无对流效应的流动式反应器及流动式合成方法.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 104275137 A (43)申请公布日 2015.01.14 C N 1 0 4 2 7 5 1 3 7 A (21)申请号 201410187553.2 (22)申请日 2014.05.06 102123934 2013.07.04 TW B01J 19/12(2006.01) (71)申请人中央研究院 地址中国台湾台北市 (72)发明人胡宇光 赖圣丰 王铮亮 (74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所 11105 代理人陈小雯 (54) 发明名称 无对流效应的流动式反应器及流动式合成方 法 (57) 摘要 本发明公开一种无对流效应的流动式反应器 及流动式合成方法。

2、。无对流效应的流动式反应器 包括：一反应器本体，包括：一反应腔体，用以容 置一流体；一入口，与反应腔体连通且用以输入 一反应物流体；一出口，与反应腔体连通且用以 输出一产物流体；及一能量束来源装置，用以提 供一能量束照射反应腔体内的反应物流体。本发 明还提供一种无对流效应的流动式合成方法。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书3页 说明书6页 附图6页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书3页 说明书6页 附图6页 (10)申请公布号 CN 104275137 A CN 104275137 A 1/3页 2 1.一种无对流效应的流动式反应器，。

3、包括： 反应器本体，包括： 反应腔体，用以容置一流体； 入口，与该反应腔体连通且用以输入一反应物流体； 出口，与该反应腔体连通且用以输出一产物流体；及 能量束来源装置，用以提供一能量束照射该反应腔体内的该反应物流体。 2.如权利要求1所述的无对流效应的流动式反应器，其中该反应器本体为管状。 3.如权利要求2所述的无对流效应的流动式反应器，其中该反应器本体包括一能量束 穿透性材料，使该能量束通过该能量束穿透材料照射该反应腔体内的该反应物流体。 4.如权利要求3所述的无对流效应的流动式反应器，该能量束穿透性材料包括一含有 氢、铍、碳、氮、氧、铝、或上述任意组合的元素的材料。 5.如权利要求1所述的。

4、无对流效应的流动式反应器，其中该反应器本体包括一能量束 耐受性材料，且具有一反应物装载空间定义该反应腔体。 6.如权利要求5所述的无对流效应的流动式反应器，其中该反应器本体包括： 第一构件，具有该反应物装载空间；及 第二构件，具有一窗口对应于该反应物装载空间，其中该能量束穿透材料设置于该第 一、第二构件之间。 7.如权利要求5所述的无对流效应的流动式反应器，其中该能量束耐受性材料包括氧 化钡、铝、金、银、铜、铁、铂、或上述任意组合。 8.如权利要求5所述的无对流效应的流动式反应器，其中该能量束穿透性材料包括一 含有氢、铍、碳、氮、氧、铝、或上述任意组合的元素的材料。 9.如权利要求1所述的无对。

5、流效应的流动式反应器，其中该能量束包括高能且高通量 的射线、X光或电子束。 10.如权利要求9所述的无对流效应的流动式反应器，其中该高能且高通量的射线 和X光的剂量率大于1012光子/平方毫米/秒。 11.如权利要求9所述的无对流效应的流动式反应器，其中该高能且高通量的射线 和X光的剂量率大于3mJ/cm 2 sec。 12.如权利要求9所述的无对流效应的流动式反应器，其中该电子束的能量范围为 0.1-500MeV。 13.如权利要求9所述的无对流效应的流动式反应器，其中该电子束的剂量率大于 110 4 Gys -1 。 14.如权利要求1所述的无对流效应的流动式反应器，还包括一冷却装置，以冷。

6、却该反 应器本体的温度。 15.如权利要求14所述的无对流效应的流动式反应器，其中该冷却装置包括一风扇、 散热鳍、散热器、散热片、喷雾器、液体或气体冷却系统或上述任意组合。 16.一种无对流效应的流动式合成方法，包括： 提供一如权利要求1所述的流动式反应器； 经由该入口输入一反应物流体至该反应腔体中；及 以一能量束通过该能量束穿透材料照射该反应腔体中的反应物流体，以形成一产物流 权 利 要 求 书CN 104275137 A 2/3页 3 体，其中该产物流体经由该出口输出。 17.如权利要求16所述的无对流效应的流动式合成方法，其中连续地照射该能量束。 18.如权利要求16所述的无对流效应的流。

7、动式合成方法，其中间歇性地照射该能量 束。 19.如权利要求16所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该反应物流体包括纳米 粒子的前趋物溶液、高分子溶液、高分子聚合的单体溶液、或上述任意组合。 20.如权利要求19所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该纳米粒子包括纳米金 粒子、纳米银粒子、纳米铜粒子、纳米铂粒子、纳米钯粒子、纳米氧化铁粒子、纳米量子点、纳 米高分子粒子、或上述任意组合。 21.如权利要求20所述的无对流效应的流动式合成方法，其中通过控制该反应物流体 的流速控制该纳米粒子的形状、大小、电性、磁性、光学特性、分子量、或上述任意组合。 22.如权利要求16所述的无对流效应的流动式合。

8、成方法，其中通过控制该反应物流体 的流速控制该产物流体的形状、大小、电性、磁性、光学特性、分子量、或上述任意组合。 23.如权利要求16所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该反应物流体的流速为 1-2000mLhr -1 。 24.如权利要求16所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该能量束包括高能且高 通量的射线、X光或电子束。 25.如权利要求24所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该高能且高通量的射 线或X光的剂量率大于1012光子/平方毫米/秒。 26.如权利要求24所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该高能且高通量的X光 的剂量率大于3mJ/cm 2 sec。 27.如权利要求。

9、24所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该电子束的能量范围为 0.1-500MeV。 28.如权利要求24所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该电子束的剂量率大于 110 4 Gy.s -1 。 29.一种无对流效应的流动式合成方法，包括： 提供一能量束； 提供一流动的前趋物流体；及 照射该能量束于该流动的前趋物流体以进行合成，形成一产物流体。 30.如权利要求29所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该能量束包括高能且高 通量的射线、X光或电子束。 31.如权利要求30所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该高能且高通量的射 线或X光的剂量率大于1014光子/平方毫米/秒。 32.如权利。

10、要求30所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该高能且高通量的射 线或X光的剂量率大于3mJ/cm 2 sec。 33.如权利要求29所述的无对流效应的流动式合成方法，其中连续地照射该能量束。 34.如权利要求29所述的无对流效应的流动式合成方法，其中间歇性地照射该能量 束。 35.如权利要求29所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该流动的前趋物流体包 权 利 要 求 书CN 104275137 A 3/3页 4 括纳米粒子的前趋物溶液、高分子溶液、高分子聚合的单体溶液、或上述任意组合。 36.如权利要求35所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该纳米粒子包括纳米金 粒子、纳米银粒子、纳米铜。

11、粒子、纳米铂粒子、纳米钯粒子、纳米氧化铁粒子、纳米量子点、纳 米高分子粒子、或上述任意组合。 37.如权利要求36所述的无对流效应的流动式合成方法，其中通过控制该流动的前趋 物流体的流速控制该纳米粒子的形状、大小、电性、磁性、光学特性、分子量、或上述任意组 合。 38.如权利要求29所述的无对流效应的流动式合成方法，其中通过控制该流动的前趋 物流体的流速控制该产物流体的形状、大小、电性、磁性、光学特性、分子量、或上述任意组 合。 39.如权利要求29所述的无对流效应的流动式合成方法，其中该流动的前趋物流体的 流速约为1-2000mLhr -1 。 权 利 要 求 书CN 104275137 A。

12、 1/6页 5 无对流效应的流动式反应器及流动式合成方法 技术领域 0001 本发明涉及一种流动式反应器及利用高能量束照射的流动式合成方法。 背景技术 0002 传统光化学反应(photochemical reaction)中，由于照射能量(如紫外线)的 穿透性或强度不足而导致所需反应时间较长(数分钟至数小时以上)，因而需要以批次 (batch)方式进行反应。然而批次式反应在每次反应后都需要将产物取出才能进行下一次 的反应，造成时间、人力、成本等的增加。另外，批次式反应也较为昂贵且难达到高产能。比 起批次式反应，流动式反应可省去每次取出产物的步骤，并且较为经济、适合大量生产、也 可提供更高产能。

13、。然而，如上所述，传统的光化学反应所需时间太长因而无法适用流动式反 应。再者，传统的光化学反应也可能发生反应不均匀，而不利于材料性质(如，粒子尺寸大 小)的控制。 0003 有鉴于此，本发明利用无对流效应及高能量束结合流动式反应以克服现有技术只 能进行批次反应且可能发生反应不均匀的缺点。 发明内容 0004 为解决上述问题，本发明提供一种无对流效应的流动式反应器，包括：一反应器本 体，包括：一反应腔体，用以容置一流体，其中该反应腔体；一入口，与该反应腔体连通且用 以输入一反应物流体；一出口，与该反应腔体连通且用以输出一产物流体；及一能量束来 源装置，用以提供一能量束照射该反应腔体内的该反应物流。

14、体。 0005 本发明也提供一种无对流效应的流动式合成方法，包括：提供上述的流动式反应 器；经由该入口输入一反应物流体至该反应腔体中；及以一能量束通过该能量束穿透材料 照射该反应腔体中的反应物流体，以形成一产物流体，其中该产物流体经由该出口输出。 0006 本发明还提供一种无对流效应的流动式合成方法，包括：提供一能量束；提供一 流动的流体前趋物；及照射该能量束于该流动的流体前趋物以进行合成。 0007 为了让本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举优选实施 例，并配合所附附图，作详细说明如下： 附图说明 0008 图1为本发明一实施例的无对流效应的流动式的合成方法示意图； 0。

15、009 图2为图1实施例所示的无对流效应的流动式的合成方法，并在不同能量的光子 束照射下所得反应物流体厚度及光子束穿透率的关系图； 0010 图3为本发明一实施例的流动式反应器的示意图； 0011 图4为本发明另一实施例的流动式反应器的示意图； 0012 图5为实施例1的流动式反应器的示意图； 0013 图6为不同的裸金纳米粒子溶液经由UV-可见光光谱仪所量测而得的吸收光谱 说 明 书CN 104275137 A 2/6页 6 图。 0014 符号说明 0015 1 管线 0016 2、12 能量束来源装置 0017 11 反应器本体 0018 13 反应腔体 0019 14、51 入口 00。

16、20 15、52 出口 0021 16 反应物装载空间 0022 50 铝金属反应本体 0023 55 凹槽 0024 60 铝金属盖板 0025 65 窗口 0026 70 聚酰亚胺薄膜 0027 80 同步辐射X光源 0028 100、1000、2000 流动式反应器 0029 E 能量束 0030 I 光子束被吸收后的强度 0031 I 0 光子束初始入射强度 0032 L 反应物流体 0033 t m 平均滞留时间 0034 线性衰退系数 0035 体积流率 0036 V R 反应系统的体积 0037 z 介质厚度 具体实施方式 0038 本发明提供一种无对流效应的流动式的合成方法，如。

17、图1所示，其中提供一能量 束E及一流动的反应物流体L，及利用能量束E照射流动的反应物流体L达到合成，且反应 物流体L在合成后形成一产物流体。 0039 本发明所使用的能量束E可包括高能且高辐射通量(即高辐射剂量率)的射 线、X光或电子束等。在一些实施例中，能量束可为同步辐射X光。能量束E具有高穿透率， 能穿透所照射反应物流体的单位体积(穿透率至少大于0)，用于达成无对流效应。在此， 无对流效应可被定义为当具有足够穿透性的能量束(例如高能X光或射线)照射反 应物流体的一单位体积时，该单位体积内的所有反应物流体有效且均匀地在近乎同一时间 内进行反应。若能量束的穿透度不足，反应物流体在通过能量束E照。

18、射后有部分区域仍未 参与反应的进行(参见图1中反应系统的体积V R 下游(朝X轴方向)的体积)，因此需通 过对流的方式(例如热对流或反应物种的扩散)才可能达到反应的全面进行，如此一来所 导致反应的时间差，进而造成反应的不均匀甚至无法达成完全反应。反应物流体的穿透率 说 明 书CN 104275137 A 3/6页 7 主要和能量束的能量大小、反应体积的穿透厚度以及反应物质的种类有关。 0040 当使用高能光子(例如本公开所使用的高能且高辐射通量的X光或 射线)照射 一介质(例如反应物流体)时，绝大部分的能量在通过产生次级电子或其他方式被吸收，而 吸收的程度主要取决于原子组成，与分子结构几乎无关。

19、。因此，一光子束进入介质后其强度 会随着穿透深度的增加而衰减，且该光子束在一特定介质厚度的强度可表示为： 0041 II 0 e -z 0042 其中，I为光子束被吸收后的强度，I 0 为光子束初始入射强度，为介质的线性衰 退系数，z为介质厚度。 0043 图2显示根据图1所示实施例的无对流式的流动式的合成方法，以不同能量的高 能光子束照射反应物流体所得反应物流体厚度及高能光子束穿透率的关系图。在此反应物 流体为液态水，高能光子束为X光。在相同的穿透率下，X光可穿透液态水的厚度随时X光 能量的增加而增加。在本发明中，使用不同能量的能量束照射反应物流体时，可根据各能量 束对于反应物流体的穿透率来。

20、设计反应物流体的最大厚度。在此，当高能光子束照射面积 大于反应物流体的反应单位的截面积时，设计反应物流体的最大厚度被定义在高能光子束 5的穿透率(transmission)下，此时反应的Z轴(参见图1)的对流效应几乎可以被忽略。 随着穿透率的增加或光子束能量的提高，则反应物流体的最大厚度也可增加。 0044 此外，可依照反应物流体的流速决定在光子束照射反应物流体的体积下，整体反 应物流体受到光子束照射的平均时间。光子束照射后或反应后的全部反应物流体在光子束 照射的反应系统中的平均滞留时间t m 可表示为： 0045 0046 其中，V R 为反应系统的体积，为体积流率。假设光子束为连续式照射，。

21、则t m 也等 于光子束照射后或反应后的全部反应物流体的平均光子束照射时间，其与光子束剂量率以 及产生特定量的产物物种所需的总能量有关。即在固定反应物流体的光子束照射体积和生 成固定量的特定产物下，当光子束的剂量率越高，所需的照射时间越短。倘若平均光子束照 射时间不足，则反应未能达到完全，此时反应的Z轴(参见图1)的对流效应也会存在。为 避免这样对流效应的产生，在此定义t m 需大于1/10秒。 0047 在能量束照射流动的反应物流体时，其照射距离并无特殊限制且可依需求调整。 再者，可依需求间歇性地或连续性地照射能量束。在应用高能且高通量X光的一些实施例 中，X光剂量率可约大于10 12 光子。

22、/平方毫米/秒，或者，X光剂量率可约大于3mJ/cm 2 sec。 本发明实施例中所使用的高能且高通量的射线、X光或电子束，前者比起一般用来进行 光化学反应的能量来源，例如紫外光、可见光、或红外光等，其波长和所提供的光子数与能 量都有显著的差异。与一般光化学反应不同的是，因所提供的能量束具有足够的能量强度， 反应物流体可即时(例如1秒以内)完成反应。反应物流体在能量束照射下可产生氧化、 还原、或自由基(radical)反应的发生。视所进行的反应种类而定，反应物流体中可包含一 种以上的反应物。在应用高能且高通量电子束的一些实施例中，电子束的能量范围可约为 0.1-500MeV，且其剂量率可大于1。

23、10 4 Gys -1 。 说 明 书CN 104275137 A 4/6页 8 0048 本发明实施例所提供的合成方法可用来进行各类合成反应，其中可通过例如调整 反应物流体的流速及/或流量、能量束强度、能量束照射时间、合成温度等达成合成条件最 佳化。举例来说，可通过控制反应物流体的流速控制所合成的产物流体的特定物理和化学 性质，例如形状、大小、电性、磁性、光学特性、分子量、或上述任意组合。在一些实施例中，反 应物流体可包括纳米粒子的前趋物溶液、高分子溶液、高分子聚合的单体溶液、或上述任意 组合。在这些实施例中，纳米粒子可包括纳米金粒子、纳米银粒子、纳米铜粒子、纳米铂粒 子、纳米钯粒子、纳米氧。

24、化铁粒子、纳米量子点、纳米高分子粒子、或上述任意组合，且可通 过控制反应物流速及/或流量等参数条件来控制纳米粒子的粒径、形状、大小、电性、磁性、 光学特性、分子量、或上述任意组合。 0049 本发明所提供的流动式的合成方法可搭配各种装置或设备。 0050 在一些实施例中，可使用例如滴管、喷嘴、喷雾器或上述任意组合以提供流动的反 应物流体，并以能量束照射所提供的反应物流体以进行合成。因此在这些实施例中，也可使 反应物流体悬挂或悬浮于空中进行合成，而反应的气氛可为真空、大气、或者其他气体。举 例来说，可使用滴管提供一流动的反应物流体，并以能量束照射从滴管滴出的反应物流体 以进行合成。或者，可以一喷。

25、嘴喷洒前趋物液体，并以能量束照射所喷洒的反应物流体以进 行合成。然而，在这些实施例中，也可还包括反应物预备槽、管线、阀、流量控制器、计时器、 温度监控装置、冷却装置、样品收集器、或上述任意组合。阀可为手动阀或自动阀，并且具有 开关的功能以控制流动的反应物流体的通过及不通过。流量控制器可控制反应物流体的流 速及/或流量。温度监控器可监控进行合成时反应物流体本身或者周遭环境的温度。冷却 系统可在合成时温度过高时进行冷却，且可配合温度监控器使用。冷却装置包括一风扇、散 热鳍、散热器、散热片、喷雾器、气体或液体冷却系统、或上述任意组合。 0051 在一些实施例中，本发明所提供的流动式的合成方法可在一装。

26、置或设备的中进 行，例如管线、流动式反应器、或喷雾器等，且不限于此。在这些实施例中，也可还包括反应 物预备槽、阀、流量控制器、计时器、温度监控装置、冷却装置、样品收集器、或上述任意组合 等。将在以下叙述各类根据本发明实施例的流动式反应器以及应用这些流动式反应器的合 成方法。 0052 图3显示根据本发明一实施例的流动式反应器1000。在本实施例中，流动式反应 器1000包括一管线1及一能量束来源装置2。能量束来源装置2可提供一能量束E。如前 述，能量束包括高能且高通量的射线、X光、电子束，在此不再重复相关叙述。在应用流 动式反应器1000进行合成时，使反应物流体L通过管线1，并通过能量束来源装。

27、置2所发 出的能量束E照射有反应物流体流经的管线1来进行反应。为使能量束E能成功穿透所照 射管线1的部分以到达其中的反应物流体，所照射管线1的部分需为对于能量束E具有高 穿透性(或低吸收性)的能量束穿透性材料。在一些实施例中，能量束穿透性材料可包括 聚酰亚胺(polyimide)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA)、或上述任意 组合。在其他实施例中，能量束穿透性材料可使用含有氢、铍、碳、氮、氧、铝、或上述任意组 合的元素的材料。管线的材料可由单一材料、多层材料、或复合材料所组成。在一些实施例 中，管线可全部为能量束穿透性材料组成。在其他实施例中，仅所照。

28、射管线的部分为能量束 材料组成，而其余部分可包括一能量耐受性材料，而能量耐受性材料可包括氧化钡、铝、金、 银、铜、铁、铂、上述任意组合、或上述任意组合的合金。 说 明 书CN 104275137 A 5/6页 9 0053 图4显示根据本发明另一实施例的流动式反应器2000。流动式反应器2000可为 任意形状，可依图中显示的方位或者其他任意方位操作流动式反应器2000。流动式反应器 2000包括一反应器本体11及一能量束来源装置12。反应器本体11包括反应腔体13、一与 反应腔体13连接以输入反应物流体的入口14、及一与反应腔体13连接以输出产物流体的 出口15，其中反应腔体可容置流体，在此流。

29、体可指从入口14输入至反应腔体13的反应物流 体、反应过程中产生的中间产物流体、以及反应完成后产生的产物流体。再者，反应腔体可 通过具有一与入口14、出口15连通的反应物装载空间16以容置流体。虽然在图4中反应 物装载空间16为立方体，然而其可为任意形状。可连接一例如管状物至入口14及/或出 口15，以利于输入反应物。反应腔体13、入口14、及出口15的形状并不被限定且可为符合 所需的任意形状。反应腔体13可为例如圆柱状(或管状)、长方体、正方体、多边体、不规则 状等。入口14及出口15可为例如圆形、矩形、正方形、多边形(例如五边形、六边形、八边 形等)、不规则形等。可依实际需要设置入口14及。

30、出口15于反应腔体13的任何位置。入 口14的数目可为一个或更多，视反应所需的反应物数目而定，且可经由每个入口14输入一 个或更多个反应物。另外，每个入口14可选择性地包括一阀(未显示)，其中可以自动或手 动方式控制阀的开或关。另外，流动式反应器2000可还包括一个或以上的流量控制系统以 控制各反应物流体的流入速度及/或产物流体的流出速度，因此可以相同或不同速率将反 应物流体从一个或以上的入口输入至反应腔体中，以达成反应条件最佳化。 0054 再者，可使用一能量束穿透性材料于反应腔体13，其中反应腔体13可被能量束穿 透性材料所覆盖，或者，反应腔体13可部分或者全部为能量束穿透性材料组成。能量。

31、束穿 透性材料的形式可为薄膜。此种能量束穿透性材料对于能量束具有高穿透性(或低吸收 性)。在一些实施例中，能量束穿透性材料可包括聚酰亚胺(polyimide)、聚甲基丙烯酸甲 酯(polymethyl methacrylate,PMMA)、或上述任意组合。在其他实施例中，能量束穿透性材 料可使用含有氢、铍、碳、氮、氧、铝、或上述任意组合的元素的材料。若反应腔体13具有一 种以上的材料，且材料其中之一为上述的能量束穿透性材料，则其余材料可为一能量耐受 性材料，而能量耐受性材料可包括氧化钡、铝、金、银、铜、铁、铂、或上述任意组合。 0055 操作流动式反应器2000时，将一反应物流体通过反应器本体。

32、11以进行反应，其中 先经由入口14将反应物流体输入反应腔体13，并以能量束来源装置12所提供的能量束照 射通过反应腔体13中的流体以进行合成而产生产物流体，而产物流体经由出口15输出。在 其他实施例中，产物流体也可经由多个出口输出。 0056 能量束来源装置12提供一能量束E照射反应腔体使其所容置的流体进行反应，其 中能量束E可包括高能且高通量的射线、X光、电子束等，其特性已在先前叙述，在此不 再重复叙述。 0057 在本发明实施例中，通过利用高能量束结合流动式反应，克服了现有技术只能进 行批次反应的缺点，其中因所提供的能量束具有足够的能量强度，反应物流体可即时(例 如1秒以内)完成反应。比。

33、起批次式反应，流动式反应可省去每次取出产物的步骤，并且较 为经济、适合大量生产、也可提供更高产能。 0058 实施例1 0059 图5显示根据实施例1的流动式反应器100。流动式反应器100大抵分为四部 分，其包括一铝金属反应本体50、铝金属盖板60、位于铝金属反应本体50与铝金属盖板60 说 明 书CN 104275137 A 6/6页 10 之间的聚酰亚胺薄膜70(即能量束穿透材料)、及一同步辐射X光源80。铝金属反应本体 50(第一构件)包括入口51、出口52、及与入口51及出口52连通的凹槽55(作为反应物装 载空间)。铝金属盖板60(第二构件)具有一窗口65对应凹槽55，而聚酰亚胺薄。

34、膜70则 是夹于凹槽55及窗口65之间。聚酰亚胺薄膜70的尺寸不小于窗口65以完全覆盖及密封 窗口65。 0060 同步辐射X光源80位于距离具有窗口65的铝金属盖板60约20cm的地方。同步 辐射X光源80的剂量率约为210 4 Gys -1 ，所照射的面积约为12mm8mm。 0061 在进行合成时，反应物流体经由入口51输入凹槽55，且以同步辐射X光源所提供 的同步辐射X光通过聚酰亚胺薄膜70照射凹槽55中的反应物流体以进行合成，形成产物 流体，其中产物流体经由出口52输出。 0062 在实施例1中，由于当同步辐射X光源80照射面积小于反应单位的截面积时，未 照射的部分会通过对流的方式(。

35、例如热对流或反应物种的扩散)进行反应以造成反应的时 间差，进而造成反应的不均匀甚至无法达成完全反应。因此将流动式反应器100的窗口65 面积设计为小于同步辐射X光源80的截面积，使对流效应的发生仅受到反应单位的厚度与 流体流速的影响。 0063 再者，请参照图6，其显示不同的裸金纳米粒子溶液经由UV-可见光光谱仪所量测 而得的吸收光谱图，其中不同的裸金纳米粒子溶液分别在批次式反应以及流动式反应(体 积流率分别为1.4、2.8、5.6和11.2mL/min)下利用同步辐射X光源合成而得。由图6可知 金纳米粒子所特有的表面等离子体共振吸收波峰位置的改变。例如，当体积流率从1.4mL/ min提高至。

36、11.2mL/min，则吸收波峰位置从514nm红移至529nm。此表示出裸金纳米粒子的 尺寸有显著变大的趋势。即在流动式反应器中可利用体积流率的改变来控制纳米粒子的粒 子尺寸大小。 0064 虽然已以数个优选实施例公开本发明，然而其并非用以限定本发明，任何所属技 术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，可作任意的更动与润饰，因此 本发明的保护范围应当以附上的权利要求所界定的为准。 说 明 书CN 104275137 A 10 1/6页 11 图1 说 明 书 附 图CN 104275137 A 11 2/6页 12 图2 说 明 书 附 图CN 104275137 A 12 3/6页 13 图3 说 明 书 附 图CN 104275137 A 13 4/6页 14 图4 说 明 书 附 图CN 104275137 A 14 5/6页 15 图5 说 明 书 附 图CN 104275137 A 15 6/6页 16 图6 说 明 书 附 图CN 104275137 A 16 。