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1、(10)申请公布号 CN 102314090 A (43)申请公布日 2012.01.11 CN 102314090 A *CN102314090A* (21)申请号 201110125415.8 (22)申请日 2011.05.10 G03F 7/09(2006.01) (71)申请人 刘华礼 地址 225329 江苏省泰州市高港区胡庄镇工 业集中区 1 号 (72)发明人 刘华礼 (54) 发明名称 一种 CTCP 版的制备方法 (57) 摘要 本发明公开了一种 CTCP 版的制备方法， 它包 括以下步骤 ： 选择基片， 对基片进行碱洗 ； 然后用 硫酸溶液对基片进行中和 ； 对基片表面进。
2、行粗糙 化处理 ； 用水进行冲洗， 除去基片表面的电解灰， 在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻， 化学蚀 刻后进行降温， 再用酸溶液进行第一次清洗， 最后 再用清水进行第二次清洗 ； 对清洗后的基片进行 阳极氧化处理 ； 将在酸性溶液中浸渍封孔处理， 然后进行烘干 ； 对烘干后的基片进行涂布， 形成 感光层 ； 对形成感光层的基片， 进行四道烘干处 理， 形成预制感光板 ； 将预制感光板进行曝光成 像， 最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得 到 CTCP 版。本发明不但不需要菲林片， 而且拥有 多层次的砂目， 氧化密细致且密度好， 耐印率较 高。 (51)Int.Cl. (19)中华人民共和。
3、国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 2 页 CN 102314094 A1/1 页 2 1. 一种 CTCP 版的制备方法， 其特征是它包括以下步骤 ： 步骤一， 首先选择基片， 在一定温度下通过 NaOH 溶液对基片进行碱洗， 然后再用清水 进行清洗 ； 步骤二， 在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和， 然后再用清水进行清 洗 ； 步骤三， 对清洗后的基片表面进行粗糙化处理 ； 步骤四， 将粗糙化后的基片用水进行冲洗， 除去基片表面的电解灰， 在一定温度下通过 碱溶液进行化学蚀刻， 化学蚀刻后进行降温， 再用酸溶液进行第一次清洗， 最后再用清水进 行第。
4、二次清洗 ； 步骤五， 对清洗后的基片进行阳极氧化处理 ； 步骤六， 将经过氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理， 然后进行烘干 ； 步骤七， 对烘干后的基片进行涂布， 形成感光层 ； 步骤八， 对形成感光层的基片， 进行四道烘干处理， 形成预制感光板 ； 步骤九， 将预制感光板进行曝光成像， 最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得到 CTCP 版。 2.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法， 其特征是所述的基片为铝板或者铝 合金板。 3. 根据权利要求 1 所述的一种 CTCP 版的制备方法， 其特征是步骤一中的碱洗过程为 ： 用浓度为 6-15， 温度为 45的 NaOH 溶液。
5、对基片正反面进行冲洗， 冲洗时间为 30 秒。 4. 根据权利要求 1 所述的一种 CTCP 版的制备方法， 其特征是步骤二中的中和过程为 ： 在常温下， 用浓度为 18-20的硫酸溶液对基片正反面进行冲洗， 冲洗时间为 30 秒。 5. 根据权利要求 1 所述的一种 CTCP 版的制备方法， 其特征是步骤三中的粗糙化处理 过程为 ： 将基片放入盐酸、 磷酸溶液中， 浓度为盐酸 1.2 -1.5， 磷酸 0.6， 溶液温度为 26-32， 交流电流为 800A-900A， 时间为 1-120 秒， 进行三相电解， 形成多层砂目。 6.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法， 其特征是步骤。
6、四中化学蚀刻的温度 为 70， 碱溶液包括 26wt的 NaOH 和 6wt铝离子， 化学蚀刻后温度降至 30， 酸溶液为 含有 1wt的硫酸和 0.5wt的铝离子。 7.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法， 其特征是步骤五中的阳极氧化处理 的过程为 ： 将基片放入电解质中通过直流电进行电解反应从而在基片的表面形成阳极氧化 膜 ； 电解质为硫酸、 磷酸、 铬酸、 氨基磺酸、 醋酸或者它们的混合物， 电解温度为 10-40， 电 流密度 0.5-60A/dm2， 电压为 1-50v， 电解反应时间为 10-120 秒。 8. 根据权利要求 1 所述的一种 CTCP 版的制备方法， 其特。
7、征是步骤六中封孔工艺为 ： 酸 性溶液为磷酸二氢钠、 氟化锆钾溶液， 比例为磷酸二氢钠氟化锆钾水1011000， 电导率为 2800-3000m， PH 值为 4-5， 加热到 50 -60， 将基片在酸性溶液中浸渍 20-30 秒， 然后用 40-50的热水进行清洗。 9.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法， 其特征是步骤七中的涂布液为普通 PS 版的快速感光胶。 10.根据权利要求1所述的一种CTCP版的制备方法， 其特征是步骤八中四道烘干， 分别 为 105、 80、 80、 80远红外加热管， 时间均为 90 秒。 权 利 要 求 书 CN 102314090 A CN 10。
8、2314094 A1/2 页 3 一种 CTCP 版的制备方法 技术领域 0001 本发明涉及一种 CTCP 版的制备方法。 背景技术 0002 目前市场上生产的普通阳图 PS 版， 均需要和菲林配套使用， 不仅使得成本较高， 而且耐印率较低。 发明内容 0003 本发明提供了一种 CTCP 版的制备方法， 它不但不需要菲林片， 而且拥有多层次的 砂目， 氧化密细致且密度好， 耐印率较高。 0004 本发明采用了以下技术方案 ： 一种 CTCP 版的制备方法， 它包括以下步骤 ： 步骤一， 首先选择基片， 在一定温度下通过 NaOH 溶液对基片进行碱洗， 然后再用清水进行清洗 ； 步 骤二， 。
9、在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和， 然后再用清水进行清洗 ； 步骤 三， 对清洗后的基片表面进行粗糙化处理 ； 步骤四， 将粗糙化后的基片用水进行冲洗， 除去 基片表面的电解灰， 在一定温度下通过碱溶液进行化学蚀刻， 化学蚀刻后进行降温， 再用酸 溶液进行第一次清洗， 最后再用清水进行第二次清洗 ； 步骤五， 对清洗后的基片进行阳极氧 化处理 ； 步骤六， 将经过氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理， 然后进行烘干 ； 步 骤七， 对烘干后的基片进行涂布， 形成感光层 ； 步骤八， 对形成感光层的基片， 进行四道烘干 处理， 形成预制感光板 ； 步骤九， 将预制感光板进行曝光成。
10、像， 最后在成像后的预制感光板 上涂有显影剂得到 CTCP 版。 0005 所述的基片为铝板或者铝合金板 ； 步骤一中的碱洗过程为 ： 用浓度为 6-15， 温 度为 45的 NaOH 溶液对基片正反面进行冲洗， 冲洗时间为 30 秒 ； 步骤二中的中和过程为 ： 在常温下， 用浓度为 18-20的硫酸溶液对基片正反面进行冲洗， 冲洗时间为 30 秒 ； 步骤 三中的粗糙化处理过程为 ： 将基片放入盐酸、 磷酸溶液中， 浓度为盐酸 1.2 -1.5， 磷酸 0.6， 溶液温度为 26-32， 交流电流为 800A-900A， 时间为 1-120 秒， 进行三相电解， 形成 多层砂目 ； 步骤四。
11、中化学蚀刻的温度为 70， 碱溶液包括 26wt的 NaOH 和 6wt铝离子， 化学蚀刻后温度降至 30， 酸溶液为含有 1wt的硫酸和 0.5wt的铝离子 ； 步骤五中的 阳极氧化处理的过程为 ： 将基片放入电解质中通过直流电进行电解反应从而在基片的表面 形成阳极氧化膜 ； 电解质为硫酸、 磷酸、 铬酸、 氨基磺酸、 醋酸或者它们的混合物， 电解温度 为 10-40， 电流密度 0.5-60A/dm2， 电压为 1-50v， 电解反应时间为 10-120 秒 ； 步骤六中 封孔工艺为 ： 酸性溶液为磷酸二氢钠、 氟化锆钾溶液， 比例为磷酸二氢钠氟化锆钾水 10 1 1000， 电导率为 2。
12、800-3000m， PH 值为 4-5， 加热到 50 -60， 将基片在酸性溶 液中浸渍 20-30 秒， 然后用 40-50的热水进行清洗 ； 步骤七中的涂布液为普通 PS 版的快 速感光胶 ； 步骤八中四道烘干， 分别为 105、 80、 80、 80远红外加热管， 时间均为 90 秒。 0006 本发明具有以下有益效果 ： 本发明提供了一种 CTCP 版的制备方法， 它不但不需要 说 明 书 CN 102314090 A CN 102314094 A2/2 页 4 菲林片， 而且拥有多层次的砂目， 氧化密细致且密度好， 耐印率较高。 具体实施方式 0007 本发明提供了一种 CTCP。
13、 版的制备方法， 它包括以下步骤 ： 步骤一， 首先选择基片， 所述的基片为铝板或者铝合金板 ； 在一定温度下通过 NaOH 溶液对基片进行碱洗， 碱洗过 程为 ： 用浓度为 6-15， 温度为 45的 NaOH 溶液对基片正反面进行冲洗， 冲洗时间为 30 秒 ； 然后再用清水进行清洗。步骤二， 在正常温度下对清洗后的基片用硫酸溶液进行中和， 中和过程为 ： 在常温下， 用浓度为 18-20的硫酸溶液对基片正反面进行冲洗， 冲洗时间为 30 秒 ； 然后再用清水进行清洗。步骤三， 对清洗后的基片表面进行粗糙化处理， 粗糙化处 理过程为 ： 将基片放入盐酸、 磷酸溶液中， 浓度为盐酸 1.2 。
14、-1.5， 磷酸 0.6， 溶液温度 为 26-32， 交流电流为 800A-900A， 时间为 1-120 秒， 进行三相电解， 形成多层砂目。步骤 四， 将粗糙化后的基片用水进行冲洗， 除去基片表面的电解灰， 在一定温度下通过碱溶液进 行化学蚀刻， 化学蚀刻的温度为 70， 碱溶液包括 26wt的 NaOH 和 6wt铝离子， 化学蚀 刻后温度降至 30， 再用酸溶液进行第一次清洗， 酸溶液为含有 1wt的硫酸和 0.5wt 的铝离子， 最后再用清水进行第二次清洗。步骤五， 对清洗后的基片进行阳极氧化处理， 阳 极氧化处理的过程为 ： 将基片放入电解质中通过直流电进行电解反应从而在基片的表。
15、面形 成阳极氧化膜 ； 电解质为硫酸、 磷酸、 铬酸、 氨基磺酸、 醋酸或者它们的混合物， 电解温度为 10-40， 电流密度0.5-60A/dm2， 电压为1-50v， 电解反应时间为10-120秒。 步骤六， 将经过 氧化处理后的基片在酸性溶液中浸渍封孔处理， 封孔工艺为 ： 酸性溶液为磷酸二氢钠、 氟化 锆钾溶液， 比例为磷酸二氢钠氟化锆钾水 10 1 1000， 电导率为 2800-3000m， PH值为4-5， 加热到50-60， 将基片在酸性溶液中浸渍20-30秒， 然后用40-50的热水 进行清洗 ； 然后进行烘干。 步骤七， 用普通PS版的快速感光胶对烘干后的基片进行涂布， 形 成感光层。步骤八， 对形成感光层的基片， 进行四道烘干处理， 形成预制感光板 ； 四道烘干， 分别为 105、 80、 80、 80远红外加热管， 时间均为 90 秒。步骤九， 将预制感光板进行 曝光成像， 最后在成像后的预制感光板上涂有显影剂得到 CTCP 版。 说 明 书 CN 102314090 A 。