三维测量装置.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201210022404.1

申请日:

2012.02.01

公开号:

CN102628677A

公开日:

2012.08.08

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||专利申请权的转移IPC(主分类):G01B 11/25变更事项:申请人变更前权利人:索尼公司变更后权利人:重机自动化系统有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本东京变更后权利人:日本东京登记生效日:20140922|||实质审查的生效IPC(主分类):G01B 11/25申请日:20120201|||公开

IPC分类号:

G01B11/25

主分类号:

G01B11/25

申请人:

索尼公司

发明人:

外丸匠

地址:

日本东京

优先权:

20110201 JP 2011-019431

专利代理机构:

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人:

余刚;吴孟秋

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内容摘要

本发明提供了一种三维测量装置,包括:投影单元,其将条纹投射至可投影区,该可投影区是向测量对象作垂线时测量对象上的交点的外围区域;拍摄单元,包括可投影区中的多个拍摄区,投射有条纹的测量对象在多个拍摄区中被拍摄;以及控制单元,基于利用拍摄单元拍摄的图像,执行对测量对象进行的三维测量的处理。

权利要求书

1.一种三维测量装置,包括:
投影单元,所述投影单元将条纹投射至可投影区,所述可投影
区是向测量对象作垂线时所述测量对象上的交点的外围区域;
拍摄单元,所述拍摄单元包括所述可投影区中的多个拍摄区,
投射有所述条纹的所述测量对象在所述多个拍摄区中被拍摄;以及
控制单元,所述控制单元基于通过所述拍摄单元拍摄的图像,
执行对所述测量对象进行的三维测量的处理。
2.根据权利要求1所述的三维测量装置,进一步包括:
移动单元,所述移动单元移动所述测量对象相对于所述多个拍
摄区的相对位置,
其中,所述控制单元控制所述移动单元对所述相对位置的移
动,使得所述移动单元将所述测量对象中的一个检查区顺次移动至
所述多个拍摄区中的两个以上拍摄区,并且所述控制单元控制所述
拍摄单元,使得每当所述检查区与所述拍摄区的位置吻合,所述拍
摄单元对所述检查区进行拍摄。
3.根据权利要求1所述的三维测量装置,进一步包括:
移动单元,所述移动单元移动所述测量对象相对于所述多个拍
摄区的相对位置,
其中,所述控制单元控制所述移动单元对所述相对位置的移
动,使得所述移动单元将所述测量对象中的两个以上检查区同时移
动至所述多个拍摄区中的两个以上拍摄区,并且所述控制单元控制
所述拍摄单元,使得所述拍摄单元对所述两个以上检查区同时拍摄。
4.根据权利要求2所述的三维测量装置,
其中,所述控制单元在第一模式和第二模式之间切换,在所述
第一模式中,所述控制单元控制所述移动单元对所述相对位置的移
动,使得所述移动单元将所述测量对象中的一个检查区顺次移动至
所述多个拍摄区中的两个以上拍摄区,并且所述控制单元控制所述
拍摄单元,使得每当所述检查区与所述拍摄区的位置吻合,所述拍
摄单元对所述检查区进行拍摄,以及在所述第二模式中,所述控制
单元控制所述移动单元对所述相对位置的移动,使得所述移动单元
将所述测量对象中两个以上检查区同时移动至所述多个拍摄区中的
两个以上拍摄区,并且所述控制单元控制所述拍摄单元,使得所述
拍摄单元对所述两个以上检查区同时拍摄。
5.根据权利要求1所述的三维测量装置,其中,在所述可投影区中,
所述多个拍摄区中的至少一个拍摄区的位置定位在相对于其他拍摄
区成180°±90°的范围内的位置处。
6.根据权利要求5所述的三维测量装置,其中,在所述可投影区中,
所述多个拍摄区中的至少一个拍摄区的位置定位在相对于其他拍摄
区成180°±45°的范围内的位置处。
7.根据权利要求1所述的三维测量装置,其中,在所述可投影区中,
所述多个拍摄区中的至少一个拍摄区定位在偏离0°、±90°和180°的
位置处。
8.根据权利要求1所述的三维测量装置,其中,在所述可投影区中,
所述多个拍摄区中的至少一个拍摄区定位在偏离±45°和±135°的位
置处。
9.根据权利要求1所述的三维测量装置,其中,在所述可投影区中,
所述多个拍摄区中的至少一个拍摄区定位在偏离0°、±45°、±90°、
±135°以及180°的位置处。
10.根据权利要求1所述的三维测量装置,其中,所述多个拍摄区中至
少一个拍摄区与所述可投影区中的所述交点之间的距离不同于其他
拍摄区与所述可投影区中的所述交点之间的距离。
11.根据权利要求1所述的三维测量装置,其中,所述拍摄单元包括与
所述多个拍摄区相对应的多个拍摄部。
12.根据权利要求1所述的三维测量装置,其中,所述拍摄单元包括能
够独自地对所述多个拍摄区中的两个以上拍摄区拍摄的拍摄部。
13.根据权利要求12所述的三维测量装置,进一步包括:
反射单元;以及
驱动单元,所述驱动单元驱动所述反射单元以在第一入射状态
和第二入射状态之间切换,在所述第一入射状态中,来自所述多个
拍摄区之一的光入射在所述拍摄部上,而在所述第二入射状态中,
来自另一拍摄区的光通过所述反射单元引导至所述拍摄部。
14.根据权利要求1所述的三维测量装置,其中,所述投影单元包括遮
光罩,所述遮光罩用于限制条纹的投射,使得所述条纹不投射至所
述可投影区中所述多个拍摄区之外的区域中。

说明书

三维测量装置

技术领域

本发明涉及一种能够使用相位偏移法等对测量对象进行三维测量的
三维测量装置。

背景技术

迄今为止,作为检查诸如印刷基板的测量对象的质量的方法,已经使
用了分析通过对测量对象拍摄获得的图像并且检查该测量对象的质量的
方法。在二维图像分析中,难以检测出测量对象在高度方向上的缺陷(例
如,裂纹和空洞)。由于这个原因,近来采用了通过三维图像分析测量测
量对象的三维形状并且检测该测量对象的质量的方法。

作为通过图像分析测量测量对象的三维形状的方法,广泛地采用作为
一种光学切割法的相位偏移法(时间条纹分析法)(例如,参见日本未审
查专利申请公开第2010-169433号(第[0033]段、第[0042]段至第[0044]
段以及图1))。

日本未审查专利申请公开第2010-169433号(第[0033]段、第[0042]
段至第[0044]段以及图1)中记载的三维测量装置包括印制有焊料的印刷
基板载置在其上的载物台以及从斜面的上方对印刷基板的表面照射条纹
状光图案的照明设备。此外,该三维测量装置进一步包括CCD相机,用
于从印刷基板的正上方拍摄被条纹状光图案照射的部分;以及控制设备,
用于执行图像处理或运算处理。

照明设备通过将光图案的相位移动约1/4节距来用该光图案照射印刷
基板。CCD相机捕获用光图案的相位移动后的光图案所照射的印刷基板
的图像,并获得总共四个图像。控制设备通过对所获得的四个图像进行处
理来利用相位偏移法计算印刷基板的每个坐标的高度。

发明内容

这里,在测量对象(例如,印刷基板)的检查区中,形成诸如从基准
面突起的焊料或从基准面凹入的空洞的检查对象。当用条纹状光图案照射
检查对象时,会在检查对象的表面上形成阴影。进一步,当用条纹状光图
案照射检查对象时,会根据入射到检查对象的光的角度而形成光晕。在这
种情况下,就不能准确地算出检查对象的三维形状。

因此,期望提供一种能够解决阴影或光晕问题的三维测量装置。

根据本发明的一个实施方式,提供了一种三维测量装置,包括:投影
单元、拍摄单元以及控制单元。

投影单元向可投影区投射条纹,该可投影区是向测量对象作垂线时测
量对象上的交点的外围区域。

拍摄单元包括可投影区中的多个拍摄区,其中在该多个拍摄区对投射
有条纹的测量对象进行拍摄。

基于由拍摄单元拍摄的图像,控制单元执行三维测量该测量对象的处
理。

在三维测量装置中,投影单元能够向可投影区投射条纹,该可投影区
是向测量对象作垂线时测量对象上的交点的外围区域。因此,在该实施方
式中,通过投影单元能够将条纹投射到较宽的范围。进一步,该较宽范围
的可投影区被有效地利用,并且在该可投影区中布置多个拍摄区。例如,
通过在该可投影区中适宜地布置多个拍摄区并且在这些拍摄区对测量对
象的检查区进行拍摄,可以解决关于检查区中的检查对象的阴影问题或光
晕问题。可选地,例如,当测量对象具有两个以上检查区时,通过使两个
以上检查区同时定位在两个以上拍摄区中,并且使拍摄单元同时拍摄这些
检查区,可以高速地计算多个检查区的三维形状。

该三维测量装置可以进一步包括移动单元。

该移动单元移动测量对象相对多个拍摄区的相对位置。

在这种情况下,控制单元可控制移动单元对相对位置的移动,使得移
动单元将测量对象中的一个检查区顺次移动至多个拍摄区中的两个以上
拍摄区,并且控制单元控制拍摄单元,使得每当检查区与拍摄区的位置吻
合时,拍摄单元对检查区进行拍摄。

在三维测量装置中,可以移动测量对象相对多个拍摄区的相对位置,
并且可以在各个不同的拍摄区对测量对象中的一个检查区进行拍摄。因
此,通过将拍摄区布置在用于适宜地消除检查对象中的检查区中出现的阴
影的位置处,并且在每个拍摄区对该一个检查区进行拍摄,可以解决阴影
问题。

进一步,在三维测量装置中,可以在各个不同的拍摄区对一个检查区
进行拍摄。例如,当在给定拍摄区对检查区进行拍摄时,即使出现光晕,
也可通过在不同拍摄区对检测对象进行拍摄解决该光晕问题。

当三维测量装置可进一步包括移动单元时,控制单元控制移动单元对
相对位置的移动,使得移动单元将测量对象中两个以上检查区同时移动至
多个拍摄区中的两个以上拍摄区,并且控制拍摄单元,使得拍摄单元对两
个以上检查区同时拍摄。

在三维测量装置中,可以将两个以上检查区同时定位在两个以上拍摄
区中,并且能够通过拍摄单元同时拍摄。因此,可以高速地计算多个检查
区的三维形状。

在三维测量装置中,控制单元可以在第一模式和第二模式之间切换。

在第一模式中,控制单元控制移动单元对相对位置的移动,使得移动
单元将测量对象中的一个检查区顺次移动至多个拍摄区中的两个以上拍
摄区,并且控制单元控制拍摄单元,使得每当该检查区与拍摄区的位置吻
合时,拍摄单元对该检查区进行拍摄。

在第二模式中,控制单元控制移动单元对相对位置的移动,使得移动
单元将测量对象中的两个以上检查区同时移动至多个拍摄区中的两个以
上拍摄区,并且控制单元控制拍摄单元,使得拍摄单元对两个以上检查区
同时拍摄。

在三维测量装置中,控制单元能够在第一模式和第二模式之间随意地
切换,在该第一模式中能够解决阴影问题,并且能够准确地检查检查区,
而在该第二模式中,能够通过拍摄单元高速地对两个以上检查区进行同时
拍摄,并且计算检查区的三维形状。

在三维测量装置中,可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区的位置定
位在相对可投影区中的其他拍摄区为180°±90°的范围内的位置处。因此,
可以适宜地消除该检查对象中出现的阴影的影响。

在三维测量装置中,可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区的位置定
位在相对可投影区中的其他拍摄区为180°±45°的范围内的位置处。因此,
可以适宜地消除该检查对象中出现的阴影的影响。

在三维测量装置中,可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区定位在可
投影区中偏离0°、±90°以及180°的位置处。因此,可以适宜地消除光晕
的影响。

在三维测量装置中,可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区定位在可
投影区中偏离±45°和±135°的位置处。因此,可以适宜地消除光晕的影
响。

在三维可测量装置中,可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区定位在
可投影区中偏离0°、±45°、±90°、±135°以及180°的位置处。因此,能
够适宜地消除光晕的影响。

在三维可测量装置中,多个拍摄区中的至少一个拍摄区与可投影区中
的交点之间的距离可以不同于其他拍摄区与可投影区中的交点之间的距
离。因此,能够将该拍摄区布置成具有与其他拍摄区不同的测量精度和测
量范围。

在三维测量装置中,拍摄单元包括与多个拍摄区相对应的多个拍摄
部。

在三维测量装置中,拍摄单元可以包括能够对多个拍摄区中两个以上
拍摄区逐一拍摄的拍摄部。

因此,由于可以减少拍摄部的数量,所以可以降低成本。

在三维测量装置中,当拍摄单元包括能够对两个以上拍摄区逐一拍摄
的拍摄部时,该三维测量装置可以进一步包括反射单元和驱动单元。

该驱动单元驱动反射单元,使得在第一入射状态和第二入射状态之间
切换,在第一入射状态中,来自多个拍摄区之一的光入射在该拍摄部上,
在第二入射状态中,通过反射单元将来自另一个拍摄区的光引导至该拍摄
部上。

在三维测量装置中,投影单元可以包括遮光罩,该遮光罩限制条纹的
投射,使得该条纹不投射至可投影区中多个拍摄区之外的区域。

因此,可以防止由于将条纹投射至可投影区中不必要的区域以及漫反
射光入射到拍摄单元上的事实而导致的检查区的测量精度下降。

如上所述,根据本发明的实施方式,提供了一种能够解决光晕或阴影
问题的三维测量装置。

附图说明

图1是示出了根据本发明实施方式的三维测量装置的示图;

图2是示出了将通过三维测量装置进行三维测量的测量对象的示例
的示图;

图3是示出了投影单元的光学系统的示图;

图4是示出了遮光罩的平面视图;

图5是示出了投射在基板上的条纹的形状并示出了可投影区与拍摄
区之间的关系的平面视图;

图6是示出了根据本发明实施方式的三维测量装置的控制单元的处
理的流程图;

图7是示出了在检查区位于第一拍摄区时由形成在检查区中的诸如
焊料的检查对象所形成的阴影的形状的示图;

图8是示出了在检查区位于第二拍摄区时由检查对象所形成的阴影
的形状的示图;

图9是示出了用于消除阴影影响的多个拍摄区的位置并示出了检查
对象位于这些拍摄区时所形成的阴影的形状的示图;

图10是示出了检查对象位于拍摄区时所形成的阴影的形状的示图;

图11是示出了检查对象位于拍摄区时所形成的阴影的形状的示图;

图12是示出了检查对象位于拍摄区时所形成的阴影的形状的示图;

图13是示出了根据本发明另一实施方式的设置在可投影区中的多个
拍摄区的示图;

图14是示出了用于消除光晕影响的多个拍摄区的位置并示出了检查
对象位于这些拍摄区时光晕的影响的示图;

图15是示出了检查对象位于拍摄区时光晕的影响的示图;

图16是示出了检查对象位于拍摄区时光晕的影响的示图;

图17是示出了检查对象位于拍摄区时光晕的影响的示图;

图18是示出了根据另一实施方式的三维测量装置的处理的流程图;

图19A至图19D是示出了当拍摄区设置在偏离0°、±45°、±90°、
±135°以及180°的位置时光晕的影响的示图;

图20是示出了根据又一实施方式的设置在可投影区中的多个拍摄区
的示图;以及

图21是示出了能够对两个以上的拍摄区进行逐一拍摄的拍摄部的示
例的示图。

具体实施方式

下文中,将参照附图描述本发明的实施方式。

第一实施方式

三维测量装置100的整体构成以及各单元的构成

图1是示出了根据本发明第一实施方式的三维测量装置100的示图。
图2是示出了将通过三维测量装置100进行三维测量的测量对象10的示
例的示图。

如图2所示,根据该实施方式,将描述具有多个检查区11(11A至
11J)的基板10的示例作为将通过三维测量装置100进行三维测量的测量
对象10的示例。例如,在检查区11,印制焊料作为检查对象12(参见图
7和图8等图)。在图2中示出的示例中,基板10具有十个检查区11。

如图1所示,三维测量装置100包括基板10载置于其上的载物台45、
载物台移动机构46(移动单元)、投影单元20、拍摄单元30、控制单元
41、存储单元42、显示单元43以及输入单元44。

通过例如投影仪来构造投影单元20。将投影单元20设置成光轴4垂
直于基板10的表面(投影表面)。

图3是示出了投影单元20的光学系统21的示图。图4是示出了遮光
罩26的平面视图。图5是示出了投射至基板10的条纹的形状并示出了可
投影区2和拍摄区1之间的关系的平面视图。

如图3所示,投影单元20包括光学系统21。光学系统21包括光源
22;聚光透镜23;用于将来自光源22的光会聚;相位光栅24,用于使被
聚光透镜23会聚的光穿过以形成条纹;以及投影透镜25,用于将穿过相
位光栅24的光投射至基板10的表面。光学系统21被构造为整个光学系
统21的光轴4垂直于基板10的表面。

光源22的示例包括卤素灯、氙灯、汞灯以及LED(发光二极管),
但光源22的种类并不被特定地限制。相位光栅24包括多个狭缝。相位光
栅24利用多个狭缝形成了亮度正弦变化的条纹,并且将该条纹投射至基
板10的表面。

相位光栅24设置有用于使相位光栅24在与形成狭缝的方向垂直的方
向(X轴方向)上移动的光栅移动机构(未示出)。光栅移动机构在控制
单元41的控制下移动相位光栅24,并且使投射至基板10的条纹的相位移
动。可以采用用于显示光栅形条纹的液晶光栅等来代替相位光栅24和光
栅移动机构。

参照图3至图5,当从投影单元20至基板10作垂直线时,投影单元
20能够将条纹投射至该垂直线和基板10的表面(投影表面)之间的交点
3的外围区域。此外,将作为垂直线和基板10的表面(投影表面)之间的
交点3的外围区域并且条纹能够投射至的区域称作可投影区2。在该实施
方式中,如上所述,由于光轴4垂直于基板10的表面,所以从投影单元
20开始至基板10的垂直线与该光轴吻合。因此,在该实施方式中,光轴
和基板的表面(投影表面)之间的交点3的外围区域成为可投影区2。这
里,由于投影单元20的光轴4垂直于基板10的表面,所以投影单元20
能够将没有图像变形而具有均匀宽度的条纹投射至整个可投影区2。当光
轴4相对于基板的表面倾斜时,在一些情况下条纹图像会变形。

可投影区2中布置有多个拍摄区1(1A和1B)。条纹所投射至的检
查区11在拍摄区1中被拍摄。由于可投影区2被构造为以交点3为中心
的宽广区域,所以在可投影区2中可设置有多个拍摄区1。进一步,由于
投影单元20能够将没有图像变形而具有均匀宽度的条纹投射至整个可投
影区2,所以拍摄区1可以设置在可投影区2中的任意位置。

为了消除阴影的影响;消除光晕的影响以及提高检查速度,可以任意
地设定可投影区2中拍摄区1的数量或拍摄区1的位置。

在该实施方式中,将描述例如为了消除阴影的影响,在可投影区2
中设置多个拍摄区1的情况。拍摄区1的数量为两个。在该实施方式中,
为了便于理解,设置两个拍摄区,即,第一拍摄区1A和第二拍摄区1B。
以交点3为基准,第一拍摄区1A和第二拍摄区1B设置在彼此相对的位
置(180°)。稍后将详细描述可投影区2中拍摄区1的相对位置。

参照图3和图4,在投影透镜25的下方形成遮光罩26。这里,当将
条纹投射至可投影区2中第一拍摄区1A和第二拍摄区1B之外的区域时,
会发生漫反射,从而漫反射条纹入射在拍摄单元30上。因此,会担心检
查对象12的测量精度降低。

因此,在该实施方式中,设置用于限制条纹投射的遮光罩26,以防
止条纹投射至可投影区2中第一拍摄区1A和第二拍摄区1B之外的区域。
例如,通过在圆形薄板件中形成开口27(27A和27B)来形成遮光罩26。
开口27A和27B设置在与设置在可投影区2中的第一拍摄区1A和第二拍
摄区1B的位置相对应的位置处。

如图5所示,遮光罩26能够防止将条纹投射至第一拍摄区1A和第
二拍摄区1B之外的区域。因此,能够防止由于入射在拍摄单元30上的漫
反射条纹所导致的检查对象12(为焊料)的测量精度的下降。

在图3中,遮光罩26设置在投影透镜25的下方。然而,遮光罩26
可以设置在光源22和聚光透镜23之间、聚光透镜23和相位光栅24之间、
或相位光栅24和投影透镜25之间。

返回参照图1,拍摄单元30包括分别对应于第一拍摄区1A和第二拍
摄区1B的第一拍摄部31和第二拍摄部32。第一拍摄部31和第二拍摄部
32均包括拍摄元件,例如CCD(电荷耦合器件)传感器或CMOS(互补
金属氧化物半导体)传感器。第一拍摄部31和第二拍摄部32均包括用于
利用来自拍摄区1的光在拍摄元件的拍摄表面上形成图像的诸如图像形成
透镜的光学系统。第一拍摄部31和第二拍摄部32在控制单元41的控制
下,对基板10上投射有条纹的检查区11进行拍摄。

载物台45被构造为保持基板10。载物台移动机构46根据来自控制
单元41的驱动信号使载物台45在XY方向上移动。通过使载物台45在
XY方向上移动,载物台移动机构46改变基板10的检查区11相对于拍摄
区1的相对位置。

通过例如液晶显示器来构造显示单元43。显示单元43在控制单元41
的控制下,显示基板10上检查区11的三维图像。通过键盘、鼠标、触摸
屏等来构造输入单元44。输入单元44输入来自用户的指令。

存储单元42包括用于存储三维测量装置100进行处理所必要的各种
程序的非易失性存储器(例如ROM(只读存储器));以及用作控制单元
41的工作区的易失性存储器,例如RAM(随机存取存储器)。

通过例如CPU(中央处理单元)来构造控制单元41。控制单元41
基于存储在存储单元42中的各种程序,整体控制三维测量装置100。例如,
控制单元41将载物台移动机构46控制为载物台移动机构46改变检查区
11相对于拍摄区1的相对位置,以使检查区11和拍摄区1的位置吻合。
控制单元41将光栅移动机构控制为光栅移动机构使投射至基板10的条纹
的相位移动。进一步,控制单元41将拍摄单元30控制为拍摄单元30捕
获投射有条纹的检查区11的图像,或者基于捕获的图像利用相位偏移法
计算检查区11的三维形状。

处理的描述

图6是示出了三维测量装置100的控制单元41的处理的流程图。

首先,三维测量装置100的控制单元41控制载物台移动机构46,以
使得载物台移动机构46将载物台45移动达到基板10的接受位置。载物
台移动机构46从基板传送设备(未示出)接受基板10(ST 101)。

接下来,控制单元41控制载物台移动机构46,使得载物台移动机构
46移动载物台45,并且使多个检查区11中的一个检查区11与第一拍摄
区1A的位置吻合(ST 102)。在这种情况下,多个检查区11中位于图2
中的左上部分的检查区11A与第一拍摄区1A的位置吻合。接下来,控制
单元41使光从投影单元20发出,使得投影单元20将条纹投射至与第一
拍摄区1A的位置吻合的检查区11(ST 103)。

图7是示出了检查区11位于第一拍摄区1A时由形成在检查区11中
的检查对象12(例如,焊料)所形成的阴影的形状的示图。如图7所示,
当检查区11位于第一拍摄区1A时,在检查对象12的右侧形成阴影。

当投射条纹时,控制单元41使第一拍摄部31在第一拍摄区1A对投
射有条纹的检查区11进行拍摄(ST 104)。接下来,控制单元41控制光
栅移动机构,使得光栅移动机构移动相位光栅24,以使投射至检查区11
的条纹的相位移动约π/2[rad](ST 105)。当控制单元41使条纹的相位移动
时,控制单元41随后确定是否捕获到四个图像(ST 106)。

当未捕获到四个图像时(ST 106中为否),该处理返回至ST 104,并
且控制单元41拍摄投射有条纹的检查区11。接着,控制单元41再次将条
纹的相位移动约π/2[rad](ST 105),并且再次确定是否捕获到四个图像(ST
106)。以这种方式,捕获条纹相位彼此不同的总共四个图像。

当捕获到四个图像时(ST 106中为是),控制单元41利用相位偏移
法基于四个图像计算图像的每个像素的高度(ST 107)。在这种情况下,
控制单元41从这四个图像中提取每个像素(坐标(x,y))的亮度值,并
且通过应用下面的式子(1)计算每个像素的相位φ(x,y)。接着,控制单
元基于算得的每个像素的相位φ(x,y),利用三角测量原理计算每个像素
的高度。

在式子(1)中,当相位为0、π/2、π和3π/2时,I0(x,y)、Iπ/2(x,y)、
Iπ(x,y)和I3π/2(x,y)分别为像素(坐标)的亮度值。

φ(x,y)=Tan-1{I3π/2(x,y)-Iπ/2(x,y)}/{I0(x,y)-Iπ(x,y)} ...(1)

如图7所示,检查对象12(例如焊料)的阴影部分的亮度为零。因
此,由于像素(坐标)中各图像之间的亮度值没有差别,所以利用以上的
式子(1)可算出相位φ。因此,控制单元41不能算出阴影部分中每个像
素的高度。

当计算每个像素的高度时,控制单元41随后控制载物台移动机构46,
使得载物台移动机构46改变检查区11相对于拍摄区1A和1B的相对位
置。接着,控制单元41使先于第一拍摄区1A即刻拍摄的检查区11与第
二拍摄区1B的位置吻合(ST 108)。当检查区11与第二拍摄区1B的位置
吻合时,将条纹投射至检查区11(ST 109)。

图8是示出了当检查区11位于第二拍摄区1B时通过检查对象12形
成的阴影的形状的示图。如图8中所示,当检查区11位于第二拍摄区1B
时,在检查对象12(例如焊料)的左侧形成阴影。然而,可以将条纹投
射至图7中已形成有阴影的检查对象12的右侧上。

当投射条纹时,控制单元41使第二拍摄部32对投射有条纹的检查区
11进行拍摄(ST 110)。接下来,控制单元41控制光栅移动机构,使得光
栅移动机构移动相位光栅24,以在第二拍摄区1B中使投射至检查区11
的条纹的相位移动约π/2[rad](ST 111)。接下来,控制单元41确定是否
捕获到四个图像(ST 112)。

当捕获到条纹相位彼此不同的总共四个图像时(ST 112中为是),控
制单元41利用相位偏移法,基于四个图像计算该图像的每个像素的高度。
在这种情况下,控制单元41利用以上的式子(1),通过相位偏移法计算
每个像素(坐标)的高度。

这里,当检查区11位于第二拍摄区1B时,检查区11位于第一拍摄
区1A时所形成的阴影部分(参见图7和图8)不被阴影。因此,在ST 108,
控制单元41可对由于ST 107中的阴影而未算得其高度的像素(坐标)进
行插值。以这种方式,控制单元41能够准确地计算检查区11中检查对象
12的形状。也就是,通过在多个拍摄区1中拍摄一个检查区11,并且计
算检查对象12的三维形状,能够消除阴影的影响。因此,能够准确地计
算检查对象12的形状。

当计算检查区11的三维形状时,控制单元41使检查区11的三维形
状显示在显示单元43上。用户观察该三维图像,并且检查形成于基板10
的检查区11中的检查对象12。由于显示在显示单元43上的图像是通过消
除了阴影的影响而准确地形成的图像,所以能够准确地确定检查对象12
的微小缺陷。

接下来,控制单元41确定是否对于所有检查区11结束利用相位偏移
法进行的检查区11的三维形状的计算(ST 114)。当不是对所有检查区11
结束三维形状的计算(ST 114中为否)时,控制单元41转变到计算随后
检查区11的三维形状(ST 115),并且使随后的检查区11与第一拍摄区
1A的位置吻合(ST 101)。接着,重复从ST 101至ST 114的处理。检查
区11的三维形状的计算顺序不被特定地限制。例如,以检查区11A、11B、
11C...,和11J的顺序计算三维形状。

当对于基板10的所有检查区11结束三维形状的计算(ST 114中的
是)时,控制单元41控制载物台移动机构46,使得载物台移动机构46
将基板10移动达到卸载位置,并且将基板10卸载(ST 116)。接着,控
制单元41从基板传送装置接受新基板10,并且执行从ST 101至ST 116
的处理。

如参照图6所描述的,在拍摄区1(也就是,在第一拍摄区1A和第
二拍摄区1B两者)拍摄一个检查区11,接着拍摄随后的检查区11。然而,
可以在第一拍摄区1A拍摄所有检查区11,并且接着可以在第二拍摄区1B
拍摄所有检查区11。

用于消除阴影的影响的多个拍摄区1的位置

接下来,将描述用于消除阴影影响的可投影区2中多个拍摄区的位
置。

图9至图12是示出了用于消除阴影影响的多个拍摄区1的位置以及
示出了当检查对象12(12A至12D)位于拍摄区1中(1a至1h)时所形
成的阴影的形状的示图。图9至图12示出了检查对象12以横向(0°)、
纵向(90°)、+45°方向以及-45°方向定位于基板10上的检查区11中时的
阴影的形状。

如图9至图12所示,在许多情况下,基板10上的检查区11中所形
成的诸如焊料的检查对象12(12A至12D)通常具有沿一个方向为纵向长
方体的形状。在这种情况下,如图9和图10所示,最一般的是检查对象
12(12A和12B)以横向(0°)(x轴方向)或纵向(90°)(y轴方向)形
成在基板10上。最一般的是检查对象12以横向方向或纵向方向形成,另
如图11和图12所示,次之一般的是检查对象12(12C和12D)以±45°
方向形成。

下面将参照图9至图12描述可投影区2中两个拍摄区1的相对位置。
这里,假定两个拍摄区1中的一个拍摄区1设置在拍摄区1a的位置(基
准位置)。现在将描述另一个拍摄区1相对这一个拍摄区1的合适的相对
位置。将假定在可投影区2中拍摄区1a的位置为0°进行描述。

首先,参照图9至图10,将描述在检查区11中检查对象12(12A和
12B)横向或纵向形成的情况。在这种情况下,当检查对象12位于拍摄区
1a时,在检查对象12的右侧形成阴影。

在定位在相对于拍摄区1a成±45°角度的位置的拍摄区1b和1h中,
在检查对象12位于拍摄区1a时形成阴影的部分中形成有阴影。然而,在
拍摄区1c、1g、1d、1f以及1e(定位在相对于拍摄区1a成±90°、±135°
以及180°角度的位置)中,在检查对象12设置在第一拍摄区1a时形成阴
影的部分中未形成阴影。

也就是,当检查对象12横向或纵向形成时,只要另一个拍摄区1落
在相对这个拍摄区1的180°±90°的范围内,就能适宜地消除阴影的影响。

接下来,参照图11至图12,将描述在检查区11中检查对象12(12C
和12D)以+45°或-45°方向形成的情况。在这种情况下,当检查对象12
位于拍摄区1a时,在检查对象12的右侧形成阴影。

在拍摄区1b、1h、1c和1g(位于相对拍摄区1a成±45°和±90°的位置)
中,在检查对象12位于拍摄区1a时形成阴影的部分中形成有阴影。然而,
在拍摄区1d、1f以及1e(位于相对拍摄区1a成±135°和180°的位置)中,
在检查对象12位于拍摄区1a中时形成阴影的部分中未形成阴影。

即,当检查对象12以+45°或-45°方向形成在基板10上时,只要另
一个拍摄区1落在相对这个拍摄区1成180°±45°的范围中,就能适宜地消
除阴影的影响。

进一步,即使检查对象12以横向、纵向、+45°方向以及-45°方向中
任一个方向形成时,只要另一个拍摄区1落在相对这个拍摄区1的
180°±45°的范围内,就能适宜地消除阴影的影响。

如以上参照图9和图10所述,为了便于理解,在一个检查区11中设
置一个检查对象12。然而,在一些情况下,多个检查对象12可以以不同
的方向形成在一个检查区11中。例如,在一些情况下,在一个检查区11
中检查对象12A、12B、12C和12D以横向、纵向、+45°方向、-45°方向
形成。即使在这种情况下,只要另一个拍摄区1落在相对这个拍摄区1成
180°±45°的范围内,就能适宜地消除阴影的影响。

第二实施方式

接下来,将描述本发明的第二实施方式。当描述第二实施方式时,具
有与上述第一实施方式相同的构造和功能的组成要素将被赋予相同的参
考标号,并且其描述将不被重复或被简化。

图13是示出了根据第二实施方式的设置在可投影区2中的多个拍摄
区1的示图。在图13示出的示例中,在可投影区2中,第一拍摄区1C设
置在0°的位置,并且第二拍摄区1D设置在135°的位置。

在第二实施方式中,由于第二拍摄区1D的位置不同于第一实施方式
的位置,所以适宜地改变拍摄单元30(第二拍摄部32)的位置或遮光罩
26的开口27的位置,以适合于第二拍摄区1D的位置。

第一拍摄区1C和第二拍摄区1D设置在这些位置,以消除光晕的影
响。下文中,将描述第一拍摄区1C和第二拍摄区1D的位置。

图14至图17是示出了用于消除光晕影响的多个拍摄区1的位置并示
出了检查对象12(12A至12D)位于拍摄区1(1a至1h)时形成的光晕
的影响的示图。图14至图17示出了当检查对象12以横向(0°)、纵向(90°)、
+45°方向以及-45°的方向设置在检查区11中时光晕的影响。

当光垂直地照射至检查对象12(例如,焊料)的长边时,在一些情
况下会发生光晕。因此,在图14至图17中,当光垂直地照射至检查对象
12的长边时,给予标记X,当光垂直地照射至检查对象12的短边时,在
一些情况下,也会发生光晕。与光垂直地照射至检查对象12的长边的情
况相比,光垂直地照射至检查对象12的短边情况下发生光晕的可能性较
低。在这种情况下,在图中,给予标记△。由于在其他情况下发生光晕的
可能性较低,所以在图中给予标记○。

首先,如图14中所示,将描述横向设置检查对象12A的情况。在这
种情况下,当检查对象12A位于±90°的拍摄区1c和1g时,光垂直地照射
至检查对象12A的长边。因此,在一些情况下会出现光晕(参见标记X)。
当检查对象12A位于0°和180°的拍摄区1a和1e时,光垂直地照射至检
查对象12A的短边。因此,在一些情况下会出现光晕(参见标记△)。然
而,当检查对象12A位于±45°和±135°的拍摄区1b、1h、1d和1f时,光
不照射至检查对象12A的长边和短边。在这种情况下,出现光晕的可能性
较低(参见标记○)。

如图15所示,当纵向设置检查对象12B时,在0°和180°的拍摄区
1a和1e中,光垂直地照射至检查对象12B的长边(参见标记X)。在±90°
的拍摄区1c和1g中,光垂直地照射至检查对象12B的短边。然而,在±45°
和±135°的拍摄区1b、1h、1d和1f中,光不照射至检查对象12B的长边
和短边(参见标记○)。

应当理解的是,多个拍摄区1中的至少一个拍摄区1设置在可投影区
2中偏离0°、±90°和180°的位置处,以防止光垂直地入射至横向或纵向设
置的检查对象12A和12B的边上。从这个角度来看,如图13所示,第二
拍摄区1D设置在可投影区2中的135°位置处。

如图16所示,当以+45°方向设置检查对象12C时,在-45°和135°
的拍摄区1h和1d中,光垂直地照射至检查对象12C的长边(参见标记X)。
在45°和-135°的拍摄区1b和1f中,光垂直地照射至检查对象12C的短
边(参见标记△)。然而,在0°、±90°和180°的拍摄区1a、1c、1g和1e
中,光不垂直地照射至检查对象12C的长边和短边(参见标记○)。

如图17所示,当以-45°方向设置检查对象12D时,在45°和-135°
的拍摄区1b和1f中,光垂直地照射至检查对象12D的长边(参见标记X)。
在-45°和135°的拍摄区1h和1d中,光垂直地照射至检查对象12D的短
边(参见标记△)。然而,在0°、±90°和180°的拍摄区1a、1c、1g和1e
中,光不垂直地照射至检查对象12D的长边和短边(参见标记○)。

应当理解,在可投影区2中将多个拍摄区1中的至少一个拍摄区1
设置在偏离±45°和±135°的位置,以防止光垂直地入射至以±45°的方向设
置的检查对象12C和12D的边。从这点来看,如图13所示,第一拍摄区
1C设置在可投影区2中0°位置。

处理说明

接下来,将描述根据第二实施方式的三维测量装置100的处理。图
18是示出了根据第二实施方式的三维测量装置100的处理的流程图。

首先,三维测量装置100的控制单元41从基板传送设备接受基板10
(ST 201),并且确定检查区11是否是在第一检查区1C拍摄的区域(ST
202)。

用户通过输入单元44,重设参照图2的基板10的多个检查区11(11A
至11J)中将要在第一拍摄区1C拍摄的检查区11和将要在第二拍摄区1D
中拍摄的检查区11。例如,假定+45°和-45°方向的检查对象12C和12D
形成在多个检查区11中的检查区11A至11E中,并且横向和纵向的检查
对象12A和12B形成在检查区11F至11J中。在这种情况下,用户将检查
区设定为检查区11A至11E在第一拍摄区1C中拍摄,以及检查区11F至
11J在第二拍摄区1D中拍摄。

当检查区11是将在第一拍摄区1C中拍摄的区域(ST 202中的是)
时,控制单元41使检查区11与第一拍摄区1C的位置吻合(ST 203)。接
下来,控制单元41使投影单元20将条纹投射至位于第一拍摄区1C中的
检查区11(ST 204),并且获得条纹相位彼此不同的四个图像(ST 205至
ST 207)。

进一步,当用光(条纹)照射检查对象12时,入射在检查对象12
上的光不垂直地照射至检查对象12的边(参见图16和图17)。因此,不
会出现光晕。

当获得条纹相位彼此不同的四个图像(ST 207中为是)时,控制单
元41利用相位偏移法,基于四个图像计算检查区11的每个像素(坐标)
的高度(ST 208)。

当ST 202中的判定为否时(ST 202中为否),也就是,检查区11是
将在第二拍摄区1D中拍摄的区域时,控制单元41使检查区11和第二拍
摄区1D的位置吻合(ST 209)。接下来,控制单元41将条纹投射至位于
第二拍摄区1D中的检查区11(ST 210),并且获得条纹相位彼此不同的
四个图像(ST 211至ST 213)。

进一步,当用光(条纹)照射检查对象12时,入射至检查对象12
上的光不垂直地照射至检查对象12的边(参见图14和图15)。因此,不
会出现光晕。

当获得条纹相位彼此不同的四个图像(ST 213中为是)时,控制单
元41利用相位偏移法,基于四个图像计算检查区11的每个像素(坐标)
的高度(ST 214)。

当控制单元41计算检查区11的每个像素的高度时,控制单元41随
后确定是否对于所有检查区11结束对检查区11进行的三维形状的计算
(ST 215)。当不结束对所有检查区11的三维形状的计算时(ST 215中为
否),控制单元41转变到计算随后的检查区11的三维形状(ST 216),并
且重复处理ST 201至ST 215。

当结束对基板10上所有检查区11的三维形状的计算(ST 215中为
是)时,控制单元41将基板10移动达到卸载位置,并且卸下基板10(ST
217)。接着,控制单元41从基板传送装置接受新基板10,并且执行ST 201
至ST 217的处理。通过以上所述的处理,可以解决光晕问题,而不用考
虑检查对象12的方向。

第二实施方式的变形例

在图18示出的处理中,已经描述了一个检查区11位于第一拍摄区
1C和第二拍摄区1D中的一个拍摄区1中并被拍摄的情况。另一方面,如
在上述的第一实施方式中,一个检查区11顺次被移动至第一拍摄区1C和
第二拍摄区1D的位置,并且该检查区11在第一拍摄区1C和第二拍摄区
1D中被拍摄。

例如,假定检查对象12纵向设置在检查区11中。在这种情况下,例
如,当检查区11在第一拍摄区1C中被拍摄时,光会垂直地入射至检查区
12的长边。因此,一些情况下可能会出现光晕。然而,当检查区11在第
二拍摄区1D中被拍摄时,光不垂直地入射至检查对象12的边。因此,不
会出现光晕。同样应用于以横向和±45°方向形成检查对象12的情况。两
个拍摄区1之一中可能会出现光晕,但在另一拍摄区中就不会出现光晕。
因此,即使一个检查区11在两个拍摄区1C和1D中被拍摄时,也可以解
决光晕问题,而不用考虑检查对象12的方向。

当一个检查区11在两个拍摄区1C和1D中的每一个中拍摄时,由于
用户不可以设定检查区11拍摄所在的拍摄区1,所以能够特别实现该效
果。进一步,当一个检查区11在两个拍摄区1C和1D中都拍摄时,彼此
朝向不同的多个检查对象12形成在一个检查区11中的情况下,可以适宜
地解决光晕问题。

进一步,当一个检查区11在两个拍摄区1C和1D中拍摄时,可以同
时解决阴影问题和光晕问题。也就是,在第二实施方式中,第二拍摄区1D
在相对于第一拍摄区1C成180°±45°的范围内(参见图9至图12)。因此,
通过在两个拍摄区1C和1D中拍摄一个检查区11,可以同时解决阴影问
题和光晕问题,而不用考虑检查对象12的方向。

如以上参照图14至图17所述,将多个拍摄区1中的至少一个拍摄区
1设置在可投影区2中偏离0°、±90°、和180°或±45°和±135°的位置。然
而,多个拍摄区1中的至少一个拍摄区1可被设置为不在0°、±45°、±90°
和±135°和180°的位置。

图19A至图19D是示出了当拍摄区1设置在偏离0°、±45°、±90°、
±135°和180°的位置时光晕的影响的示图。图19A至图19D示出了以横
向(0°)、纵向(90°)、+45°方向以及-45°方向形成的检查对象12。进一
步,在图19A至图19D中,例如,检查区11设置在202.5°的位置。

如图19A至图19D所示,当将拍摄区1i设置在偏离0°、±45°、±90°、
±135°和180°的位置时,在形成检查对象12的任一方向上光(条纹)都不
垂直地照射至检查对象12的边。因此,即使以任意方向形成检查对象12
时,都可以防止发生光晕。

第三实施方式

接下来,将描述本发明的第三实施方式。第三实施方式与以上描述的
实施方式的不同之处在于,根据第三实施方式的三维测量装置100能在高
精度模式(第一模式)和高速模式(第二模式)之间切换。

高精度模式是通过将一个检查区11移动至多个拍摄区1的位置而使
一个检查区11在多个拍摄区中拍摄的模式。高速模式是通过将多个检查
区11同时地设置在多个拍摄区1中来同时拍摄多个拍摄区1的模式。

图20是示出了根据第三实施方式的可投影区2中多个拍摄区1的布
置的示图。如图20所示,在第三实施方式中,可投影区2中设置有五个
拍摄区1E、1F、1G、1H和1I。这五个拍摄区1E、1F、1G、1H和1I分
别设置在0°、45°、135°、202.5°和270°的位置。

在第三实施方式中,设置在0°、45°、135°、202.5°和270°位置处的
拍摄区1分别被称为第一拍摄区1E、第二拍摄区1F、第三拍摄区1G、第
四拍摄区1H和第五拍摄区1I。

在第三实施方式中,由于有五个拍摄区1,例如,拍摄单元30包括
与该五个拍摄区1对应的五个拍摄部。进一步,遮光罩26的五个开口27
形成在与五个拍摄区1的位置对应的位置,以与这五个拍摄区1相对应。

以上述方式设置五个拍摄区1,以解决阴影或光晕问题。例如,为了
消除阴影的影响,该五个拍摄区1中的至少一个拍摄区1设置在相对于另
一拍摄区1成180°±90°(或180°±45°)的范围内(参见图9至图12)。为了
消除光晕的影响,第二拍摄区1F和第三拍摄区1G设置在偏离0°、±90°、
和180°的位置(参见图14和图15)。为了消除光晕的影响,第一拍摄区
1E和第五拍摄区1I设置在偏离±45°和±135°的位置(参见图16和图17)。
为了消除光晕的影响,第四拍摄区1H设置在偏离0°、±45°、±90°、±135°、
和180°的位置(参见图19A至图19D)。

在拍摄区与可投影区2的中心(光轴4与基板10的表面间的交点)
的距离方面,第二拍摄区1F不同于其他拍摄区1E、1G、1H和1I。通过
以这种方式设置拍摄区,与其他拍摄区1E、1G、1H和1I相比,第二拍
摄区1F中的测量精度和测量范围可以改变,这是因为照射至检查对象12
的光的照射角度改变。通常,照射至检查对象12的光的照射角度越小,
分辨能力(测量精度)就越高。然而,测量范围就越窄。与之相比,在相
位偏移法中,照射至检查对象12的光的照射角度越小,分辨能力就越差。
然而,测量范围却越宽。

高精度模式

首先,将描述高精度模式。在高精度模式下,通常执行的处理与第一
实施方式中所描述的那些处理相同。例如,在高精度模式下,控制单元41
使一个检查区11顺次移动至第一拍摄区1E和第四拍摄区1H的位置,并
且使一个检查区11在第一拍摄区1E和第四拍摄区1H中都拍摄。

作为拍摄区1的组合,可以采用第一拍摄区1A和第四拍摄区1H的
组合、第一拍摄区1E和第三拍摄区1G的组合以及第三拍摄区1G和第五
拍摄区1I的组合。本发明并不限于这些组合。当然,也可以采用其他组
合。使用的拍摄区1的数量不限于两个,而是可以采用三个以上拍摄区1。
在高精度模式下,由于能够显示检查对象12的准确的三维图像,而不会
有阴影问题或光晕问题,所以用户能够准确地检查检查区11。

高速模式

接下来,将描述高速模式。根据用户通过输入单元44输入的指令,
在高精度模式和高速模式之间切换。

在高速模式下,控制单元41将多个检查区11同时地移动至多个拍摄
区1,并且使多个检查区11同时在该多个拍摄区1中拍摄。例如,假定多
个检查区11设置在基板10上图2中所示的位置。在这种情况下,控制单
元41将检查区11C和检查区11A同时地移动至第一拍摄区1E和第三拍
摄区1G,并且同时拍摄这两个检查区11C和11A。进一步,控制单元41
将检查区11J、11I、和11H同时地移动至第一拍摄区1E、第三拍摄区1G、
和第四拍摄区1H,并且同时拍摄这三个检查区11J、11I、和11H。

用户通过输入单元44预先在三维测量装置100中设定十个检查区11
中将同时拍摄的检查区11。控制单元41使其他五个检查区11B和11D至
11G与第四拍摄区1H的位置吻合,并且使该其他五个检查区11B和11D
至11G在第四拍摄区1H中拍摄。在该示例中,由于两个检查区11C和11A
能够同时地被拍摄,并且三个检查区11J、11I、和11H能够同时地被拍摄,
所以通过七次拍摄就能够将这十个检查区11拍摄(四个图像需要一次拍
摄)。以这种方式,在高速模式下,可以将检查区11高速拍摄,并且高速
地计算检查对象12的三维形状。

这里,到目前为止已经描述了两个或三个检查区11同时拍摄的情况。
然而,四个以上检查区11可移动至四个以上拍摄区1的位置,并且可以
同时被拍摄。

在根据第三实施方式的三维测量装置100中,用户能够在高精度模式
和高速模式之间随意地切换。因此,当需要准确地检查检查对象12时,
用户能够选择高精度模式,并且准确地显示检查对象12的三维图像。另
一方面,当需要快速地检查检查对象12时,用户能够选择高速模式,并
且快速地显示检查对象12的三维图像。

在第三实施方式中,到目前位置已经描述了三维测量装置100具有高
精度模式和高速模式的情况。然而,可以推测的是,三维测量装置100只
具有高速模式。

各种变形例

在上述的实施方式中,迄今为止已经描述了载物台移动机构46作为
用于在XY方向移动基板10相对于多个拍摄区1的相对位置的移动单元
的示例。然而,移动单元通常可在XY方向移动基板10相对于多个拍摄
区1的相对位置。例如,移动单元可在XY方向移动投影单元20和拍摄
单元30。可替换地,移动单元可在XY方向移动载物台45(基板10)、投
影单元20和拍摄单元30。

在上述实施方式中,拍摄单元30包括与多个拍摄区1相对应的多个
拍摄部。然而,拍摄单元30可以包括能够对两个以上拍摄区1逐一拍摄
的拍摄部。

图21是示出了能够对两个以上拍摄区1逐一拍摄的拍摄部的示例的
示图。将参照图21主要描述与第一实施方式的不同之处。

如图21所示,在该示例中,设置反射单元50。反射单元50包括安
装在拍摄单元33下方的第一反射部51(在第一拍摄区1A的上方)以及
安装在第二拍摄区1B上方的第二反射部52。

第一反射单元51可以绕Y轴方向的轴线转动。第一反射单元51通
过驱动单元53(例如,电机)的驱动而转动。驱动单元53在控制单元41
的控制下使第一反射单元51转动,以在来自第一拍摄区1A的光入射至拍
摄部33的第一入射状态和来自第二拍摄区1B的光通过反射单元50被引
导至拍摄部33并入射在拍摄部分33上的第二入射状态之间切换。

当除了第一拍摄区1A和第二拍摄区1B之外还存在拍摄区1时,可
以将反射单元50配置为来自其他拍摄区1的光能够入射在拍摄部33上。
在图21示出的示例中,由于可以减少拍摄部33的数量,从而能够降低成
本。

可替换地,可以将能够在XY方向移动投影单元20的相对位置的拍
摄部用作能够对两个以上拍摄区1逐一拍摄的拍摄部的另一示例。拍摄部
能够绕投影单元20和拍摄单元转动,并且能够在拍摄部越来越接近投影
单元20的方向或拍摄部越来越远离投影单元20的方向移动。

在以上所述的实施方式中,至今将其上印制有用于焊接装配部件的焊
料的基板10示例为测量对象10的例子。然而,测量对象10并不局限于
此。测量对象10的示例包括其上形成有用于粘合装配部件的粘合剂的基
板;形成有配线图案的配线基板;印制有玻璃的基板以及印制有荧光物质
的基板。

在以上所述的实施方式中,目前为止,已经描述了通过使条纹的相位
移动四次而获得四个图像并应用相位偏移法的情况。然而,当相位移动次
数和图像数量为三个以上时,也可以应用本发明的实施方式。

在以上所述的实施方式中,到目前为止,已经描述了投影单元20的
光轴4垂直于基板10的表面(投影表面)的情况。然而,光轴4不是必
须垂直于基板的表面。也就是,投影单元20的光轴4不一定垂直于基板
的表面,只要当从投影单元20至基板10作垂直线时,条纹能够投射至该
垂直线和基板10的表面之间的交点3的外围区域即可。甚至在这种情况
下,也能够适宜地消除阴影问题或光晕问题。

本发明包含于2011年2月1日向日本专利局提交的日本在先专利申
请JP 2011-019431中所公开的相关主题,其全部内容通过引证结合于此。

本领域的技术人员应当理解,根据设计要求和其他因素,可以进行各
种修改、组合、子组合以及替换,只要它们在所附权利要求书或其等同物
的范围内。

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1、(10)申请公布号 CN 102628677 A (43)申请公布日 2012.08.08 CN 102628677 A *CN102628677A* (21)申请号 201210022404.1 (22)申请日 2012.02.01 2011-019431 2011.02.01 JP G01B 11/25(2006.01) (71)申请人 索尼公司 地址 日本东京 (72)发明人 外丸匠 (74)专利代理机构 北京康信知识产权代理有限 责任公司 11240 代理人 余刚 吴孟秋 (54) 发明名称 三维测量装置 (57) 摘要 本发明提供了一种三维测量装置, 包括 : 投 影单元, 其将条纹。

2、投射至可投影区, 该可投影区是 向测量对象作垂线时测量对象上的交点的外围区 域 ; 拍摄单元, 包括可投影区中的多个拍摄区, 投 射有条纹的测量对象在多个拍摄区中被拍摄 ; 以 及控制单元, 基于利用拍摄单元拍摄的图像, 执行 对测量对象进行的三维测量的处理。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书 2 页 说明书 14 页 附图 19 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 2 页 说明书 14 页 附图 19 页 1/2 页 2 1. 一种三维测量装置, 包括 : 投影单元, 所述投影单元将条纹投射至可投影区, 所述可投影区是向测量对象作。

3、垂线 时所述测量对象上的交点的外围区域 ; 拍摄单元, 所述拍摄单元包括所述可投影区中的多个拍摄区, 投射有所述条纹的所述 测量对象在所述多个拍摄区中被拍摄 ; 以及 控制单元, 所述控制单元基于通过所述拍摄单元拍摄的图像, 执行对所述测量对象进 行的三维测量的处理。 2. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 进一步包括 : 移动单元, 所述移动单元移动所述测量对象相对于所述多个拍摄区的相对位置, 其中, 所述控制单元控制所述移动单元对所述相对位置的移动, 使得所述移动单元将 所述测量对象中的一个检查区顺次移动至所述多个拍摄区中的两个以上拍摄区, 并且所述 控制单元控制所述拍摄单元, 使得。

4、每当所述检查区与所述拍摄区的位置吻合, 所述拍摄单 元对所述检查区进行拍摄。 3. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 进一步包括 : 移动单元, 所述移动单元移动所述测量对象相对于所述多个拍摄区的相对位置, 其中, 所述控制单元控制所述移动单元对所述相对位置的移动, 使得所述移动单元将 所述测量对象中的两个以上检查区同时移动至所述多个拍摄区中的两个以上拍摄区, 并且 所述控制单元控制所述拍摄单元, 使得所述拍摄单元对所述两个以上检查区同时拍摄。 4. 根据权利要求 2 所述的三维测量装置, 其中, 所述控制单元在第一模式和第二模式之间切换, 在所述第一模式中, 所述控制单 元控制所述移动。

5、单元对所述相对位置的移动, 使得所述移动单元将所述测量对象中的一个 检查区顺次移动至所述多个拍摄区中的两个以上拍摄区, 并且所述控制单元控制所述拍摄 单元, 使得每当所述检查区与所述拍摄区的位置吻合, 所述拍摄单元对所述检查区进行拍 摄, 以及在所述第二模式中, 所述控制单元控制所述移动单元对所述相对位置的移动, 使得 所述移动单元将所述测量对象中两个以上检查区同时移动至所述多个拍摄区中的两个以 上拍摄区, 并且所述控制单元控制所述拍摄单元, 使得所述拍摄单元对所述两个以上检查 区同时拍摄。 5. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 其中, 在所述可投影区中, 所述多个拍摄区中 的至少一个。

6、拍摄区的位置定位在相对于其他拍摄区成 180 90的范围内的位置处。 6. 根据权利要求 5 所述的三维测量装置, 其中, 在所述可投影区中, 所述多个拍摄区中 的至少一个拍摄区的位置定位在相对于其他拍摄区成 180 45的范围内的位置处。 7. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 其中, 在所述可投影区中, 所述多个拍摄区中 的至少一个拍摄区定位在偏离 0、 90和 180的位置处。 8. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 其中, 在所述可投影区中, 所述多个拍摄区中 的至少一个拍摄区定位在偏离 45和 135的位置处。 9. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 其中, 在所述。

7、可投影区中, 所述多个拍摄区中 的至少一个拍摄区定位在偏离 0、 45、 90、 135以及 180的位置处。 10. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 其中, 所述多个拍摄区中至少一个拍摄区与 所述可投影区中的所述交点之间的距离不同于其他拍摄区与所述可投影区中的所述交点 权 利 要 求 书 CN 102628677 A 2 2/2 页 3 之间的距离。 11. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 其中, 所述拍摄单元包括与所述多个拍摄区 相对应的多个拍摄部。 12. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 其中, 所述拍摄单元包括能够独自地对所述 多个拍摄区中的两个以上拍摄区拍摄的。

8、拍摄部。 13. 根据权利要求 12 所述的三维测量装置, 进一步包括 : 反射单元 ; 以及 驱动单元, 所述驱动单元驱动所述反射单元以在第一入射状态和第二入射状态之间切 换, 在所述第一入射状态中, 来自所述多个拍摄区之一的光入射在所述拍摄部上, 而在所述 第二入射状态中, 来自另一拍摄区的光通过所述反射单元引导至所述拍摄部。 14. 根据权利要求 1 所述的三维测量装置, 其中, 所述投影单元包括遮光罩, 所述遮光 罩用于限制条纹的投射, 使得所述条纹不投射至所述可投影区中所述多个拍摄区之外的区 域中。 权 利 要 求 书 CN 102628677 A 3 1/14 页 4 三维测量装置。

9、 技术领域 0001 本发明涉及一种能够使用相位偏移法等对测量对象进行三维测量的三维测量装 置。 背景技术 0002 迄今为止, 作为检查诸如印刷基板的测量对象的质量的方法, 已经使用了分析通 过对测量对象拍摄获得的图像并且检查该测量对象的质量的方法。在二维图像分析中, 难 以检测出测量对象在高度方向上的缺陷 ( 例如, 裂纹和空洞 )。由于这个原因, 近来采用了 通过三维图像分析测量测量对象的三维形状并且检测该测量对象的质量的方法。 0003 作为通过图像分析测量测量对象的三维形状的方法, 广泛地采用作为一种光 学切割法的相位偏移法 ( 时间条纹分析法 )( 例如, 参见日本未审查专利申请公。

10、开第 2010-169433 号 ( 第 0033 段、 第 0042 段至第 0044 段以及图 1)。 0004 日本未审查专利申请公开第 2010-169433 号 ( 第 0033 段、 第 0042 段至第 0044 段以及图 1) 中记载的三维测量装置包括印制有焊料的印刷基板载置在其上的载物 台以及从斜面的上方对印刷基板的表面照射条纹状光图案的照明设备。此外, 该三维测量 装置进一步包括 CCD 相机, 用于从印刷基板的正上方拍摄被条纹状光图案照射的部分 ; 以 及控制设备, 用于执行图像处理或运算处理。 0005 照明设备通过将光图案的相位移动约 1/4 节距来用该光图案照射印刷。

11、基板。CCD 相机捕获用光图案的相位移动后的光图案所照射的印刷基板的图像, 并获得总共四个图 像。 控制设备通过对所获得的四个图像进行处理来利用相位偏移法计算印刷基板的每个坐 标的高度。 发明内容 0006 这里, 在测量对象 ( 例如, 印刷基板 ) 的检查区中, 形成诸如从基准面突起的焊料 或从基准面凹入的空洞的检查对象。当用条纹状光图案照射检查对象时, 会在检查对象的 表面上形成阴影。 进一步, 当用条纹状光图案照射检查对象时, 会根据入射到检查对象的光 的角度而形成光晕。在这种情况下, 就不能准确地算出检查对象的三维形状。 0007 因此, 期望提供一种能够解决阴影或光晕问题的三维测量。

12、装置。 0008 根据本发明的一个实施方式, 提供了一种三维测量装置, 包括 : 投影单元、 拍摄单 元以及控制单元。 0009 投影单元向可投影区投射条纹, 该可投影区是向测量对象作垂线时测量对象上的 交点的外围区域。 0010 拍摄单元包括可投影区中的多个拍摄区, 其中在该多个拍摄区对投射有条纹的测 量对象进行拍摄。 0011 基于由拍摄单元拍摄的图像, 控制单元执行三维测量该测量对象的处理。 0012 在三维测量装置中, 投影单元能够向可投影区投射条纹, 该可投影区是向测量对 说 明 书 CN 102628677 A 4 2/14 页 5 象作垂线时测量对象上的交点的外围区域。 因此, 。

13、在该实施方式中, 通过投影单元能够将条 纹投射到较宽的范围。 进一步, 该较宽范围的可投影区被有效地利用, 并且在该可投影区中 布置多个拍摄区。例如, 通过在该可投影区中适宜地布置多个拍摄区并且在这些拍摄区对 测量对象的检查区进行拍摄, 可以解决关于检查区中的检查对象的阴影问题或光晕问题。 可选地, 例如, 当测量对象具有两个以上检查区时, 通过使两个以上检查区同时定位在两个 以上拍摄区中, 并且使拍摄单元同时拍摄这些检查区, 可以高速地计算多个检查区的三维 形状。 0013 该三维测量装置可以进一步包括移动单元。 0014 该移动单元移动测量对象相对多个拍摄区的相对位置。 0015 在这种情。

14、况下, 控制单元可控制移动单元对相对位置的移动, 使得移动单元将测 量对象中的一个检查区顺次移动至多个拍摄区中的两个以上拍摄区, 并且控制单元控制拍 摄单元, 使得每当检查区与拍摄区的位置吻合时, 拍摄单元对检查区进行拍摄。 0016 在三维测量装置中, 可以移动测量对象相对多个拍摄区的相对位置, 并且可以在 各个不同的拍摄区对测量对象中的一个检查区进行拍摄。因此, 通过将拍摄区布置在用于 适宜地消除检查对象中的检查区中出现的阴影的位置处, 并且在每个拍摄区对该一个检查 区进行拍摄, 可以解决阴影问题。 0017 进一步, 在三维测量装置中, 可以在各个不同的拍摄区对一个检查区进行拍摄。 例 。

15、如, 当在给定拍摄区对检查区进行拍摄时, 即使出现光晕, 也可通过在不同拍摄区对检测对 象进行拍摄解决该光晕问题。 0018 当三维测量装置可进一步包括移动单元时, 控制单元控制移动单元对相对位置的 移动, 使得移动单元将测量对象中两个以上检查区同时移动至多个拍摄区中的两个以上拍 摄区, 并且控制拍摄单元, 使得拍摄单元对两个以上检查区同时拍摄。 0019 在三维测量装置中, 可以将两个以上检查区同时定位在两个以上拍摄区中, 并且 能够通过拍摄单元同时拍摄。因此, 可以高速地计算多个检查区的三维形状。 0020 在三维测量装置中, 控制单元可以在第一模式和第二模式之间切换。 0021 在第一模。

16、式中, 控制单元控制移动单元对相对位置的移动, 使得移动单元将测量 对象中的一个检查区顺次移动至多个拍摄区中的两个以上拍摄区, 并且控制单元控制拍摄 单元, 使得每当该检查区与拍摄区的位置吻合时, 拍摄单元对该检查区进行拍摄。 0022 在第二模式中, 控制单元控制移动单元对相对位置的移动, 使得移动单元将测量 对象中的两个以上检查区同时移动至多个拍摄区中的两个以上拍摄区, 并且控制单元控制 拍摄单元, 使得拍摄单元对两个以上检查区同时拍摄。 0023 在三维测量装置中, 控制单元能够在第一模式和第二模式之间随意地切换, 在该 第一模式中能够解决阴影问题, 并且能够准确地检查检查区, 而在该第。

17、二模式中, 能够通过 拍摄单元高速地对两个以上检查区进行同时拍摄, 并且计算检查区的三维形状。 0024 在三维测量装置中, 可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区的位置定位在相对可 投影区中的其他拍摄区为 180 90的范围内的位置处。因此, 可以适宜地消除该检查 对象中出现的阴影的影响。 0025 在三维测量装置中, 可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区的位置定位在相对可 投影区中的其他拍摄区为 180 45的范围内的位置处。因此, 可以适宜地消除该检查 说 明 书 CN 102628677 A 5 3/14 页 6 对象中出现的阴影的影响。 0026 在三维测量装置中, 可以将多个拍摄区中的至。

18、少一个拍摄区定位在可投影区中偏 离 0、 90以及 180的位置处。因此, 可以适宜地消除光晕的影响。 0027 在三维测量装置中, 可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区定位在可投影区中偏 离 45和 135的位置处。因此, 可以适宜地消除光晕的影响。 0028 在三维可测量装置中, 可以将多个拍摄区中的至少一个拍摄区定位在可投影区中 偏离 0、 45、 90、 135以及 180的位置处。因此, 能够适宜地消除光晕的影 响。 0029 在三维可测量装置中, 多个拍摄区中的至少一个拍摄区与可投影区中的交点之间 的距离可以不同于其他拍摄区与可投影区中的交点之间的距离。因此, 能够将该拍摄区布 置成。

19、具有与其他拍摄区不同的测量精度和测量范围。 0030 在三维测量装置中, 拍摄单元包括与多个拍摄区相对应的多个拍摄部。 0031 在三维测量装置中, 拍摄单元可以包括能够对多个拍摄区中两个以上拍摄区逐一 拍摄的拍摄部。 0032 因此, 由于可以减少拍摄部的数量, 所以可以降低成本。 0033 在三维测量装置中, 当拍摄单元包括能够对两个以上拍摄区逐一拍摄的拍摄部 时, 该三维测量装置可以进一步包括反射单元和驱动单元。 0034 该驱动单元驱动反射单元, 使得在第一入射状态和第二入射状态之间切换, 在第 一入射状态中, 来自多个拍摄区之一的光入射在该拍摄部上, 在第二入射状态中, 通过反射 单。

20、元将来自另一个拍摄区的光引导至该拍摄部上。 0035 在三维测量装置中, 投影单元可以包括遮光罩, 该遮光罩限制条纹的投射, 使得该 条纹不投射至可投影区中多个拍摄区之外的区域。 0036 因此, 可以防止由于将条纹投射至可投影区中不必要的区域以及漫反射光入射到 拍摄单元上的事实而导致的检查区的测量精度下降。 0037 如上所述, 根据本发明的实施方式, 提供了一种能够解决光晕或阴影问题的三维 测量装置。 附图说明 0038 图 1 是示出了根据本发明实施方式的三维测量装置的示图 ; 0039 图 2 是示出了将通过三维测量装置进行三维测量的测量对象的示例的示图 ; 0040 图 3 是示出了。

21、投影单元的光学系统的示图 ; 0041 图 4 是示出了遮光罩的平面视图 ; 0042 图 5 是示出了投射在基板上的条纹的形状并示出了可投影区与拍摄区之间的关 系的平面视图 ; 0043 图 6 是示出了根据本发明实施方式的三维测量装置的控制单元的处理的流程图 ; 0044 图 7 是示出了在检查区位于第一拍摄区时由形成在检查区中的诸如焊料的检查 对象所形成的阴影的形状的示图 ; 0045 图 8 是示出了在检查区位于第二拍摄区时由检查对象所形成的阴影的形状的示 图 ; 说 明 书 CN 102628677 A 6 4/14 页 7 0046 图 9 是示出了用于消除阴影影响的多个拍摄区的位。

22、置并示出了检查对象位于这 些拍摄区时所形成的阴影的形状的示图 ; 0047 图 10 是示出了检查对象位于拍摄区时所形成的阴影的形状的示图 ; 0048 图 11 是示出了检查对象位于拍摄区时所形成的阴影的形状的示图 ; 0049 图 12 是示出了检查对象位于拍摄区时所形成的阴影的形状的示图 ; 0050 图 13 是示出了根据本发明另一实施方式的设置在可投影区中的多个拍摄区的示 图 ; 0051 图 14 是示出了用于消除光晕影响的多个拍摄区的位置并示出了检查对象位于这 些拍摄区时光晕的影响的示图 ; 0052 图 15 是示出了检查对象位于拍摄区时光晕的影响的示图 ; 0053 图 16。

23、 是示出了检查对象位于拍摄区时光晕的影响的示图 ; 0054 图 17 是示出了检查对象位于拍摄区时光晕的影响的示图 ; 0055 图 18 是示出了根据另一实施方式的三维测量装置的处理的流程图 ; 0056 图 19A 至图 19D 是示出了当拍摄区设置在偏离 0、 45、 90、 135以及 180的位置时光晕的影响的示图 ; 0057 图 20 是示出了根据又一实施方式的设置在可投影区中的多个拍摄区的示图 ; 以 及 0058 图 21 是示出了能够对两个以上的拍摄区进行逐一拍摄的拍摄部的示例的示图。 具体实施方式 0059 下文中, 将参照附图描述本发明的实施方式。 0060 第一实施。

24、方式 0061 三维测量装置 100 的整体构成以及各单元的构成 0062 图 1 是示出了根据本发明第一实施方式的三维测量装置 100 的示图。图 2 是示出 了将通过三维测量装置 100 进行三维测量的测量对象 10 的示例的示图。 0063 如图 2 所示, 根据该实施方式, 将描述具有多个检查区 11(11A 至 11J) 的基板 10 的示例作为将通过三维测量装置 100 进行三维测量的测量对象 10 的示例。例如, 在检查区 11, 印制焊料作为检查对象 12( 参见图 7 和图 8 等图 )。在图 2 中示出的示例中, 基板 10 具 有十个检查区 11。 0064 如图 1 所。

25、示, 三维测量装置 100 包括基板 10 载置于其上的载物台 45、 载物台移动 机构 46( 移动单元 )、 投影单元 20、 拍摄单元 30、 控制单元 41、 存储单元 42、 显示单元 43 以 及输入单元 44。 0065 通过例如投影仪来构造投影单元 20。将投影单元 20 设置成光轴 4 垂直于基板 10 的表面 ( 投影表面 )。 0066 图 3 是示出了投影单元 20 的光学系统 21 的示图。图 4 是示出了遮光罩 26 的平 面视图。图 5 是示出了投射至基板 10 的条纹的形状并示出了可投影区 2 和拍摄区 1 之间 的关系的平面视图。 0067 如图 3 所示, 。

26、投影单元 20 包括光学系统 21。光学系统 21 包括光源 22 ; 聚光透镜 23 ; 用于将来自光源22的光会聚 ; 相位光栅24, 用于使被聚光透镜23会聚的光穿过以形成 说 明 书 CN 102628677 A 7 5/14 页 8 条纹 ; 以及投影透镜 25, 用于将穿过相位光栅 24 的光投射至基板 10 的表面。光学系统 21 被构造为整个光学系统 21 的光轴 4 垂直于基板 10 的表面。 0068 光源 22 的示例包括卤素灯、 氙灯、 汞灯以及 LED( 发光二极管 ), 但光源 22 的种类 并不被特定地限制。相位光栅 24 包括多个狭缝。相位光栅 24 利用多个狭。

27、缝形成了亮度正 弦变化的条纹, 并且将该条纹投射至基板 10 的表面。 0069 相位光栅 24 设置有用于使相位光栅 24 在与形成狭缝的方向垂直的方向 (X 轴方 向 ) 上移动的光栅移动机构 ( 未示出 )。光栅移动机构在控制单元 41 的控制下移动相位光 栅24, 并且使投射至基板10的条纹的相位移动。 可以采用用于显示光栅形条纹的液晶光栅 等来代替相位光栅 24 和光栅移动机构。 0070 参照图3至图5, 当从投影单元20至基板10作垂直线时, 投影单元20能够将条纹 投射至该垂直线和基板 10 的表面 ( 投影表面 ) 之间的交点 3 的外围区域。此外, 将作为垂 直线和基板 1。

28、0 的表面 ( 投影表面 ) 之间的交点 3 的外围区域并且条纹能够投射至的区域 称作可投影区 2。在该实施方式中, 如上所述, 由于光轴 4 垂直于基板 10 的表面, 所以从投 影单元 20 开始至基板 10 的垂直线与该光轴吻合。因此, 在该实施方式中, 光轴和基板的表 面 ( 投影表面 ) 之间的交点 3 的外围区域成为可投影区 2。这里, 由于投影单元 20 的光轴 4垂直于基板10的表面, 所以投影单元20能够将没有图像变形而具有均匀宽度的条纹投射 至整个可投影区 2。当光轴 4 相对于基板的表面倾斜时, 在一些情况下条纹图像会变形。 0071 可投影区 2 中布置有多个拍摄区 1。

29、(1A 和 1B)。条纹所投射至的检查区 11 在拍摄 区 1 中被拍摄。由于可投影区 2 被构造为以交点 3 为中心的宽广区域, 所以在可投影区 2 中可设置有多个拍摄区 1。进一步, 由于投影单元 20 能够将没有图像变形而具有均匀宽度 的条纹投射至整个可投影区 2, 所以拍摄区 1 可以设置在可投影区 2 中的任意位置。 0072 为了消除阴影的影响 ; 消除光晕的影响以及提高检查速度, 可以任意地设定可投 影区 2 中拍摄区 1 的数量或拍摄区 1 的位置。 0073 在该实施方式中, 将描述例如为了消除阴影的影响, 在可投影区 2 中设置多个拍 摄区1的情况。 拍摄区1的数量为两个。。

30、 在该实施方式中, 为了便于理解, 设置两个拍摄区, 即, 第一拍摄区 1A 和第二拍摄区 1B。以交点 3 为基准, 第一拍摄区 1A 和第二拍摄区 1B 设 置在彼此相对的位置 (180 )。稍后将详细描述可投影区 2 中拍摄区 1 的相对位置。 0074 参照图 3 和图 4, 在投影透镜 25 的下方形成遮光罩 26。这里, 当将条纹投射至可 投影区 2 中第一拍摄区 1A 和第二拍摄区 1B 之外的区域时, 会发生漫反射, 从而漫反射条纹 入射在拍摄单元 30 上。因此, 会担心检查对象 12 的测量精度降低。 0075 因此, 在该实施方式中, 设置用于限制条纹投射的遮光罩 26,。

31、 以防止条纹投射至可 投影区 2 中第一拍摄区 1A 和第二拍摄区 1B 之外的区域。例如, 通过在圆形薄板件中形成 开口 27(27A 和 27B) 来形成遮光罩 26。开口 27A 和 27B 设置在与设置在可投影区 2 中的第 一拍摄区 1A 和第二拍摄区 1B 的位置相对应的位置处。 0076 如图 5 所示, 遮光罩 26 能够防止将条纹投射至第一拍摄区 1A 和第二拍摄区 1B 之外的区域。因此, 能够防止由于入射在拍摄单元 30 上的漫反射条纹所导致的检查对象 12( 为焊料 ) 的测量精度的下降。 0077 在图 3 中, 遮光罩 26 设置在投影透镜 25 的下方。然而, 遮。

32、光罩 26 可以设置在光 源 22 和聚光透镜 23 之间、 聚光透镜 23 和相位光栅 24 之间、 或相位光栅 24 和投影透镜 25 说 明 书 CN 102628677 A 8 6/14 页 9 之间。 0078 返回参照图 1, 拍摄单元 30 包括分别对应于第一拍摄区 1A 和第二拍摄区 1B 的 第一拍摄部 31 和第二拍摄部 32。第一拍摄部 31 和第二拍摄部 32 均包括拍摄元件, 例如 CCD( 电荷耦合器件 ) 传感器或 CMOS( 互补金属氧化物半导体 ) 传感器。第一拍摄部 31 和 第二拍摄部 32 均包括用于利用来自拍摄区 1 的光在拍摄元件的拍摄表面上形成图像。

33、的诸 如图像形成透镜的光学系统。第一拍摄部 31 和第二拍摄部 32 在控制单元 41 的控制下, 对 基板 10 上投射有条纹的检查区 11 进行拍摄。 0079 载物台 45 被构造为保持基板 10。载物台移动机构 46 根据来自控制单元 41 的驱 动信号使载物台 45 在 XY 方向上移动。通过使载物台 45 在 XY 方向上移动, 载物台移动机 构 46 改变基板 10 的检查区 11 相对于拍摄区 1 的相对位置。 0080 通过例如液晶显示器来构造显示单元 43。显示单元 43 在控制单元 41 的控制下, 显示基板 10 上检查区 11 的三维图像。通过键盘、 鼠标、 触摸屏等。

34、来构造输入单元 44。输入 单元 44 输入来自用户的指令。 0081 存储单元 42 包括用于存储三维测量装置 100 进行处理所必要的各种程序的非易 失性存储器 ( 例如 ROM( 只读存储器 ) ; 以及用作控制单元 41 的工作区的易失性存储器, 例如 RAM( 随机存取存储器 )。 0082 通过例如 CPU( 中央处理单元 ) 来构造控制单元 41。控制单元 41 基于存储在存储 单元 42 中的各种程序, 整体控制三维测量装置 100。例如, 控制单元 41 将载物台移动机构 46控制为载物台移动机构46改变检查区11相对于拍摄区1的相对位置, 以使检查区11和 拍摄区 1 的位。

35、置吻合。控制单元 41 将光栅移动机构控制为光栅移动机构使投射至基板 10 的条纹的相位移动。进一步, 控制单元 41 将拍摄单元 30 控制为拍摄单元 30 捕获投射有条 纹的检查区 11 的图像, 或者基于捕获的图像利用相位偏移法计算检查区 11 的三维形状。 0083 处理的描述 0084 图 6 是示出了三维测量装置 100 的控制单元 41 的处理的流程图。 0085 首先, 三维测量装置 100 的控制单元 41 控制载物台移动机构 46, 以使得载物台移 动机构 46 将载物台 45 移动达到基板 10 的接受位置。载物台移动机构 46 从基板传送设备 ( 未示出 ) 接受基板 。

36、10(ST 101)。 0086 接下来, 控制单元41控制载物台移动机构46, 使得载物台移动机构46移动载物台 45, 并且使多个检查区 11 中的一个检查区 11 与第一拍摄区 1A 的位置吻合 (ST 102)。在这 种情况下, 多个检查区 11 中位于图 2 中的左上部分的检查区 11A 与第一拍摄区 1A 的位置 吻合。接下来, 控制单元 41 使光从投影单元 20 发出, 使得投影单元 20 将条纹投射至与第 一拍摄区 1A 的位置吻合的检查区 11(ST 103)。 0087 图 7 是示出了检查区 11 位于第一拍摄区 1A 时由形成在检查区 11 中的检查对象 12( 例如。

37、, 焊料 ) 所形成的阴影的形状的示图。如图 7 所示, 当检查区 11 位于第一拍摄区 1A 时, 在检查对象 12 的右侧形成阴影。 0088 当投射条纹时, 控制单元 41 使第一拍摄部 31 在第一拍摄区 1A 对投射有条纹的检 查区11进行拍摄(ST 104)。 接下来, 控制单元41控制光栅移动机构, 使得光栅移动机构移 动相位光栅 24, 以使投射至检查区 11 的条纹的相位移动约 /2rad(ST 105)。当控制单 元 41 使条纹的相位移动时, 控制单元 41 随后确定是否捕获到四个图像 (ST 106)。 说 明 书 CN 102628677 A 9 7/14 页 10 。

38、0089 当未捕获到四个图像时(ST 106中为否), 该处理返回至ST 104, 并且控制单元41 拍摄投射有条纹的检查区 11。接着, 控制单元 41 再次将条纹的相位移动约 /2rad(ST 105), 并且再次确定是否捕获到四个图像 (ST106)。以这种方式, 捕获条纹相位彼此不同的 总共四个图像。 0090 当捕获到四个图像时 (ST 106 中为是 ), 控制单元 41 利用相位偏移法基于四个图 像计算图像的每个像素的高度 (ST 107)。在这种情况下, 控制单元 41 从这四个图像中提 取每个像素 ( 坐标 (x, y) 的亮度值, 并且通过应用下面的式子 (1) 计算每个像。

39、素的相位 (x, y)。接着, 控制单元基于算得的每个像素的相位 (x, y), 利用三角测量原理计算每 个像素的高度。 0091 在式子 (1) 中, 当相位为 0、 /2、 和 3/2 时, I0(x, y)、 I/2(x, y)、 I(x, y) 和 I3/2(x, y) 分别为像素 ( 坐标 ) 的亮度值。 0092 (x, y) Tan-1I3/2(x, y)-I/2(x, y)/I0(x, y)-I(x, y) .(1) 0093 如图 7 所示, 检查对象 12( 例如焊料 ) 的阴影部分的亮度为零。因此, 由于像素 ( 坐标 ) 中各图像之间的亮度值没有差别, 所以利用以上的式。

40、子 (1) 可算出相位 。因此, 控制单元 41 不能算出阴影部分中每个像素的高度。 0094 当计算每个像素的高度时, 控制单元 41 随后控制载物台移动机构 46, 使得载物台 移动机构 46 改变检查区 11 相对于拍摄区 1A 和 1B 的相对位置。接着, 控制单元 41 使先于 第一拍摄区 1A 即刻拍摄的检查区 11 与第二拍摄区 1B 的位置吻合 (ST 108)。当检查区 11 与第二拍摄区 1B 的位置吻合时, 将条纹投射至检查区 11(ST 109)。 0095 图8是示出了当检查区11位于第二拍摄区1B时通过检查对象12形成的阴影的形 状的示图。如图 8 中所示, 当检查。

41、区 11 位于第二拍摄区 1B 时, 在检查对象 12( 例如焊料 ) 的左侧形成阴影。然而, 可以将条纹投射至图 7 中已形成有阴影的检查对象 12 的右侧上。 0096 当投射条纹时, 控制单元 41 使第二拍摄部 32 对投射有条纹的检查区 11 进行拍摄 (ST 110)。接下来, 控制单元 41 控制光栅移动机构, 使得光栅移动机构移动相位光栅 24, 以在第二拍摄区 1B 中使投射至检查区 11 的条纹的相位移动约 /2rad(ST 111)。接下 来, 控制单元 41 确定是否捕获到四个图像 (ST 112)。 0097 当捕获到条纹相位彼此不同的总共四个图像时 (ST 112 。

42、中为是 ), 控制单元 41 利 用相位偏移法, 基于四个图像计算该图像的每个像素的高度。在这种情况下, 控制单元 41 利用以上的式子 (1), 通过相位偏移法计算每个像素 ( 坐标 ) 的高度。 0098 这里, 当检查区 11 位于第二拍摄区 1B 时, 检查区 11 位于第一拍摄区 1A 时所形成 的阴影部分 ( 参见图 7 和图 8) 不被阴影。因此, 在 ST 108, 控制单元 41 可对由于 ST 107 中的阴影而未算得其高度的像素 ( 坐标 ) 进行插值。以这种方式, 控制单元 41 能够准确地 计算检查区 11 中检查对象 12 的形状。也就是, 通过在多个拍摄区 1 中。

43、拍摄一个检查区 11, 并且计算检查对象 12 的三维形状, 能够消除阴影的影响。因此, 能够准确地计算检查对象 12 的形状。 0099 当计算检查区 11 的三维形状时, 控制单元 41 使检查区 11 的三维形状显示在显示 单元 43 上。用户观察该三维图像, 并且检查形成于基板 10 的检查区 11 中的检查对象 12。 由于显示在显示单元 43 上的图像是通过消除了阴影的影响而准确地形成的图像, 所以能 够准确地确定检查对象 12 的微小缺陷。 说 明 书 CN 102628677 A 10 8/14 页 11 0100 接下来, 控制单元 41 确定是否对于所有检查区 11 结束利。

44、用相位偏移法进行的检 查区 11 的三维形状的计算 (ST 114)。当不是对所有检查区 11 结束三维形状的计算 (ST 114 中为否 ) 时, 控制单元 41 转变到计算随后检查区 11 的三维形状 (ST 115), 并且使随后 的检查区 11 与第一拍摄区 1A 的位置吻合 (ST 101)。接着, 重复从 ST 101 至 ST 114 的处 理。检查区 11 的三维形状的计算顺序不被特定地限制。例如, 以检查区 11A、 11B、 11C., 和 11J 的顺序计算三维形状。 0101 当对于基板 10 的所有检查区 11 结束三维形状的计算 (ST 114 中的是 ) 时, 控。

45、制 单元 41 控制载物台移动机构 46, 使得载物台移动机构 46 将基板 10 移动达到卸载位置, 并 且将基板 10 卸载 (ST 116)。接着, 控制单元 41 从基板传送装置接受新基板 10, 并且执行 从 ST 101 至 ST 116 的处理。 0102 如参照图 6 所描述的, 在拍摄区 1( 也就是, 在第一拍摄区 1A 和第二拍摄区 1B 两 者 ) 拍摄一个检查区 11, 接着拍摄随后的检查区 11。然而, 可以在第一拍摄区 1A 拍摄所有 检查区 11, 并且接着可以在第二拍摄区 1B 拍摄所有检查区 11。 0103 用于消除阴影的影响的多个拍摄区 1 的位置 01。

46、04 接下来, 将描述用于消除阴影影响的可投影区 2 中多个拍摄区的位置。 0105 图 9 至图 12 是示出了用于消除阴影影响的多个拍摄区 1 的位置以及示出了当检 查对象 12(12A 至 12D) 位于拍摄区 1 中 (1a 至 1h) 时所形成的阴影的形状的示图。图 9 至 图 12 示出了检查对象 12 以横向 (0 )、 纵向 (90 )、 +45方向以及 -45方向定位于基 板 10 上的检查区 11 中时的阴影的形状。 0106 如图 9 至图 12 所示, 在许多情况下, 基板 10 上的检查区 11 中所形成的诸如焊料 的检查对象 12(12A 至 12D) 通常具有沿一。

47、个方向为纵向长方体的形状。在这种情况下, 如 图 9 和图 10 所示, 最一般的是检查对象 12(12A 和 12B) 以横向 (0 )(x 轴方向 ) 或纵向 (90 )(y 轴方向 ) 形成在基板 10 上。最一般的是检查对象 12 以横向方向或纵向方向形 成, 另如图 11 和图 12 所示, 次之一般的是检查对象 12(12C 和 12D) 以 45方向形成。 0107 下面将参照图 9 至图 12 描述可投影区 2 中两个拍摄区 1 的相对位置。这里, 假定 两个拍摄区 1 中的一个拍摄区 1 设置在拍摄区 1a 的位置 ( 基准位置 )。现在将描述另一个 拍摄区 1 相对这一个拍。

48、摄区 1 的合适的相对位置。将假定在可投影区 2 中拍摄区 1a 的位 置为 0进行描述。 0108 首先, 参照图 9 至图 10, 将描述在检查区 11 中检查对象 12(12A 和 12B) 横向或纵 向形成的情况。在这种情况下, 当检查对象 12 位于拍摄区 1a 时, 在检查对象 12 的右侧形 成阴影。 0109 在定位在相对于拍摄区 1a 成 45角度的位置的拍摄区 1b 和 1h 中, 在检查对 象 12 位于拍摄区 1a 时形成阴影的部分中形成有阴影。然而, 在拍摄区 1c、 1g、 1d、 1f 以及 1e( 定位在相对于拍摄区 1a 成 90、 135以及 180角度的位置 ) 中, 在检查对象 12 设置在第一拍摄区 1a 时形成阴影的部分中未形成阴影。 0110 也就是, 当检查对象 12 横向或纵向形成时, 只要另一个拍摄区 1 落在相对这个拍 摄区 1 的 180 90的范围内, 就能适宜地消除阴影的影响。 0111 接下来, 参照图 11 至图 12, 将描述在检查区 11 中检查对象 12(12C 和 12D) 以 +45或-45方向形成的情况。 在这种情况下, 当检查对象12位于拍摄区1a时, 在检查对 说 明 书 CN 102628677 A 11 9/14 页 1。

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