造 工序的吐吞量下降, 还存在流量传感器的成本上升的问题点。 另外, 浇注树脂未进行利用加 热的固化促进, 因此, 浇注树脂到固化的时间变长, 流量传感器的制造工序的吞吐量下降。
18、。 0012 本发明的目的在于提供能够抑制每个流量传感器的性能偏差且实现性能提高 ( 也包括提高可靠性且实现性能提高的场合 ) 的技术。 0013 本发明的上述及其他目的与新的特征从本说明书的记述及附图中变得明确。 0014 用于解决课题的方法 0015 如下那样简单地说明在本申请中公开的、 作为代表技术的概要。 0016 例如, 代表的实施方式的流量传感器在与在露出的流量检测部上流动的气体的前 进方向并行的任意剖面中, 通过使不与半导体芯片重合地配置在半导体芯片的外侧区域的 突出销从下金属模具突起, 使封闭体从下金属模具脱离。 0017 发明效果 0018 如下简单地说明由在本申请中公开的发。
19、明中、 作为代表的技术得到的效果。 0019 能够抑制每个流量传感器的性能偏差且实现性能提高。 附图说明 0020 图 1 是表示实施方式一的流量传感器的电路结构的电路方框图。 0021 图 2 是表示构成实施方式一的流量传感器的一部分的半导体芯片的布局结构的 俯视图。 0022 图 3 是表示第一相关技术的流量传感器的结构的剖视图。 0023 图 4 是表示对第一相关技术的流量传感器进行树脂封闭的工序的剖视图。 0024 图 5 是表示使用第二相关技术实施树脂封闭工序的样式的剖视图。 0025 图 6 是表示第二相关技术的脱模工序的剖视图。 0026 图 7(a) 是表示实施方式一的流量传感。
20、器的安装结构的俯视图, (b) 是由 (a) 的 A-A 线剖切的剖视图, (c) 是表示半导体芯片的背面的俯视图。 0027 图 8(a) 是表示实施方式一的流量传感器的安装结构的俯视图, (b) 是由 (a) 的 A-A 线剖切的剖视图, (c) 是由 (a) 的 B-B 线剖切的剖视图。 0028 图 9 是从背面侧观察实施方式一的流量传感器的俯视图。 0029 图 10 是表示实施方式一的流量传感器的制造工序的剖视图。 0030 图 11 是表示紧接着图 10 的流量传感器的制造工序的剖视图。 0031 图 12 是表示紧接着图 11 的流量传感器的制造工序的剖视图。 0032 图 1。
21、3 是表示紧接着图 12 的流量传感器的制造工序的剖视图。 0033 图 14 是表示实施方式一的流量传感器的制造工序的剖视图。 0034 图 15 是表示紧接着图 14 的流量传感器的制造工序的剖视图。 说 明 书 CN 104364614 A 6 3/25 页 7 0035 图 16 是表示紧接着图 15 的流量传感器的制造工序的剖视图。 0036 图 17 是表示紧接着图 16 的流量传感器的制造工序的剖视图。 0037 图 18 是表示图 16 中的区域的放大图的一例的图。 0038 图 19 是表示图 16 中的区域的放大图的另一例的图。 0039 图 20 是表示实施方式一的流量传。
22、感器的结构的剖视图。 0040 图 21(a) (e) 是表示由突出销产生的痕迹的一例的剖视图。 0041 图 22 是从背面侧观察变形例一的流量传感器的俯视图。 0042 图 23(a) 是表示变形例二的树脂封闭后的流量传感器的结构的俯视图, (b) 是由 (a) 的 A-A 线剖切的剖视图, (c) 是由 (a) 的 B-B 线剖切的剖视图。 0043 图 24(a) 是表示实施方式二的流量传感器的安装结构的俯视图, (b) 是由 (a) 的 A-A 线剖切的剖视图, (c) 是由 (a) 的 B-B 线剖切的剖视图。 0044 图 25 是从背面侧观察实施方式二的流量传感器的俯视图。 具。
23、体实施方式 0045 在以下的实施方式中, 在需要方便时, 分割为多个区域或实施方式进行说明, 但除 了特别明示的场合, 这些并不是互相无关, 存在一方或另一方的一部分或全部变形例、 详 细、 补充说明等关系。 0046 另外, 在以下的实施方式中, 在言及要素的数量等 ( 包括个数、 数值、 量、 范围等 ) 的场合, 除了特别明示的场合及理论上明确地被限定为特定的个数的场合等, 未限定于该 特定的数量, 可以是特定数以上或以下。 0047 另外, 在以下的实施方式中, 其构成要素(也包括要素步骤等)除了特别明示的场 合及理论上认为必须的场合等, 未必是必须的。 0048 同样地, 在以下的。
24、实施方式中, 在言及结构要素等的形状、 位置关系等时, 除了特 别明示的场合及在理论上认为不明确的场合等, 包括实质上近似或类似其形状等的要素 等。这种情况对上述数值及范围也相同。 0049 另外, 在用于说明实施方式的全部图中, 对相同的部件原则上标注相同的符号, 并 省略其重复的说明。另外, 为了使附图容易明白, 存在即使是俯视图, 也标注阴影的场合。 0050 ( 实施方式一 ) 0051 流量传感器的电路结构 0052 首先, 说明流量传感器的电路结构。图 1 是表示本实施方式一的流量传感器的电 路结构的电路方框图。在图 1 中, 本实施方式一的流量传感器首先具有用于控制流量传感 器的。
25、CPU(Central Processing Unit)1, 另外, 具有用于向该CPU1输入输入信号的输入电路 2、 以及用于输出来自 CPU1 的输出信号的输出电路 3。并且, 在流量传感器中设有存储数据 的存储器 4, CPU1 访问存储器 4, 能够参照存储在存储器 4 中的数据。 0053 接着, CPU1 通过输出电路 3 与晶体管 Tr 的基体电极连接。并且, 该晶体管 Tr 的 集电极连接在电源 P 上, 晶体管 Tr 的发射电极通过发热电阻 HR 连接在接地 (GND) 上。因 此, 晶体管 Tr 由 CPU1 控制。即, 晶体管 Tr 的基体电极通过输出电路 3 连接在 C。
26、PU1 上, 因 此, 将来自 CPU1 的输出信号输入晶体管 Tr 的基体电极。 0054 其结果, 利用来自 CPU1 的输出信号 ( 控制信号 ) 控制流过晶体管 Tr 的电流。当 说 明 书 CN 104364614 A 7 4/25 页 8 通过来自 CPU1 的输出信号, 流经晶体管 Tr 的电流变大时, 从电源 PS 供给到发热电阻 HR 的 电流变大, 发热电阻 HR 的加热量变大。 0055 另一方面, 当由于来自 CPU1 的输出信号, 流经晶体管 Tr 的电流变小时, 供给到发 热电阻 HR 的电流变少, 发热电阻 HR 的加热量减少。 0056 这样在本实施方式一的流量。
27、传感器中, 利用CPU1控制流经发热电阻HR的电流量, 由此, 由 CPU1 控制来自发热电阻 HR 的发热量。 0057 接着, 在本实施方式一的流量传感器中, 为了利用CPU1控制流经发热电阻HR的电 流, 设有加热器控制电桥 HCB。该加热器控制电桥 HCB 检测从发热电阻 HR 释放的发热量, 向输入电路 2 输出该检测结果。其结果, CPU1 能够输入来自加热器控制电桥 HCB 的检测结 果, 据此, 控制流经晶体管 Tr 的电流。 0058 具体地说, 如图 1 所示, 加热器控制电桥 HCB 在参照电压 Vref1 与接地 (GND) 之间 具有构成电桥的电阻 R1 电阻 R4。。
28、在这样构成的加热器控制电桥 HCB 中, 由发热电阻 HR 加热的气体比进气温度只高一定温度(T、 例如100)的场合, 以节点A的电位与节点B 的电位的电位差为 0 的方式, 设定电阻 R1 电阻 R4 的阻值。即, 构成加热器控制电桥 HCB 的电阻 R1 电阻 R4 以串联连接电阻 R1 与电阻 R3 的结构要素和串联连接电阻 R2 与电阻 R4 的结构要素在参照电压 Vref1 和接地 (GND) 之间并联连接的方式构成电桥。并且, 电阻 R1 与电阻 R3 的连接点为节点 A, 电阻 R2 与电阻 R4 的连接点为节点 B。 0059 此时, 由发热电阻 HR 加热的气体与构成加热器。
29、控制电桥 HCB 的电阻 R1 接触。因 此, 利用来自发热电阻 HR 的发热量, 构成加热器控制电桥 HCB 的电阻 R1 的阻值主要变化。 当电阻 R1 的阻值这样变化时, 节点 A 与节点 B 之间的电位差变化。该节点 A 与节点 B 的电 位差通过输入电路 2 输入到 CPU1, 因此, CPU1 根据节点 A 与节点 B 的电位差, 控制流经晶体 管 Tr 的电流。 0060 具体地说, CPU1以节点A与节点B之间的电位差为0的方式控制流经晶体管Tr的 电流, 从而控制来自发热电阻 HR 的发热量。即, 在本实施方式一的流量传感器中, CPU1 根 据加热器控制电桥HCB的输出, 。
30、以由发热电阻HR加热的气体保持为比进气温度只高某一定 温度 ( T、 例如 100 ) 的一定值的方式进行反馈控制。 0061 接着, 本实施方式一的流量传感器具有用于检测气体的流量的温度传感器电桥 TSB。该温度传感器电桥 TSB 由在参照电压 Vref2 与接地 (GND) 之间构成电桥的四个测温 电阻构成。该四个测温电阻由两个上游测温电阻 UR1、 UR2、 两个下游测温电阻 BR1、 BR2 构 成。 0062 即, 图 1 的箭头方向表示气体流动的方向, 在该气体流动的方向的上游侧设有上 游测温电阻 UR1、 UR2, 在下游侧设有下游测温电阻 BR1、 BR2。这些上游测温电阻 U。
31、R1、 UR2 及 下游测温电阻 BR1、 BR2 以到发热电阻 HR 的距离相同的方式配置。 0063 在温度传感器电桥 TSB 中, 在参照电压 Vref2 与接地 (GND) 之间串联连接上游测 温电阻UR1与下游测温电阻BR1, 该上游测温电阻UR1与下游测温电阻BR1的连接点为节点 C。 0064 另一方面, 在接地 (GND) 与参照电压 Vref2 之间串联连接上游测温电阻 UR2 与下 游测温电阻 BR2, 该上游测温电阻 UR2 与下游测温电阻 BR2 的连接点为节点 D。并且, 节点 C 的电位与节点 D 的电位通过输入电路 2 输入 CPU1。并且, 以在沿箭头方向流动的。
32、气体流 说 明 书 CN 104364614 A 8 5/25 页 9 量为 0 的无风状态时, 节点 C 的电位与节点 D 的电位的差电位为 0V 的方式设定上游测温电 阻 UR1、 UR2 与下游测温电阻 BR1、 BR2 的各阻值。 0065 具体地说, 上游测温电阻 UR1、 UR2 与下游测温电阻 BR1、 BR2 以距发热电阻 HR 的距 离相等, 并且阻值也相等的方式构成。因此, 在温度传感器电桥 TSB 中, 构成为, 不论发热电 阻 HR 的发热量, 只要是无风状态, 则节点 C 与节点 D 的差电位为 0V。 0066 流量传感器的动作 0067 本实施方式一的流量传感器如。
33、上所述那样构成, 以下参照图 1 说明其动作。首先, CPU1 通过输出电路 3 向晶体管 Tr 的基体电极输出输出信号 ( 控制信号 ), 使电流流经晶体 管 Tr。于是, 电流从连接在晶体管 Tr 的集电极的电源 PS 流向连接在晶体管 Tr 的发射电极 的发热电阻 HR。因此, 发热电阻 HR 发热。并且, 由来自发热电阻 HR 的发热而变暖的气体加 热构成加热器控制电桥 HCB 的电阻 R1。 0068 此时, 以在由发热电阻HR而变暖的气体升温一定温度(例如100)的场合, 加热 器控制电桥 HCB 的节点 A 与节点 B 的差电位为 0V 的方式, 设定电阻 R1 R4 的各阻值。。
34、因 此, 例如在由发热电阻 HR 而变暖的气体升温一定温度 ( 例如 100 ) 的场合, 加热器控制 电桥 HCB 的节点 A 与节点 B 之间的差电位为 0V, 该差电位 (0V) 通过输入电路 2 输入 CPU1。 并且, 识别了来自加热器控制电桥 HCB 的差电位为 0V 的 CPU1 通过输出电路 3 向晶体管 Tr 的基体电极输出用于维持现状的电流量的输出信号 ( 控制信号 )。 0069 另一方面, 在由发热电阻HR而变暖的气体偏离一定温度(例如100)的场合, 在 加热器控制电桥 HCB 的节点 A 与节点 B 之间产生不是 0V 的差电位, 该差电位通过输入电路 2 输入 C。
35、PU1。并且, 识别了产生来自加热器控制电桥 HCB 的差电位的 CPU1 通过输出电路 3 向晶体管 Tr 的基体电极输出差电位变为 0V 的输出信号 ( 控制信号 )。 0070 例如, 在产生由发热电阻 HR 而变暖的气体升温比一定温度 ( 例如 100 ) 高的方 向的差电位的场合, CPU1 将流经晶体管 Tr 的电流减少的控制信号 ( 输出信号 ) 向晶体管 Tr的基体电极输出。 相对于此, 在产生由发热电阻HR而变暖的气体升温比一定温度(例如 100 ) 低的方向的差电位的场合, CPU1 将流经晶体管 Tr 的电流增加的控制信号 ( 输出信 号 ) 向晶体管 Tr 的基体电极输。
36、出。 0071 如上所述, CPU1 以加热器控制电桥 HCB 的节点 A 与节点 B 之间的差电位为 0V( 平 衡状态)的方式, 根据来自加热器控制电桥HCB的输出信号, 进行反馈控制。 因此可知, 在本 实施方式一的流量传感器中, 以由发热电阻 HR 而变暖的气体为一定温度的方式进行控制。 0072 接着, 对测定本实施方式一的流量传感器中的气体的流量的动作进行说明。 首先, 对无风状态的场合进行说明。以在沿箭头方向流动的气体的流量是零的无风状态时, 温度 传感器电桥 TSB 的节点 C 的电位与节点 D 的电位的差电位为 0V 的方式, 设定上游测温电阻 UR1、 UR2 与下游测温电。
37、阻 BR1、 BR2 的各阻值。 0073 具体地说, 上游测温电阻 UR1、 UR2 与下游测温电阻 BR1、 BR2 构成为距发热电阻 HR 的距离相等, 并且, 阻值也相等。因此, 在温度传感器电桥 TSB 中, 不论发热电阻 HR 的发热 量, 只要是无风状态, 则节点C与节点D的差电位为0V, 该差电位(0V)通过输入电路2输入 CPU1。并且, 识别了来自温度传感器电桥 TSB 的差电位是 0V 的 CPU1 识别为沿箭头方向流 动的气体的流量是零, 通过输出电路 3 将表示气体流量 Q 是零的输出信号从本实施方式一 的流量传感器输出。 说 明 书 CN 104364614 A 9。
38、 6/25 页 10 0074 接着, 考虑气体沿图1的箭头方向流动的场合。 在该场合, 如图1所示, 配置在气体 流动的方向的上游侧的上游测温电阻 UR1、 UR2 由沿箭头方向流动的气体冷却。因此, 上游 测温电阻 UR1、 UR2 的温度下降。相对于此, 配置在气体流动的方向的下游侧的下游测温电 阻 BR1、 BR2 由于由发热电阻 HR 而变暖的气体流向下游测温电阻 BR1、 BR2, 因此温度上升。 其结果, 温度传感器电桥 TSB 的平衡被破坏, 在温度传感器电桥 TSB 的节点 C 与节点 D 之间 产生不是零的差电位。 0075 将该差电位通过输入电路 2 输入 CPU1。并且。
39、, 识别了来自温度传感器电桥 TSB 的 差电位不是零的 CPU1 识别沿箭头方向流动的气体的流量不是零。之后, CPU1 访问存储器 4。 存储器4存储使差电位与气体流量对应的对比表(工作表), 因此, 访问存储器4的CPU1 从存储在存储器 4 中的对比表计算气体流量 Q。这样, 由 CPU1 计算的气体流量 Q 通过输出 电路 3 从本实施方式一的流量传感器输出。如上所述, 根据本实施方式一的流量传感器, 能 求出气体的流量。 0076 流量传感器的布局结构 0077 接着, 对本实施方式一的流量传感器的布局结构进行说明。例如, 图 1 所示的本实 施方式一的流量传感器形成在两个半导体芯。
40、片上。具体地说, 发热电阻 HR、 加热器控制电 桥 HCB 及温度传感器电桥 TSB 形成在一个半导体芯片上, CPU1、 输入电路 2、 输出电路 3 及 存储器 4 等形成在另一个半导体芯片上。以下, 对形成有发热电阻 HR、 加热器控制电桥 HCB 及温度传感器电桥 TSB 的半导体芯片的布局结构进行说明。 0078 图 2 是表示构成本实施方式一的流量传感器的一部分的半导体芯片 CHP1 的布局 结构的俯视图。 首先, 如图2所示, 半导体芯片CHP1呈矩形形状, 气体从该半导体芯片CHP1 的左侧向右侧 ( 箭头方向 ) 流动。并且, 如图 2 所示, 在呈矩形形状的半导体芯片 C。
41、HP1 的 背面侧形成矩形形状的隔膜 DF。隔膜 DF 表示使半导体芯片 CHP1 的厚度变薄的薄板区域。 即, 形成有隔膜 DF 的区域的厚度比其他半导体芯片 CHP1 的区域的厚度薄。 0079 如图 2 所示, 在这样形成有隔膜 DF 的背面区域所相对的半导体芯片 CHP1 的表面 区域形成流量检测部 FDU。具体地说, 在该流量检测部 FDU 的中央部形成发热电阻 HR, 在该 发热电阻HR的周围形成构成加热器控制电桥的电阻R1。 并且, 在流量检测部FDU的外侧形 成构成加热器控制电桥的电阻 R2 R4。利用这样形成的电阻 R1 R4, 构成加热器控制电 桥。 0080 特别地, 构。
42、成加热器控制电桥的电阻 R1 形成在发热电阻 HR 的附近, 因此, 能够高 精度地将由来自发热电阻 HR 的发热而变暖的气体的温度反映在电阻 R1 上。 0081 另一方面, 构成加热器控制电桥的电阻 R2 R4 离开发热电阻 HR 地配置, 因此, 能 够难以受到来自发热电阻 HR 的发热的影响。 0082 因此, 电阻 R1 能够对由发热电阻 HR 而变暖的气体的温度敏感地进行反应, 并且, 电阻 R2 R4 难以受到发热电阻 HR 的影响, 容易将阻值维持为一定值。因此, 能够提高加 热器控制电桥的检测精度。 0083 另外, 以夹住形成在流量检测部 FDU 上的发热电阻 HR 的方式。
43、配置上游测温电阻 UR1、 UR2 与下游测温电阻 BR1、 BR2。具体地说, 在气体流动的箭头方向的上游侧形成上游测 温电阻 UR1、 UR2, 在气体流动的箭头方向的下游侧形成下游测温电阻 BR1、 BR2。 0084 通过这样构成, 在气体沿箭头方向流动的场合, 能够降低上游测温电阻 UR1、 UR2 说 明 书 CN 104364614 A 10 7/25 页 11 的温度, 并且, 能够使下游测温电阻 BR1、 BR2 的温度上升。利用这样配置在流量检测部 FDU 上的上游测温电阻 UR1、 UR2 及下游测温电阻 BR1、 BR2, 形成温度传感器电桥。 0085 上述发热电阻 。
44、HR、 上游测温电阻 UR1、 UR2 及下游测温电阻 BR1、 BR2 在例如利用溅 射法或CVD(Chemical Vapor Deposition)法等方法形成白金(铂)等金属膜或多晶硅(多 结晶硅 ) 等半导体薄膜后, 通过利用离子蚀刻等方法形成图案。 0086 这样构成的发热电阻 HR、 构成加热器控制电桥的电阻 R1 R4 及构成温度传感器 电桥的上游测温电阻 UR1、 UR2 与下游测温电阻 BR1、 BR2 分别与配线 WL1 连接, 被引出至沿 半导体芯片 CHP1 的下边配置的焊垫 PD1。 0087 如上所述, 构成本实施方式一的流量传感器的一部分的半导体芯片 CHP1 。
45、形成布 局结构。实际的流量传感器具有形成有发热电阻 HR、 加热器控制电桥 HCB 及温度传感器电 桥 TSB 的一个半导体芯片、 形成 CPU1、 输入电路 2、 输出电路 3 及存储器 4 等的另一个半导 体芯片, 呈将这些半导体芯片安装在基板上的结构。 0088 以下, 首先对涉及流量传感器的安装结构的相关技术进行说明, 之后, 说明该相关 技术具有的问题点。其次, 说明实施了解决相关技术具有的问题点的努力的本实施方式一 的流量传感器的安装结构。 0089 相关技术的说明 0090 图3是表示第一相关技术的流量传感器FSP的结构的剖视图。 如图3所示, 第一相 关技术的流量传感器 FSP。
46、 在芯片搭载部 TAB1 上具有半导体芯片 CHP1, 该半导体芯片 CHP1 以粘接材料 ADH1 粘接在芯片搭载部 TAB1 上。在半导体芯片 CHP1 的主面 ( 上面、 表面 ) 上 形成流量检测部 FDU, 在半导体芯片 CHP1 的背面中、 与流量检测部 FDU 相对的位置形成隔 膜 ( 薄板部 )DF。并且, 在第一相关技术的流量传感器 FSP 中, 半导体芯片 CHP1 的一部分 及芯片搭载部 TAB1 的一部分由包括树脂 MR 的封闭体封闭。具体地说, 在第一相关技术的 流量传感器 FSP 中, 以一边使形成在半导体芯片 CHP1 的上表面的流量检测部 FDU 露出, 一 边。
47、覆盖半导体芯片 CHP1 的侧面及上表面的一部分的方式形成树脂 MR。此时, 在第一相关 技术的流量传感器 FSP 中, 半导体芯片 CHP1 的上表面 SUR(CHP) 的高度比树脂 MR 的上表面 SUR(MR) 高度低。换言之, 树脂 MR 的上表面 SUR(MR) 的高度也能够比半导体芯片 CHP1 的上 表面 SUR(CHP) 的高度高。 0091 这样构成的第一相关技术的流量传感器 FSP 例如由图 4 所示的制造工序树脂封 闭。图 4 是表示对第一相关技术的流量传感器 FSP 进行树脂封闭的工序的剖视图。 0092 如图 4 所示, 利用粘接材料 ADH1 将半导体芯片 CHP1。
48、 固定在形成在引线架 LF 上的 芯片搭载部 TAB1 上。并且, 利用上金属模具 UM 与下金属模具 BM 隔着第二空间夹入搭载了 半导体芯片 CHP1 的引线架 LF。之后, 在加热下, 通过使树脂 MR 流入该第二空间, 利用树脂 MR 封闭半导体芯片 CHP1 的一部分。 0093 此时, 如图 4 所示, 隔膜 DF 的内部空间由粘接材料 ADH1 与上述第二空间隔离, 因 此, 在利用树脂 MR 填充第二空间时, 也能够防止树脂 MR 进入隔膜 DF 的内部空间。 0094 另外, 在上金属模具 UM 上以确保包围形成在半导体芯片 CHP1 的上表面 SUR(CHP) 的流量检测部。
49、 FDU 的第一空间 SP1( 密封空间 ) 的方式形成凹部。因此, 当将上金属模具 UM 按压到半导体芯片 CHP1 上时, 利用形成在上金属模具 UM 上的凹部确保包围形成在半导体 芯片CHP1上的流量检测部FDU及其附近区域的第一空间SP1(密封空间), 并且例如能够封 说 明 书 CN 104364614 A 11 8/25 页 12 闭半导体芯片 CHP1 的侧面及上表面的一部分。即, 根据第一相关技术, 能够使形成在半导 体芯片 CHP1 上的流量检测部 FDU 及其附近区域露出, 并且封闭半导体芯片 CHP1 的一部分。 0095 在此, 在第一相关技术中, 如图 4 所示, 使弹性体薄膜 LAF 介于搭载了半导体芯片 CHP1 的引线架 LF 与上金属模具 UM 之间。由此, 例如在半导体芯片 CHP1 的厚度比平均的 厚度。