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1、(10)申请公布号 CN 104266896 A (43)申请公布日 2015.01.07 CN 104266896 A (21)申请号 201410491807.X (22)申请日 2014.09.23 G01N 1/44(2006.01) (71)申请人 山东科技大学 地址 266590 山东省青岛市经济技术开发区 前湾港路 579 号 (72)发明人 丁建旭 崔洪芝 谷亦杰 孙海清 徐国纲 刘蕾 (74)专利代理机构 北京科亿知识产权代理事务 所 ( 普通合伙 ) 11350 代理人 汤东凤 (54) 发明名称 一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中 材料的热台 (57) 摘要 本发明公。
2、开了一种用于电子探针显微镜下观 测高温溶液中材料的热台， 它由水浴系统、 微型加 热装置、 微型循环水系统、 低功率溶液温场控制 器、 溶液系统和样品台组成。工作时， 水浴系统 处于满水状态， 通过外设的高精度控温仪设定温 度， 通过微型加热装置对水浴进行加热 ； 同时， 微 型循环水系统启动工作， 使水浴循环， 保证整个水 浴系统温度均匀一致， 并对溶液和样品进行加热 ； 低功率溶液温场控制器用以实现溶液温度的均匀 一致。 本发明可以实现在高温溶液内， 对材料表面 进行电子探针观测， 从而解决了在高温溶液中合 成材料或晶体生长时进行实时观测， 所观测的结 果更符合材料合成或晶体生长时的现象。。
3、 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 1 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 (10)申请公布号 CN 104266896 A CN 104266896 A 1/1 页 2 1. 一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料的热台， 其特征在于， 它由水浴系 统、 微型加热装置、 微型循环水系统、 低功率溶液温场控制器、 溶液系统和样品台组成 ； 微型加热装置由加热元件、 传感器和温度控制器组成， 加热元件、 传感器安装于水浴系 统内部， 温度控制器通过外接线路安装于水浴系统外部 ； 微型循环水系统安。
4、装于水浴系统远离微型加热系统的一侧， 并安装于水浴系统外部 ； 溶液系统安装在水浴系统内部， 样品台安装在溶液系统内部， 并通过水浴进行加热 ； 低功率溶液温场控制器安置在溶液内， 其动力系统安装于水浴系统外部 ； 工作时， 水浴系统处于满水状态， 通过外设的高精度控温仪设定温度， 通过微型加热装 置对水浴进行加热 ； 同时， 微型循环水系统启动工作， 使水浴循环， 保证整个水浴系统温度 均匀一致， 并对溶液和样品进行加热 ； 低功率溶液温场控制器用以实现溶液温度的均匀一 致。 2. 如权利要求 1 所述的一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料的热台， 其特 征在于， 所述微型加热装置 ：。
5、 如果是棒状加热装置， 其高度不得超过水浴系统的高度 ； 如果 是片状加热装置， 其宽度不得超过溶液系统的宽度 ； 微型加热装置可选配安装功率调节器， 并根据实验所需的温度和加热时间控制功率， 传感器和控温仪根据实验需要选择精度。 3. 如权利要求 1 所述的一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料的热台， 其特 征在于， 所述微型循环水系统的功率须保证水浴能够循环， 且对水的扬程控制在 5cm 以内， 以保证微型循环水系统的电机在低功率下工作， 减少对热台的震动干扰。 4. 如权利要求 1 所述的一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料的热台， 其特 征在于， 所述低功率温场控制器的体积。
6、须控制在测试溶液体积的 10以内， 且其功率须保 证溶液温场均匀， 并要求对电子探针无干扰。 5. 如权利要求 1 所述的一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料的热台， 其特 征在于， 所述样品台位于溶液系统内， 所处的高度位置需按照测试材料样品的尺寸进行调 整， 保证所测材料样品的表面处于溶液内。 权 利 要 求 书 CN 104266896 A 2 1/2 页 3 一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料的热台 技术领域 0001 本发明涉及的是一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料的热台。 背景技术 0002 从溶液中合成材料或晶体生长时， 通常的电子探针显微镜提供的热台无法实。
7、现样 品温度与控制温度一致， 尤其是样品的表面温度和控制器设定的温度存在偏差等问题 ； 另 外， 常规的溶液观察装置或液池不具备升温加热功能。 因而， 用于电子探针显微镜观察材料 或晶体界面现象时很难进行高温下实时观测。 发明内容 0003 本发明的目的在于克服现有技术的不足， 提供一种用于电子探针显微镜下实时观 测高温溶液中材料的热台装置。 0004 为了解决背景技术所存在的问题， 本发明采用以下技术方案 ： 0005 一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料的热台， 它由水浴系统、 微型加 热装置、 微型循环水系统、 低功率溶液温场控制器、 溶液系统和样品台组成 ； 0006 微型加热装。
8、置由加热元件、 传感器和温度控制器组成， 加热元件、 传感器安装于水 浴系统内部， 温度控制器通过外接线路安装于水浴系统外部 ； 0007 微型循环水系统安装于水浴系统远离微型加热系统的一侧， 并安装于水浴系统外 部 ； 溶液系统安装在水浴系统内部， 样品台安装在溶液系统内部， 并通过水浴进行加热 ； 0008 低功率溶液温场控制器安置在溶液内， 其动力系统安装于水浴系统外部 ； 0009 工作时， 水浴系统处于满水状态， 通过外设的高精度控温仪设定温度， 通过微型加 热装置对水浴进行加热 ； 同时， 微型循环水系统启动工作， 使水浴循环， 保证整个水浴系统 温度均匀一致， 并对溶液和样品进行。
9、加热 ； 低功率溶液温场控制器用以实现溶液温度的均 匀一致。 0010 进一步的， 所述微型加热装置 ： 如果是棒状加热装置， 其高度不得超过水浴系统的 高度 ； 如果是片状加热装置， 其宽度不得超过溶液系统的宽度 ； 微型加热装置可选配安装 功率调节器， 并根据实验所需的温度和加热时间控制功率， 传感器和控温仪根据实验需要 选择精度。 0011 进一步的， 所述微型循环水系统的功率须保证水浴能够循环， 且对水的扬程控制 在 5cm 以内， 以保证微型循环水系统的电机在低功率下工作， 减少对热台的震动干扰。 0012 进一步的， 所述低功率温场控制器的体积须控制在测试溶液体积的 10以内， 且。
10、 其功率须保证溶液温场均匀， 并要求对电子探针无干扰。 0013 进一步的， 所述样品台位于溶液系统内， 所处的高度位置需按照测试材料样品的 尺寸进行调整， 保证所测材料样品的表面处于溶液内。 0014 本发明对比现有技术有如下的有益效果 ： 本发明可以实现在高温溶液内， 对材料 表面进行电子探针观测， 从而解决了在高温溶液中合成材料或晶体生长时进行实时观测， 说 明 书 CN 104266896 A 3 2/2 页 4 所观测的结果更符合材料合成或晶体生长时的现象。 附图说明 0015 图 1 为本发明组成结构示意图。 具体实施方式 0016 下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步描述 。
11、： 0017 图 1 为本发明组成结构示意图。一种用于电子探针显微镜下观测高温溶液中材料 的热台， 它由水浴系统 5、 微型加热装置 1、 微型循环水系统 2、 低功率溶液温场控制器 3、 溶 液系统和样品台 4 组成 ； 微型加热装置由加热元件、 传感器和温度控制器组成， 加热元件、 传感器安装于水浴系统内部， 温度控制器通过外接线路 ( 图中由曲线表示 ) 安装于水浴系 统外部 ； 微型循环水系统安装于水浴系统远离微型加热系统的一侧， 并安装于水浴系统外 部 ； 溶液系统安装在水浴系统内部， 样品台安装在溶液系统内部， 并通过水浴进行加热 ； 低 功率溶液温场控制器安置在溶液内， 其动力系。
12、统安装于水浴系统外部。 0018 本装置在工作状态时， 水浴系统 5 处于满水状态， 通过外设的高精度控温仪设定 温度， 通过微型加热装置 1 对水浴进行加热 ； 同时， 微型循环水系统 2 启动工作， 使水浴循 环， 保证整个水浴系统温度均匀一致， 并对溶液和样品进行加热。 为保证溶液内部温度和溶 液表面温度均匀， 低功率溶液温场控制器可以实现溶液温度的均匀一致。 0019 以上所述仅为本发明的较佳实施例而已， 并不用以限制本发明， 凡在本发明的精 神和原则之内所作的任何修改、 等同替换和改进等， 均应包含在本发明的保护范围之内。 说 明 书 CN 104266896 A 4 1/1 页 5 图 1 说 明 书 附 图 CN 104266896 A 5 。