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1、(10)申请公布号 CN 103149731 A (43)申请公布日 2013.06.12 CN 103149731 A *CN103149731A* (21)申请号 201310076478.8 (22)申请日 2013.03.11 G02F 1/1335(2006.01) G02B 5/20(2006.01) (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路 10 号 (72)发明人 齐永莲 舒适 惠官宝 (74)专利代理机构 北京天昊联合知识产权代理 有限公司 11112 代理人 罗建民 陈源 (54) 发明名称 彩膜基板的制作方法、 彩膜基板及显示装。
2、置 (57) 摘要 本发明提供一种彩膜基板的制作方法， 包括 ： 在衬底基板上形成黑矩阵图形和彩色滤光层图 形的步骤， 且所述黑矩阵图形在所述衬底基板上 分隔出多个亚像素区， 所述彩色滤光层覆盖在所 述多个亚像素区上， 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区， 在形成彩色滤光层图形之前， 所述制 作方法还包括 ： 在衬底基板上形成多个凹槽的步 骤， 亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个 凹槽的位置相对应。 相应地， 提供一种采用所述制 作方法制成的彩膜基板以及包括所述彩膜基板的 显示装置。本发明所述彩膜基板的制作方法既能 达到色彩协调的效果， 又能减少工艺次数和减小 平坦保护层厚度。 (51。
3、)Int.Cl. 权利要求书 2 页 说明书 9 页 附图 2 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书9页 附图2页 (10)申请公布号 CN 103149731 A CN 103149731 A *CN103149731A* 1/2 页 2 1. 一种彩膜基板的制作方法， 包括 ： 在衬底基板上形成黑矩阵图形和彩色滤光层图形 的步骤， 且所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区， 所述彩色滤光层覆盖 在所述多个亚像素区上， 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区， 其特征在于， 在形成彩色 滤光层图形之前， 所述制作方法还包括 ： 在衬。
4、底基板上形成多个凹槽的步骤， 且亚像素区中 的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。 2. 根据权利要求 1 所述的制作方法， 其特征在于， 形成所述彩色滤光层图形的步骤包 括 ： 在形成有多个凹槽的衬底基板上涂覆彩色光刻胶 ； 采用掩模板对所述彩色光刻胶进行曝光、 显影， 以在所述彩色光刻胶上形成保留区域 和去除区域， 其中， 所述保留区域的彩色光刻胶对应形成所述彩色滤光层图形， 所述去除区 域的彩色光刻胶被完全去除。 3. 根据权利要求 1 所述的制作方法， 其特征在于， 所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上 的彩色滤光层厚度的 0.4 0.6 倍。 4. 根据权利要求 3 所述的制作方法。
5、， 其特征在于， 所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上 的彩色滤光层厚度的 0.5 倍。 5. 根据权利要求 1-4 中任一项所述的制作方法， 其特征在于， 所述彩色滤光层至少包 括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层 ； 所述黑矩阵图形为网格状 ； 亚像素区中的每个 透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横截面形状相同。 6. 根据权利要求 1-4 中任一项所述的制作方法， 其特征在于， 所述制作方法还包括 ： 在 所述黑矩阵图形和彩色滤光层图形远离所述衬底基板的一侧形成平坦保护层的步骤。 7. 根据权利要求 6 所述的制作方法， 其特征在于， 所述制作方法还包括 ： 在所述平坦保护层远离所述衬底基。
6、板的一侧形成公共电极图形 和隔垫物图形的步骤 ； 或者， 所述制作方法还包括 ： 在所述衬底基板上未形成有黑矩阵图形及彩色滤光层图 形的一侧形成背面屏蔽电极图形的步骤， 和在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形 成隔垫物图形的步骤。 8. 一种彩膜基板， 包括 ： 衬底基板， 设置在所述衬底基板上的黑矩阵和彩色滤光层， 所 述黑矩阵组成的图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区， 所述彩色滤光层覆盖在所述 多个亚像素区上， 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区， 其特征在于， 所述衬底基板上设 置有多个凹槽， 且亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。 9. 根据权利要求 8。
7、 所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上 的彩色滤光层厚度的 0.4 0.6 倍。 10. 根据权利要求 9 所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上 的彩色滤光层厚度的 0.5 倍。 11. 根据权利要求 8-10 中任一项所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述彩色滤光层至少 包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层 ； 所述黑矩阵组成的图形为网格状 ； 亚像素区 中的每个透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横截面形状相同。 12. 根据权利要求 8-10 中任一项所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述彩膜基板还包括 平坦保护层， 所述平坦保护层设置。
8、在黑矩阵和彩色滤光层远离所述衬底基板的一侧。 权 利 要 求 书 CN 103149731 A 2 2/2 页 3 13. 根据权利要求 12 所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述彩膜基板还包括公共电极和 隔垫物， 所述公共电极设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧， 所述隔垫物设置在所 述公共电极远离所述衬底基板的一侧 ； 或者， 所述隔垫物设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧， 所述公共电极设 置在所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧。 14. 根据权利要求 12 所述的彩膜基板， 其特征在于， 所述彩膜基板还包括背面屏蔽电 极和隔垫物， 所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有黑矩。
9、阵和彩色滤光层的一侧， 所述隔垫 物设置在平坦保护层远离所述衬底基板的一侧。 15. 一种显示装置， 包括如权利要求 8-14 中任一项所述的彩膜基板。 权 利 要 求 书 CN 103149731 A 3 1/9 页 4 彩膜基板的制作方法、 彩膜基板及显示装置 技术领域 0001 本发明涉及液晶显示技术领域， 具体涉及一种彩膜基板的制作方法、 采用该制作 方法制成的彩膜基板以及包括所述彩膜基板的显示装置。 背景技术 0002 由于液晶显示器为非自发光的显示器， 因此需要为其中的显示面板配置光源 （如 背光源、 前光源或外界光源） 才能显示图像。按照光源的利用方式不同， 可将液晶显示器分 为。
10、透射式显示器、 半透半反式显示器和反射式显示器。 其中， 半透半反式显示器由于能够同 时利用外界光源和背光源所发射的光线， 在户外阳光环境下、 无光或弱光环境下均有良好 的显示效果， 因而逐渐受到瞩目。 0003 半透半反式显示器中的显示面板一般由阵列基板和彩膜基板 （CF， Color Filter， 又称彩色滤光片） 进行对盒， 并在阵列基板与彩膜基板之间填充液晶而成。所述彩膜基板包 括设置在衬底基板上的黑矩阵 （BM， Black Matrix） 、 彩色滤光层 （RGB） 和平坦保护层 （OC， Over Coat） ， 所述黑矩阵组成的图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区， 所述彩。
11、色滤 光层覆盖在所述多个亚像素区上。 每个亚像素区均可分为透射区和反射区， 其中， 反射区上 具有适于将外界光源 （如阳光或灯光等） 所发射的光线进行反射的反射电极或反射层。可以 看出， 进入反射区的光线会经过彩色滤光层两次， 进入透射区的光线只经过彩色滤光层一 次， 故对于同一亚像素区， 其透射区与反射区所显示的图像会产生色彩不协调的现象。 0004 为解决上述问题， 一般会将彩膜基板中的彩色滤光层厚度进行调整， 使透射区对 应的彩色滤光层厚度增加， 或使反射区对应的彩色滤光层厚度减少， 从而使透射区和反射 区内所呈现的图像色彩均匀一致， 达到色彩协调的效果。 0005 现有技术中， 一般采。
12、用如下方式制作半透半反式显示器中的彩色滤光层 ： 0006 方法一 ： 在形成有黑矩阵的衬底基板上形成一彩色光刻胶层， 采用掩模板对其进 行曝光、 显影， 以形成透射区对应的彩色滤光层， 而形成在反射区内的彩色滤光层设置有光 孔， 以协调色彩。对于不同颜色的滤光层来说， 该方法中反射区的形状及面积均不同， 因此 无法共用掩模板， 若彩色滤光层包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层， 则采用该方法 制作彩色滤光层时需要三张掩模板及三次曝光、 显影工艺， 采用的掩模板数量较多， 成本较 高。 0007 方法二 ： 在形成有黑矩阵的衬底基板上形成一彩色光刻胶层， 使用半色调或灰色 调掩模板对其进行。
13、曝光、 显影， 所述半色调或灰色调掩模板包括掩模板非透射区域、 掩模板 部分透射区域和掩模板透射区域， 以正性彩色光刻胶为例， 所述掩模板非透射区域在彩色 光刻胶上对应形成彩色光刻胶保留区域， 即形成透射区对应的彩色滤光层， 所述掩模板部 分透射区域在彩色光刻胶上对应形成光刻胶部分保留区域， 即形成反射区对应的彩色滤光 层， 所述掩模板透射区域在彩色光刻胶上对应形成光刻胶完全去除区域。可见透射区对应 的彩色滤光层厚度大于反射区对应的彩色滤光层厚度， 以协调色彩。若彩色滤光层包括红 色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层， 则采用该方法制作彩色滤光层时需要一张半色调或 说 明 书 CN 103149。
14、731 A 4 2/9 页 5 灰色调掩模板 （因为红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层的图形一样， 故可以共用一张掩 模板） 及三次曝光、 显影工艺， 故与方法一相比， 所需的掩模板的数量大大减少。但是， 采用 半色调或灰色调掩模板对彩色光刻胶层进行曝光时， 其部分透射区域的曝光程度不易精确 控制， 进而使得反射区对应的彩色滤光层厚度不易精确控制， 故色彩协调的效果不是很理 想。 0008 方法三 ： 先在形成有黑矩阵的衬底基板上形成一彩色光刻胶层， 使用一掩模板对 其进行曝光、 显影， 形成透射区对应的第一彩色滤光层 ； 然后在所述衬底基板上再形成一彩 色光刻胶层， 使用另一掩模板对其进行。
15、曝光、 显影， 形成透射区对应的第二彩色滤光层及反 射区对应的彩色滤光层， 其中， 透射区对应的第二彩色滤光层形成于第一彩色滤光层正上 方， 可见透射区对应的第一彩色滤光层和第二彩色滤光层厚度和大于反射区对应的彩色滤 光层厚度， 并且可通过调整两次形成的彩色光刻胶层的厚度来调整透射区与反射区对应的 彩色滤光层厚度之差， 以达到色彩协调的效果。但是， 采用这种方法制作彩色滤光层时， 与 方法二相比， 既增加了掩模板的数量， 又增加了曝光、 显影工艺的次数。 例如， 若彩色滤光层 包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层， 则采用该方法制作彩色滤光层时需要两张掩 模板及六次曝光、 显影工艺， 故与。
16、方法一相比该方法增加了工艺步骤和时间， 提高了制造成 本。 0009 同时， 采用上述方法制成的彩色滤光层中， 由于透射区对应的彩色滤光层厚度大 于反射区对应的彩色滤光层厚度， 增大了该彩色滤光层对应的彩膜基板上的段差， 为了消 除段差， 该彩色滤光层对应的彩膜基板中的平坦保护层比现有透射式显示器或反射式显示 器中的彩膜基板中的平坦保护层的厚度更厚， 故上述方法还存在浪费材料的缺点。 发明内容 0010 本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中所存在的上述缺陷， 提供一种既能 达到色彩协调的效果， 又能减少工艺次数和减小平坦保护层厚度的彩膜基板的制作方法、 采用该制作方法制成的彩膜基板以及包括。
17、所述彩膜基板的显示装置。 0011 解决本发明技术问题所采用的技术方案 ： 0012 所述彩膜基板的制作方法包括 ： 在衬底基板上形成黑矩阵图形和彩色滤光层图形 的步骤， 且所述黑矩阵图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区， 所述彩色滤光层覆盖 在所述多个亚像素区上， 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区， 其中， 在形成彩色滤光层 图形之前， 所述制作方法还包括 ： 在衬底基板上形成多个凹槽的步骤， 且亚像素区中的每个 透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。 0013 优选地， 形成所述彩色滤光层图形的步骤包括 ： 0014 在形成有多个凹槽的衬底基板上涂覆彩色光刻胶 ； 0015 采用。
18、掩模板对所述彩色光刻胶进行曝光、 显影， 以在所述彩色光刻胶上形成保留 区域和去除区域， 其中， 所述保留区域的彩色光刻胶对应形成所述彩色滤光层图形， 所述去 除区域的彩色光刻胶被完全去除。 0016 优选地， 所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的 0.4 0.6 倍。 0017 优选地， 所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的 0.5 倍。 0018 优选地， 所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层 ； 所述黑 说 明 书 CN 103149731 A 5 3/9 页 6 矩阵图形为网格状 ； 亚像素区中的每个透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横截。
19、面形 状相同。 0019 优选地， 所述制作方法还包括 ： 在所述黑矩阵图形和彩色滤光层图形远离所述衬 底基板的一侧形成平坦保护层的步骤。 0020 优选地， 所述制作方法还包括 ： 在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成 公共电极图形和隔垫物图形的步骤 ； 0021 或者， 所述制作方法还包括 ： 在所述衬底基板上未形成有黑矩阵图形及彩色滤光 层图形的一侧形成背面屏蔽电极图形的步骤， 和在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一 侧形成隔垫物图形的步骤。 0022 本发明同时提供一种彩膜基板， 包括 ： 衬底基板， 设置在所述衬底基板上的黑矩阵 和彩色滤光层， 所述黑矩阵组成的图形在所述衬底基。
20、板上分隔出多个亚像素区， 所述彩色 滤光层覆盖在所述多个亚像素区上， 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区， 其中， 所述衬 底基板上设置有多个凹槽， 且亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对 应。 0023 优选地， 所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的 0.4 0.6 倍。 0024 优选地， 所述凹槽的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的 0.5 倍。 0025 优选地， 所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层 ； 所述黑 矩阵组成的图形为网格状 ； 亚像素区中的每个透射区的横截面形状均与其对应的凹槽的横 截面形状相同。 0026 优选地。
21、， 所述彩膜基板还包括平坦保护层， 所述平坦保护层设置在黑矩阵和彩色 滤光层远离所述衬底基板的一侧。 0027 优选地， 所述彩膜基板还包括公共电极和隔垫物， 0028 所述公共电极设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧， 所述隔垫物设置 在所述公共电极远离所述衬底基板的一侧 ； 0029 或者， 所述隔垫物设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧， 所述公共电 极设置在所述隔垫物远离所述衬底基板的一侧。 0030 优选地， 所述彩膜基板还包括背面屏蔽电极和隔垫物， 0031 所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有黑矩阵和彩色滤光层的一侧， 所述 隔垫物设置在平坦保护层远离所述衬底基板。
22、的一侧。 0032 本发明同时还提供一种包括所述彩膜基板的显示装置。 0033 有益效果 ： 0034 本发明提供的彩膜基板的制作方法由于预先在衬底基板上形成了多个凹槽， 并使 亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应， 对于同一颜色的彩色滤光 层来说， 使得透射区对应的 （即覆盖在透射区上的） 彩色滤光层厚度比反射区对应的 （即覆 盖在反射区上的） 彩色滤光层厚度厚， 并可通过调整凹槽的深度来调整透射区与反射区对 应的彩色滤光层厚度之差， 从而达到色彩协调的效果， 并且减少了工艺的次数和时间， 降低 了制造成本 ； 0035 同时， 由于彩色滤光层采用涂覆的方式 （例如旋涂的方。
23、式） 形成， 虽然透射区对应 的彩色滤光层厚度与反射区对应的彩色滤光层厚度不同， 但是透射区和反射区分别对应的 说 明 书 CN 103149731 A 6 4/9 页 7 彩色滤光层的表面具有一定的平坦度， 即表面并无段差或者段差较小， 故形成在彩色滤光 层和黑矩阵上的平坦保护层比现有半透半反式显示器中的平坦保护层的厚度薄 （与现有透 射式显示器或反射式显示器中的平坦保护层的厚度近似） ， 故节省了材料。 0036 本发明所述彩膜基板的制作方法还具有工艺简单、 实用、 可靠性高的优点。 附图说明 0037 图 1 为本发明实施例 1 中所述彩膜基板制作方法的流程图 ； 0038 图 2 为本。
24、发明实施例 2 中所述彩膜基板制作方法的流程图 ； 0039 图 3 为图 2 中完成步骤 s201 后的彩膜基板的结构示意图 ； 0040 图 4 为图 2 中完成步骤 s202 后的彩膜基板的结构示意图 ； 0041 图 5 为图 2 中完成步骤 s203 后的彩膜基板的结构示意图 ； 0042 图 6 为图 2 中完成步骤 s204 后的彩膜基板的结构示意图。 0043 图中 ： 1衬底基板 ； 2黑矩阵 ； 3凹槽 ； 4红色滤光层 ； 5绿色滤光层 ； 6 蓝色滤光层 ； 7 平坦保护层 ； 透射区 ； 反射区。 具体实施方式 0044 为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，。
25、 下面结合附图和实施例对本 发明所述彩膜基板的制作方法、 彩膜基板及显示装置作进一步详细描述。 0045 实施例 1 ： 0046 如图 1 所示， 本实施例提供一种彩膜基板的制作方法， 包括如下步骤 ： 0047 s100. 提供一衬底基板。 0048 所述衬底基板应经过洁净后无尘无杂质离子。所述衬底基板可采用玻璃基板、 石 英基板、 塑料基板等透明基板。 0049 s101. 在衬底基板上形成多个凹槽。 0050 所述多个凹槽的形成方法具体为 ： 在衬底基板上涂敷一层光刻胶， 采用掩模板对 所述光刻胶进行曝光、 显影， 以在所述衬底基板上形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域， 其中， 光刻胶。
26、去除区域对应所述多个凹槽的区域， 然后对暴露出来的衬底基板进行刻蚀， 最 后通过光刻胶剥离工艺将剩余的光刻胶剥离， 以形成多个凹槽。 0051 s102. 在完成步骤 s101 的衬底基板上形成黑矩阵图形， 所述黑矩阵图形在所述衬 底基板上分隔出多个亚像素区， 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区， 且亚像素区中的 每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。 0052 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区指的是 ： 每个亚像素区中既包括透射区又 包括反射区 ； 或者， 某些亚像素区只包括透射区， 某些亚像素区只包括反射区。 当然， 不论是 哪种情况， 所述衬底基板上只有透射区对应的位置处。
27、形成有凹槽。当每个亚像素区中既包 括透射区又包括反射区时， 其中的透射区与反射区的形状及位置关系不限， 例如所述透射 区与反射区分别位于该亚像素区的左右两侧 ； 或者， 所述透射区位于中心， 所述反射区位于 透射区的四周并将其包围 （近似于 “回” 字） 。 0053 所述黑矩阵可采用树脂或金属等制成。 0054 s103. 在完成步骤 s101 的衬底基板上形成彩色滤光层图形， 所述彩色滤光层覆盖 说 明 书 CN 103149731 A 7 5/9 页 8 在所述多个亚像素区上。 0055 优选地， 形成所述彩色滤光层图形的步骤包括 ： 0056 在形成有黑矩阵图形和多个凹槽的衬底基板上涂。
28、覆彩色光刻胶， 所述彩色光刻胶 的涂覆方式可采用旋涂的方式 ； 0057 采用掩模板对所述彩色光刻胶进行曝光、 显影， 以在所述彩色光刻胶上形成保留 区域和去除区域， 其中， 所述保留区域的彩色光刻胶对应形成所述彩色滤光层图形， 所述去 除区域的彩色光刻胶被完全去除。 0058 优选地， 所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层。 需要说 明的是， 所述彩色滤光层不限于包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层的情况， 还可以 包括黄色滤光层、 透明色滤光层、 酒红色滤光层、 紫色滤光层等， 对于本领域技术人员能想 到的所有颜色及其组合或变型形成的彩色滤光层都可以作为本发明实施。
29、例中所述的彩色 滤光层。 0059 需要说明的是， 本实施例中， 步骤s101、 s102和s103的顺序并不是固定的， 还可以 有如下顺序 ： s102 s101 s103 或 s101 s103 s102。也就是说， 可以先在衬底基板 上形成黑矩阵图形， 然后在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成多个凹槽， 再在形成有黑 矩阵图形和多个凹槽的衬底基板上形成彩色滤光层图形 ； 也可以先在衬底基板上形成多个 凹槽， 然后在形成有多个凹槽的衬底基板上形成彩色滤光层图形， 再在形成有多个凹槽和 彩色滤光层图形的衬底基板上形成黑矩阵图形。 0060 可见， 对于同一颜色的滤光层来说， 彩膜基板上透射区对。
30、应的 （即覆盖在透射区上 的） 彩色滤光层厚度比反射区对应的 （即覆盖在反射区上的） 彩色滤光层厚度厚， 可通过调 整所述多个凹槽的深度来调整透射区与反射区对应的彩色滤光层厚度之差， 从而达到色彩 协调的效果。 0061 实施例 2 ： 0062 如图 2 所示， 本实施例提供一种彩膜基板的制作方法， 包括如下步骤 ： 0063 s200. 提供一衬底基板。 0064 所述衬底基板应经过洁净后无尘无杂质离子。所述衬底基板可采用玻璃基板、 石 英基板、 塑料基板等透明基板。 0065 s201. 在衬底基板上形成黑矩阵图形， 所述黑矩阵图形为网格状， 所述黑矩阵图形 在所述衬底基板上分隔出多个亚。
31、像素区， 所述亚像素区包括透射区和反射区。完成该步骤 的彩膜基板的结构如图 3 所示， 本实施例中， 所述亚像素区中的反射区位于透射区的 四周并将其包围， 以达到更好的显示效果。 0066 具体地， 以黑矩阵材质采用金属材料为例， 在衬底基板 1 上沉积黑矩阵薄膜， 然后 在其上涂敷一层光刻胶， 采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、 显影， 以在所述衬底基板上形 成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域， 其中， 光刻胶保留区域对应黑矩阵图形的区域， 再对 暴露出来的黑矩阵薄膜进行刻蚀， 最后通过光刻胶剥离工艺将剩余的光刻胶剥离， 形成黑 矩阵 2 图形。若黑矩阵材质采用感光性树脂， 利用其感光性质， 可。
32、省略使用光刻胶， 直接进 行曝光、 显影即可制得黑矩阵 2 图形。 0067 s202. 在完成步骤 s201 的衬底基板上形成多个凹槽， 并使得亚像素区中的每个透 射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应， 且亚像素区中的每个透射区的横截面形状均与 说 明 书 CN 103149731 A 8 6/9 页 9 其对应的凹槽的横截面形状相同。所述横截面与衬底基板表面平行。完成该步骤的彩膜基 板的结构如图 4 所示。 0068 具体地， 在完成步骤 s201 的衬底基板上涂敷一层光刻胶， 采用掩模板对所述光刻 胶进行曝光、 显影， 以在所述衬底基板上形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域， 其中， 光 。
33、刻胶去除区域对应所述多个凹槽的区域， 然后对暴露出来的衬底基板进行刻蚀， 最后通过 光刻胶剥离工艺将剩余的光刻胶剥离， 形成多个凹槽 3。 0069 s203. 在完成步骤 s202 的衬底基板上分别形成红色滤光层图形、 绿色滤光层图 形和蓝色滤光层图形 （即彩色滤光层图形， 以包含红色、 绿色和蓝色三种颜色滤光层图形为 例， 但不限于此） ， 且所述红色滤光层图形、 绿色滤光层图形和蓝色滤光层图形分别覆盖在 不同的亚像素区上。完成该步骤的彩膜基板的结构如图 5 所示。 0070 优选地， 所述凹槽 3 的深度是覆盖在该凹槽上的红色滤光层 4/ 绿色滤光层 5/ 蓝 色滤光层 6 厚度的 0.。
34、4 0.6 倍。例如， 所述凹槽 3 的深度为 0.5m 1.0m。 0071 进一步优选地， 所述凹槽3的深度是覆盖在该凹槽上的红色滤光层4/绿色滤光层 5/ 蓝色滤光层 6 厚度的 0.5 倍， 即覆盖在该凹槽上的彩色滤光层 （即红色滤光层 4、 绿色滤 光层 5 或蓝色滤光层 6） 的厚度为覆盖在该凹槽所对应的亚像素区中的反射区上的彩色 滤光层厚度的两倍。 0072 需要说明的是， 从色彩协调的角度考虑， 覆盖有不同颜色滤光层的凹槽的深度可 以不相同， 也就是说， 形成在衬底基板上的所有凹槽的深度并不一定相同， 本领域技术人员 可根据实际情况设计不同颜色滤光层对应的凹槽的深度。 0073。
35、 本步骤中， 所述红色滤光层图形、 绿色滤光层图形和蓝色滤光层图形的形成顺序 不限。 0074 下面以在完成步骤 s202 的衬底基板上依次形成红色滤光层图形、 绿色滤光层图 形和蓝色滤光层图形为例对步骤 s203 进行详细说明。 0075 所述步骤 s203 具体为 ： 0076 s203-1. 采用旋涂的方式在完成步骤 s202 的衬底基板上形成红色光刻胶， 然后采 用掩模板对所述红色光刻胶进行曝光、 显影， 以在所述红色光刻胶上形成保留区域和去除 区域， 其中， 所述保留区域对应形成红色滤光层图形， 所述去除区域的红色光刻胶被完全去 除。 0077 s203-2. 采用旋涂的方式在完成步。
36、骤 s203-1 的衬底基板上形成绿色光刻胶， 然后 采用掩模板对所述绿色光刻胶进行曝光、 显影， 以在所述绿色光刻胶上形成保留区域和去 除区域， 其中， 所述保留区域对应形成绿色滤光层图形， 所述去除区域的绿色光刻胶被完全 去除。 0078 s203-3. 采用旋涂的方式在完成步骤 s203-2 的衬底基板上形成蓝色光刻胶， 然后 采用掩模板对所述蓝色光刻胶进行曝光、 显影， 以在所述蓝色光刻胶上形成保留区域和去 除区域， 其中， 所述保留区域对应形成蓝色滤光层图形， 所述去除区域的蓝色光刻胶被完全 去除。 0079 s204. 在完成步骤 s203 的衬底基板上形成平坦保护层 7， 即在所。
37、述黑矩阵图形和 彩色滤光层图形远离所述衬底基板的一侧形成平坦保护层。 完成该步骤的彩膜基板的结构 如图 6 所示。 说 明 书 CN 103149731 A 9 7/9 页 10 0080 具体地， 在完成步骤 s203 的衬底基板上通过沉积、 溅射或者涂覆等方式在黑矩阵 图形和彩色滤光层图形远离所述衬底基板的一侧形成平坦保护层。 所述平坦保护层可以采 用有机树脂材料。 0081 若本实施例所述彩膜基板为 TN（Twisted-Nematic， 扭曲向列） 型 TFT-LCD 的彩膜 基板， 则所述制作方法还包括 ： 0082 A11-1. 在完成步骤 s204 的衬底基板上形成公共电极图形，。
38、 即在所述平坦保护层 远离所述衬底基板的一侧形成公共电极图形。 0083 A12-1. 在完成步骤 A11-1 的衬底基板上形成隔垫物图形， 即在所述公共电极图形 远离所述衬底基板的一侧形成隔垫物图形。 0084 或者， 0085 A11-2. 在完成步骤 s204 的衬底基板上形成隔垫物图形， 即在所述平坦保护层远 离所述衬底基板的一侧形成隔垫物图形。 0086 A12-2. 在完成步骤 A11-2 的衬底基板上形成公共电极图形， 即在所述隔垫物图形 远离所述衬底基板的一侧形成公共电极图形。 0087 若本实施例所述彩膜基板为 ADS（ADvanced Super Dimension Swi。
39、tch， 高级超维 场转换技术） 型 TFT-LCD 的彩膜基板， 则所述制作方法还包括 ： 0088 A21. 在完成步骤 s204 的衬底基板上形成隔垫物 （PS， Post Spacer） 图形， 即在所 述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧形成隔垫物图形。 0089 A22. 在衬底基板上未形成有黑矩阵图形及彩色滤光层图形的一侧形成背面屏蔽 电极图形。其中， 背面屏蔽电极的材质可以选用透明导电材料， 例如氧化铟锡 （ITO， Indium Tin Oxide） 等。需要说明的是， 由于背面屏蔽电极图形形成在衬底基板的一侧， 而黑矩阵、 凹槽、 红色滤光层、 绿色滤光层、 蓝色滤光层及平坦。
40、保护层均形成在衬底基板的另一侧， 故 步骤 A22 可在步骤 s201 A21 之前、 之中或之后完成。 0090 高级超维场转换技术 （ADvanced Super Dimension Switch， 简称ADS） 通过同一平 面内狭缝电极边缘所产生的电场以及狭缝电极层与板状电极层间产生的电场形成多维电 场， 使液晶盒内狭缝电极间、 电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转， 从而提高了液 晶工作效率并增大了透光效率。高级超维场转换技术可以提高 TFT-LCD 产品的画面品质， 具有高分辨率、 高透过率、 低功耗、 宽视角、 高开口率、 低色差、 无挤压水波纹 （push Mura） 等 优。
41、点。针对不同应用， ADS 技术的改进技术有高透过率 I-ADS 技术、 高开口率 H-ADS 和高分 辨率 S-ADS 技术等。 0091 所述背面屏蔽电极一般与设置在彩膜基板或阵列基板中的接地点 （Ground Dotting） 相连， 用于将来自外界的静电电荷通过接地点耗散掉， 可有效避免来自外界的静 电和电磁干扰。 0092 本实施例中的其他方法及作用都与实施例 1 相同， 这里不再赘述。 0093 实施例 3 ： 0094 本实施例提供一种彩膜基板， 包括衬底基板、 设置在所述衬底基板上的黑矩阵和 彩色滤光层， 所述黑矩阵组成的图形在所述衬底基板上分隔出多个亚像素区， 所述彩色滤 光。
42、层覆盖在所述多个亚像素区上， 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区， 所述衬底基板 上设置有多个凹槽， 亚像素区中的每个透射区的位置分别与一个凹槽的位置相对应。 说 明 书 CN 103149731 A 10 8/9 页 11 0095 所述亚像素区包括透射区和 / 或反射区指的是 ： 每个亚像素区中既包括透射区又 包括反射区 ； 或者， 某些亚像素区只包括透射区， 某些亚像素区只包括反射区。 当然， 不论是 哪种情况， 所述衬底基板上只有透射区对应的位置处形成有凹槽。当每个亚像素区中既包 括透射区又包括反射区时， 其中的透射区与反射区的形状及位置关系不限， 例如所述透射 区与反射区分别位于。
43、该亚像素区的左右两侧 ； 或者， 所述透射区位于中心， 所述反射区位于 透射区的四周并将其包围 （近似于 “回” 字） 。 0096 所述衬底基板可采用玻璃基板、 石英基板、 塑料基板等透明基板 ； 所述黑矩阵可采 用树脂或金属等制成。 0097 优选地， 所述彩色滤光层至少包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层。 需要说 明的是， 所述彩色滤光层不限于包括红色滤光层、 绿色滤光层和蓝色滤光层的情况， 还可以 包括黄色滤光层、 透明色滤光层、 酒红色滤光层、 紫色滤光层等， 对于本领域技术人员能想 到的所有颜色及其组合或变型形成的彩色滤光层都可以作为本发明实施例中所述的彩色 滤光层。 009。
44、8 可见， 对于同一颜色的滤光层来说， 彩膜基板上透射区对应的 （即覆盖在透射区上 的） 彩色滤光层厚度比反射区对应的 （即覆盖在反射区上的） 彩色滤光层厚度厚， 可通过调 整所述多个凹槽的深度来调整透射区与反射区对应的彩色滤光层厚度之差， 从而达到色彩 协调的效果。 0099 本实施例还提供一种包括上述彩膜基板的显示装置， 其包括上述任意一种彩膜基 板。所述显示装置可以为 ： 液晶面板、 手机、 平板电脑、 电视机、 显示器、 笔记本电脑、 数码相 框、 导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。 0100 实施例 4 ： 0101 本实施例提供一种彩膜基板， 如图 6 所示， 所述彩膜基板包括。
45、衬底基板 1， 设置在 衬底基板 1 上的黑矩阵 2、 红色滤光层 4、 绿色滤光层 5 和蓝色滤光层 6， 设置在黑矩阵 2、 红 色滤光层 4、 绿色滤光层 5 和蓝色滤光层 6 上的平坦保护层 7。 0102 其中， 所述黑矩阵2组成的图形在所述衬底基板1上分隔出多个亚像素区， 所述黑 矩阵 2 组成的图形为网格状， 所述红色滤光层 4、 绿色滤光层 5 和蓝色滤光层 6 分别覆盖在 所述多个亚像素区上， 所述亚像素区包括透射区和反射区。并且， 所述衬底基板 1 上设 置有多个凹槽 3， 亚像素区中的每个透射区的位置均与一个凹槽的位置相对应， 亚像素区 中的每个透射区的横截面形状均与其对。
46、应的凹槽的横截面形状相同。 所述横截面与衬底 基板表面平行。 0103 优选地， 所述凹槽 3 的深度是覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的 0.4 0.6 倍。 例如， 所述凹槽的深度为 0.5m 1.0m。 0104 进一步优选地， 所述凹槽3的深度与覆盖在该凹槽上的彩色滤光层厚度的0.5倍， 即覆盖在该凹槽上的彩色滤光层 （即红色滤光层4、 绿色滤光层5或蓝色滤光层6） 的厚度为 覆盖在该凹槽所对应的亚像素区中的反射区上的彩色滤光层厚度的两倍。 0105 需要说明的是， 从色彩协调的角度考虑， 覆盖有不同颜色滤光层的凹槽的深度可 以不相同， 也就是说， 形成在衬底基板上的所有凹槽的深度并不一。
47、定相同， 本领域技术人员 可根据实际情况设计不同颜色滤光层对应的凹槽的深度。 0106 若本实施例所述彩膜基板为 TN（Twisted-Nematic， 扭曲向列） 型 TFT-LCD 的彩膜 说 明 书 CN 103149731 A 11 9/9 页 12 基板， 则所述彩膜基板还包括公共电极和隔垫物， 所述公共电极设置在所述平坦保护层远 离所述衬底基板的一侧， 所述隔垫物设置在所述公共电极远离所述衬底基板的一侧 ； 或者， 所述隔垫物设置在所述平坦保护层远离所述衬底基板的一侧， 所述公共电极设置在所述隔 垫物远离所述衬底基板的一侧。 0107 若本实施例所述彩膜基板为 ADS（ADvanc。
48、ed Super Dimension Switch， 高级超维 场转换技术） 型 TFT-LCD 的彩膜基板， 则所述彩膜基板还包括背面屏蔽电极和隔垫物， 所述 背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有黑矩阵和彩色滤光层的一侧， 所述隔垫物设置在 平坦保护层远离所述衬底基板的一侧。 0108 所述背面屏蔽电极一般与设置在彩膜基板或阵列基板中的接地点 （Ground Dotting） 相连， 用于将来自外界的静电电荷通过接地点耗散掉， 可有效避免来自外界的静 电和电磁干扰。 0109 本实施例还提供一种包括上述彩膜基板的显示装置， 其包括上述任意一种彩膜基 板。所述显示装置可以为 ： 液晶面板、 手。
49、机、 平板电脑、 电视机、 显示器、 笔记本电脑、 数码相 框、 导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。 0110 本实施例中的其他结构及作用都与实施例 3 相同， 这里不再赘述。 0111 可以理解的是， 以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施 方式， 然而本发明并不局限于此。 对于本领域内的普通技术人员而言， 在不脱离本发明的精 神和实质的情况下， 可以做出各种变型和改进， 这些变型和改进也视为本发明的保护范围。 说 明 书 CN 103149731 A 12 1/2 页 13 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 103149731 A 13 2/2 页 14 图 3 图 4 图 5 图 6 说 明 书 附 图 CN 10。