一种合成高度有序超微孔二氧化硅的方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201210550555.4

申请日:

2012.12.18

公开号:

CN103058206A

公开日:

2013.04.24

当前法律状态:

驳回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):C01B 33/18申请公布日:20130424|||实质审查的生效IPC(主分类):C01B 33/18申请日:20121218|||公开

IPC分类号:

C01B33/18

主分类号:

C01B33/18

申请人:

泰山医学院

发明人:

朱延美; 王仁亮; 陈红余; 冀海伟; 葛海燕; 李莉

地址:

271000 山东省泰安市迎胜东路2号

优先权:

专利代理机构:

泰安市泰昌专利事务所 37207

代理人:

姚德昌

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内容摘要

本发明涉及一种合成高度有序超微孔二氧化硅的方法,具体步骤为:首先将十烷基三甲基溴化铵、辛基硫酸钠、硅酸钠、水混合,室温下搅拌0.5小时,摩尔比为1:0.1-0.4:1.5:800。然后用2mol/L的硫酸溶液调节pH为9-10之间,后经80℃水加热72小时,过滤、水洗、空气中干燥,并在530-560℃温度下焙烧3-5小时,得到产品。本技术所用的硅酸钠,短链正离子表面活性剂为十烷基三甲基溴化铵,短链负离子表面活性剂为辛基硫酸钠。本发明方法成本低廉,反应条件温和,产品孔道有序性高,为超微孔二氧化硅在未来的大规模开发利用提供一种新方法。

权利要求书

权利要求书一种合成高度有序超微孔二氧化硅的方法,其特征在于具体步骤为:首先将十烷基三甲基溴化铵、辛基硫酸钠、硅酸钠、水按照摩尔比为1:0.1‑0.4:1.5:800混合,室温下搅拌0.5小时,然后用2mol/L的硫酸溶液调节pH至9‑10之间,后经80℃水加热70‑75小时,过滤、水洗、空气中干燥,并在530‑560℃温度下焙烧3‑5小时,得到产品。
根据权利要求1所述的一种合成高度有序超微孔二氧化硅的方法,其特征在于取1.12g十烷基三甲基溴化铵和0.120‑0.36g辛基硫酸钠溶于30ml水中,搅拌0.5h得到溶液A,另取1.72g Na2SiO3·9H2O溶于30ml水中得到溶液B;将溶液A、B快速混合,在剧烈搅拌下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液,至pH为9‑10之间;然后在80℃的烘箱中恒温70‑75小时,得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干,得到复合产物;将复合产物以1.5℃/min的速度在空气中升温加热到530‑560℃,恒温焙烧3‑5小时得到产品。

说明书

说明书一种合成高度有序超微孔二氧化硅的方法 
技术领域
本发明属于无机化学、物理化学、材料科学、催化化学领域,具体涉及一种合成超微孔二氧化硅的方法。 
背景技术
超微孔(supermicroporous)分子筛是指其孔径介于微孔(孔径<1.0nm)介孔(孔径大于2nm小于50nm)之间的多孔材料。作为微孔和介孔材料的重要“桥梁”,超微孔材料在择形催化和选择性吸附方面具有重要意义。微孔材料孔径较小,诸如有机大分子、医药中间体等难以进入,而M41s系列的介孔分子筛,其孔径在2.0nm以上,对于动力学尺寸小于2.0nm的催化对象难以表现出理想的选择性催化,合成孔径尺寸在1.0‑2.0nm的超微孔分子筛具有很大的理论和实用价值。超微孔分子筛制备已有部分文献报道,主要是通过超分子化学模式合成,即类似于经典的M41s的合成方式:通过特定的表面活性剂和不同的硅源相互作用,得到特定介观结构的有机/无机复合材料,然后通过焙烧或萃取等方式除去有机物,从而得到多孔材料。Ryong Ryoo等人(Ryong Ryoo,In‑soo park,shinae Jun et al. J.Am.Chem.Soc.2001,123,1650‑1657)选用短的双链阳离子表面活性剂复配,成功制得超微孔二氧化硅。Zhou等人(Zhou Y,Antoniettim. Adv .Mater 2003,15(17):1452‑1455)利用离子液体为模板剂,通过纳米浇铸(nanocast)的方法合成了高度有序超微孔层状二氧化硅。Alexander K.L.Yuen等人(Alexander K.L. Yuen,Falk Heinroth,Antony J.Ward et al Microporous and Mesoporous Materials 2012,148:62‑72)合成了系列新型Bola型表面活性剂,并以此为模板剂合成了超微孔二氧化硅。 上述合成超微孔分子筛方法主要不足之处是模板剂商品化程度不高,不易购得,不适合大规模生产应用。 
发明内容
本发明的目的在于降低合成高度有序超微孔二氧化硅的成本,提供一种孔径均一,有序性高、比表面积大的超微孔二氧化硅的合成方法。 
本发明的技术方案是:首先将十烷基三甲基溴化铵、辛基硫酸钠、硅酸钠、水按照摩尔比为1:0.1‑0.4:1.5:800混合,室温下搅拌0.5小时,然后用2mol/L的硫酸溶液调节pH至9‑10之间,后经80℃水加热72小时,过滤、水洗、空气中干燥,并在530‑560℃温度下焙烧3‑5小时,得到产品。 
本发明所述的超微孔二氧化硅(1)材料孔径在1.0‑2.0nm之间; 
(2)材料的比表面积在800‑1200m2g‑1 ,总孔容在0.2‑0.9cm3g‑1;
(3)孔道结构有序度高,属于典型的二维六方(2D‑P6mm)结构。
正负离子混合表面活性剂复配系统具有很强的协同作用,在水中表现出复杂的相行为,不同配比的混合物在水中可以形成丰富的微观行为。但是,正负离子表面活性剂系统的缺点也比较明显,正负离子头基间的静电相互作用很强,在水中容易生成沉淀或絮状物,从而失去作用。本发明采用市场上易于购得的短链的正负离子表面活性剂,精确调整正负离子表面活性剂的比例,以廉价的硅酸钠为硅源,成功制得高度有序的超微孔二氧化硅。 
有益效果: 
1、本技术的关键在于采用合适比例的正负离子表面活性剂(十烷基三甲基溴化铵、辛基硫酸钠)混合胶束为模板,二者比例过高或者过低都不能生成高度有序的超微孔结构。
2、本技术方法成本低廉,所用到的正负离子表面活性剂、硅源皆为市场易购得商品,无需实验室合成,大规模合成的成本较低。 
3、本技术反应条件温和,产品孔道有序度高,比表面积在800‑1200m2g‑1 ,总孔容在0.2‑0.9cm3g‑1
附图说明
图1为本发明实施例2超微孔二氧化硅小角X射线衍射谱图。 
图2为本发明实施例3超微孔二氧化硅小角X射线衍射谱图。 
图3为本发明实施例4超微孔二氧化硅小角X射线衍射谱图。 
图4为本发明实施例5超微孔二氧化硅小角X射线衍射谱图。 
图5为本发明实施例3超微孔二氧化硅的SEM图。 
图6为本发明实施例3超微孔二氧化硅的N2吸附‑脱附等温线示意图。 
下面通过实例进一步描述本发明的特征,但本发明并不局限于下述实例 
具体实施方式
 实施例1  
室温下,取1.12g十烷基三甲基溴化铵和0.090g辛基硫酸钠溶于30ml水中,搅拌0.5h得到溶液A,另取1.72g Na2SiO3·9H2O溶于30ml水中得到溶液B;将溶液A、B快速混合,在剧烈搅拌下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液,至pH为9‑10之间;然后在80℃的烘箱中恒温70‑75小时,得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干,得到复合产物;将复合产物以1.5℃/min的速度在空气中升温加热到530‑560℃,恒温3‑5小时得到产品。XRD谱图如图1。在2θ为3左右出现衍射峰,但峰较宽,无法指标化。根据XRD上的d值计算晶胞参数a=3.26nm。N2吸附‑脱附法测得BET表面积为352m2g‑1 ,BJH孔径约为1.6nm,孔容在0.31cm3g‑1。
实施例2 
室温下,取1.12g十烷基三甲基溴化铵和0.136g辛基硫酸钠溶于30ml水中,搅拌0.5h得溶液A,另取1.72g Na2SiO3·9H2O溶于30ml水中得溶液B;将溶液A、B快速混合,在剧烈搅拌下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液,至pH为9‑10之间;然后在80℃的烘箱中恒温70‑75小时,得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干,得到复合产物;将复合产物以1.5℃/min的速度在空气中升温加热到530‑560℃,恒温3‑5小时得到产品。XRD谱图如图2。在2θ为3左右出现衍射峰,但峰较宽,无法指标化。根据XRD上的d值计算晶胞参数a=3.13nm。N2吸附‑脱附法测得BET表面积为486m2g‑1 ,BJH孔径约为1.6nm,孔容在0.31cm3g‑1。
实施例3  
室温下,取1.12g十烷基三甲基溴化铵和0.180g辛基硫酸钠溶于30ml水中,搅拌0.5h得溶液A,另取1.72g Na2SiO3·9H2O溶于30ml水中得溶液B;将溶液A、B快速混合,在剧烈搅拌下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液,至pH为9‑10之间;然后在80℃的烘箱中恒温70‑75小时,得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干,得到复合产物;将复合产物以1.5℃/min的速度在空气中升温加热到530‑560℃,恒温3‑5小时得到产品。XRD谱图如图3。图中出现3个明显的衍射峰,对衍射峰2θ的位置指标化确认为二维六方结构(2D‑P6mm),三个衍射峰对应于六方结构的(100)(110)(200)晶面衍射。根据XRD上的d值计算晶胞参数a=3.34nm。N2吸附‑脱附法测得BET表面积为1126m2g‑1 ,BJH孔径约为1.6nm,孔容在0.69cm3g‑1。
实施例4 
室温下,取1.12g十烷基三甲基溴化铵和0.278g辛基硫酸钠溶于30ml水中,搅拌0.5h得溶液A,另取1.72g Na2SiO3·9H2O溶于30ml水中得溶液B;将溶液A、B快速混合,在剧烈搅拌下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液,至pH为9‑10之间;然后在80℃的烘箱中恒温70‑75小时,得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干,得到复合产物;将复合产物以1.5℃/min的速度在空气中升温加热到530‑560℃,恒温3‑5小时得到产品。XRD谱图如图4。 图中出现3个明显的衍射峰,对衍射峰2θ的位置指标化确认为二维六方结构(2D‑P6mm),三个衍射峰对应于六方结构的(100)(110)(200)晶面衍射。根据XRD上的d值计算晶胞参数a=3.32nm。N2吸附‑脱附法测得BET表面积为1305m2g‑1 ,BJH孔径约为1.6nm,孔容在0.71cm3g‑1。
实施例5 
室温下,取1.12g十烷基三甲基溴化铵和0.360g辛基硫酸钠溶于30ml水中,搅拌0.5h得溶液A,另取1.72g Na2SiO3·9H2O溶于30ml水中得溶液B;将溶液A、B快速混合,在剧烈搅拌下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液,至pH为9‑10之间;然后在80℃的烘箱中恒温70‑75小时,得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干,得到复合产物;将复合产物以1.5℃/min的速度在空气中升温加热到530‑560℃,恒温3‑5小时得到产品。XRD谱图如图5。在2θ为3左右出现衍射峰,但峰较宽,无法指标化。根据XRD上的d值计算晶胞参数a=3.21nm。N2吸附脱附法测得BET表面积为580m2g‑1 ,BJH孔径约为1.6nm,孔容在0.45cm3g‑1。

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本发明涉及一种合成高度有序超微孔二氧化硅的方法,具体步骤为:首先将十烷基三甲基溴化铵、辛基硫酸钠、硅酸钠、水混合,室温下搅拌0.5小时,摩尔比为1:0.1-0.4:1.5:800。然后用2mol/L的硫酸溶液调节pH为9-10之间,后经80水加热72小时,过滤、水洗、空气中干燥,并在530-560温度下焙烧3-5小时,得到产品。本技术所用的硅酸钠,短链正离子表面活性剂为十烷基三甲基溴化铵,短链负离。

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