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本发明涉及一种合成高度有序超微孔二氧化硅的方法,具体步骤为:首先将十烷基三甲基溴化铵、辛基硫酸钠、硅酸钠、水混合,室温下搅拌0.5小时,摩尔比为1:0.1-0.4:1.5:800。然后用2mol/L的硫酸溶液调节pH为9-10之间,后经80水加热72小时,过滤、水洗、空气中干燥,并在530-560温度下焙烧3-5小时,得到产品。本技术所用的硅酸钠,短链正离子表面活性剂为十烷基三甲基溴化铵,短链负离。