一种保护膜材料、显示基板及其制备方法、以及显示面板.pdf

《一种保护膜材料、显示基板及其制备方法、以及显示面板.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《一种保护膜材料、显示基板及其制备方法、以及显示面板.pdf（11页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。

1、(10)申请公布号 CN 104087055 A (43)申请公布日 2014.10.08 C N 1 0 4 0 8 7 0 5 5 A (21)申请号 201410280171.4 (22)申请日 2014.06.20 C09D 7/12(2006.01) G02F 1/1333(2006.01) (71)申请人京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 申请人北京京东方显示技术有限公司 (72)发明人崔晓鹏 (74)专利代理机构北京同达信恒知识产权代理 有限公司 11291 代理人黄志华 (54) 发明名称 一种保护膜材料、显示基板及其制备方法、以 及显示。

2、面板 (57) 摘要 本发明公开了一种保护膜材料、显示基板及 其制备方法、以及显示面板，该保护膜材料包括保 护膜基材，添加于所述保护膜基材中的质量百分 比为0.0530的紫外光吸收色素，以及质量百 分比为0.0510的紫外光引发剂。由于紫外 光吸收色素和紫外光引发剂的分子较小，对保护 膜基材溶液流动性的影响较小，从而保证了将混 合均匀后的保护膜材料溶液涂布于显示基板表面 后所形成保护膜层的表面平坦性。而且紫外光吸 收色素的添加造成照射至保护膜层内的紫外光照 强度呈现出由强到弱的梯度变化，从而使得保护 膜层靠近紫外光照一侧具有较高的聚合度和较大 的分子量，进而使得最终形成的保护膜表面具有 较高的。

3、耐受性。 (51)Int.Cl. 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (10)申请公布号 CN 104087055 A CN 104087055 A 1/1页 2 1.一种保护膜材料，包括保护膜基材，其特征在于，还包括： 质量百分比为0.0530的紫外光吸收色素； 质量百分比为0.0510的紫外光引发剂。 2.根据权利要求1所述的保护膜材料，其特征在于，所述紫外光吸收色素为：2-(2-羟 基-3-叔丁基-5-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑；或者， 所述紫外光吸收色素为：2-羟基-4-正辛氧基二苯甲。

4、酮；或者， 所述紫外光吸收色素为：双3-3-(2-H-苯并三唑-2-基)-4-羟基-5-叔丁基苯 基-丙酸-聚乙二醇300酯。 3.根据权利要求1所述的保护膜材料，其特征在于，所述紫外光引发剂为过氧化二苯 甲酰、过氧化十二酰、偶氮二异丁腈、过氧化二碳酸二异丙酯、过氧化二碳酸二环己酯、苯甲 酮或安息香双甲醚。 4.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板和形成于所述衬底基板上的保护膜，所述 保护膜采用如权利要求13任一项所述的保护膜材料制备。 5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述保护膜的厚度为0.520微米。 6.一种如权利要求4或5所述显示基板的制备方法，其特征在于，包括： 形成保。

5、护膜层，在衬底基板表面覆盖一层所述保护膜材料溶液，通过预固化处理以形 成保护膜层； 紫外光辐照处理，对所述保护膜层进行紫外光辐照处理以使所述保护膜层的表层分子 发生紫外聚合； 加热处理，对紫外光辐照处理后的所述衬底基板进行加热处理以使所述保护膜层内部 分子发生热聚合。 7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板表面覆盖一层所述 保护膜材料溶液之前，还包括：进行衬底基板的清洗及干燥。 8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，对所述保护膜层进行紫外光辐照处 理，具体包括： 在所述保护膜层表面上方1100厘米处，使用紫外光源对所述保护膜层进行紫外光 辐照聚合交联，其中，紫外光。

6、辐照时间为160分钟，紫外光波长为365纳米，辐照剂量为 0.001100毫瓦每平方厘米。 9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述对紫外光辐照处理后的所述衬 底基板进行加热处理，具体为： 将所述衬底基板置于烘箱中加热至180250摄氏度，并保温30240分钟。 10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求4或5所述的显示基板。 权 利 要 求 书CN 104087055 A 1/7页 3 一种保护膜材料、 显示基板及其制备方法、 以及显示面板 技术领域 0001 本发明涉及液晶显示装置制造技术领域，尤其涉及一种保护膜材料、显示基板及 其制备方法、以及显示面板。 背景技术 0002。

7、 在显示面板的制造过程中，常会出现显示面板中的元件暴露于溶剂、酸溶液、碱溶 液、高温环境等恶劣环境中。为了防止元件在这些恶劣环境中发生劣化或损伤等情况，一般 采取在元件的表面形成具有一定耐高温、耐腐蚀等耐受性的保护膜来保护元件。而随着高 世代产线的投入和TFT-LCD平板显示时代的到来，显示面板的制造工艺不断发展，显示面 板中元件的集成度越来越高，并且各元件的关键尺寸不断缩小，这样也使得保护膜在具有 上述耐受性的同时，还需具有较好的平坦性。 0003 现有的保护膜材料一般为丙烯酸酯树脂、环氧树脂等，带有丙烯酸酯交联剂和环 氧树脂交联剂等物质。现有技术制备保护膜时，通常采用将保护膜材料溶液涂布于。

8、衬底基 板表面，并依次进行预固化和烘焙，以使得保护膜材料分子与交联剂分子发生交联聚合以 形成保护膜。 0004 但是，现有的保护膜在制备的过程中，为了使保护膜获得较好的耐受性，往往需要 保护膜材料具有较高的聚合度和较大的分子量；但是随着聚合度的提高和分子量的增加， 又造成了保护膜材料溶液的流动性变差，使得所制备保护膜的表面平坦性相对较差。所以 现有的保护膜较难兼顾耐受性和平坦性的双重要求，从而也就无法满足高品质及精细化显 示面板对保护膜耐受性和平坦性的要求。 发明内容 0005 本发明的目的是提供一种保护膜材料、显示基板及其制备方法、以及显示面板，采 用该保护膜材料制备而成的保护膜不仅具有较高。

9、的耐受性，而且具有良好的平坦性。 0006 为达到上述目的，本发明提供以下技术方案： 0007 一方面，本发明提供了一种保护膜材料，包括保护膜基材，还包括： 0008 质量百分比为0.0530的紫外光吸收色素； 0009 质量百分比为0.0510的紫外光引发剂。 0010 由于紫外光吸收色素和紫外光引发剂的分子较小，其添加于保护膜基材溶液中， 对保护膜基材溶液流动性的影响较小，从而保证了将混合均匀后的保护膜材料溶液涂布于 显示基板表面后所形成保护膜层的表面平坦性。而且紫外光吸收色素的添加造成照射至保 护膜层内的紫外光照强度呈现出由强到弱的梯度变化，进而使得保护膜层内紫外光照较强 一侧的保护膜基。

10、材分子在紫外光引发剂的引发作用下发生紫外聚合，从而使得保护膜层靠 近紫外光照一侧(即靠近保护膜层表面处)具有较高的聚合度和较大的分子量，进而使得 最终形成的保护膜表面具有较高的耐受性。 0011 优选地，所述紫外光吸收色素为：2-(2-羟基-3-叔丁基-5-甲基苯基)-5-氯 说 明 书CN 104087055 A 2/7页 4 代苯并三唑；或者， 0012 所述紫外光吸收色素为：2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮；或者， 0013 所述紫外光吸收色素为：双3-3-(2-H-苯并三唑-2-基)-4-羟基-5-叔丁基苯 基-丙酸-聚乙二醇300酯。 0014 优选地，所述紫外光引发剂为过氧化二苯甲酰。

11、、过氧化十二酰、偶氮二异丁腈、过 氧化二碳酸二异丙酯、过氧化二碳酸二环己酯、苯甲酮或安息香双甲醚。 0015 另一方面，本发明还提供了一种显示基板，包括衬底基板和形成于所述衬底基板 上的保护膜，所述保护膜采用上述技术方案所提供的保护膜材料制备而 成。 0016 由于采用上述保护膜材料制备而成的保护膜不仅具有良好的平坦性，而且具有较 高的耐受性。所以，本发明提供的显示基板中，显示基板表面保护膜的耐受性和表面平坦性 较好，从而有利提高显示基板整体的耐受性和表面平坦性，进而提高了显示基板的产品质 量。 0017 优选地，所述保护膜的厚度为0.520微米。 0018 另外，本发明还提供了一种上述技术方。

12、案所述显示基板的制备方法，包括： 0019 形成保护膜层，在衬底基板表面覆盖一层所述保护膜材料溶液，通过预固化处理 以形成保护膜层； 0020 紫外光辐照处理，对衬底基板表面所形成的保护膜层进行紫外光辐照处理以使所 述保护膜层中的表层分子发生紫外聚合； 0021 加热处理，对紫外光辐照处理后的衬底基板进行加热处理以使所述保护膜层内的 保护膜基材分子发生热聚合，从而形成表面具有保护膜的显示基板。 0022 由于上述技术方案所提供的保护材料中紫外光吸收色素和紫外光引发剂的分子 较小，对保护膜基材溶液流动性的影响较小，从而保证了将保护膜材料溶液涂布于衬底基 板表面所形成的保护膜层能够具有较好的表面平。

13、坦性。并且，对衬底基板表面形成的保护 膜层进行紫外光辐照处理时，紫外光吸收色素会吸收紫外光并向靠近紫外光照的一侧浮 动，从而使保护膜层内的紫外光照强度沿保护膜层表面至衬底基板的方向呈现出由强到弱 的梯度变化，保护膜层中的丙烯酸酯交联剂和环氧树脂交联剂也将在紫外光强度较高的位 置聚集，并发生紫外聚合，从而使得保护膜层表面处具有较高的聚合度和较大的分子量，提 高了采用本发明提供的制备方法所制备出的显示基板表面的耐受性。 0023 由此可知，采用本发明提供的显示基板制备方法所制备的显示基板表面不仅具有 较高的耐受性，而且具有良好的平坦性，能够满足高世代产线下生产的高品质及精细化显 示面板的制作要求。。

14、 0024 优选地，所述在衬底基板表面覆盖一层所述保护膜材料溶液之前，还包括： 进行 衬底基板的清洗及干燥。 0025 优选地，所述对衬底基板表面所形成的保护膜层进行紫外光辐照处理，包括： 0026 在所述保护膜层表面上方1100厘米处，使用紫外光源对所述保护膜层进行紫 外光辐照聚合交联，其中，紫外光辐照时间为160分钟，紫外光波长为365纳米，辐照剂 量为0.001100毫瓦每平方厘米。 0027 优选地，所述对紫外光辐照处理后的衬底基板进行加热处理，具体为： 0028 将所述衬底基板置于烘箱中加热至180250摄氏度，并保温30240分钟。 说 明 书CN 104087055 A 3/7页。

15、 5 0029 此外，本发明还提供了一种显示面板，包括上述任一技术方案所提供的显示基板。 0030 由于上述技术方案所提供的显示基板的表面具有良好的耐受性和平坦性，因此， 本发明提供的显示面板中，显示基板表面保护膜的耐受性和平坦性较好，从而有利于提高 本发明显示面板的显示效果和产品质量。 附图说明 0031 图1为本发明实施例提供的显示基板制备方法的流程图； 0032 图2为本发明实施例提供的显示基板制备方法中预固化后所形成保护膜层内的 分子分布示意图； 0033 图3为本发明实施例提供的显示基板制备方法中进行紫外光辐照处理后保护膜 层内沿垂直于衬底基板方向的分子分布示意图； 0034 图4为。

16、本发明实施例提供的显示基板制备方法中进行加热处理后保护膜层内沿 垂直于衬底基板方向的分子分布示意图。 0035 附图标记说明： 0036 10、交联剂分子； 20、紫外光吸收色素分子； 0037 30、保护膜基材分子； P、紫外光照射方向。 具体实施方式 0038 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完 整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于 本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他 实施例，都属于本发明保护的范围。 0039 实施例一 0040 本发明实施例提供了一种保护膜材料，包。

17、括保护膜基材，还包括，添加于保护膜基 材中的质量百分比为0.0530的紫外光吸收色素，以及质量百分比为0.0510的紫 外光引发剂。 0041 由于紫外光吸收色素和紫外光引发剂的分子较小，其添加于保护膜基材溶液中， 对保护膜基材溶液流动性的影响较小，从而保证了将混合均匀后的保护膜材料溶液涂布于 显示基板表面后所形成保护膜层的表面平坦性。而且紫外光吸收色素的添加造成照射至保 护膜层内的紫外光照强度呈现出由强到弱的梯度变化，进而使得保护膜层内紫外光照较强 一侧的保护膜基材分子在紫外光引发剂的引发作用下发生紫外聚合，从而使得保护膜层靠 近紫外光照一侧(即靠保护膜层表面处)具有较高的聚合度和较大的分子。

18、量，进而使得最 终形成的保护膜表面具有较高的耐受性。 0042 因此，采用本发明实施例提供的保护膜材料制备而成的保护膜不仅具有良好的表 面平坦性，而且具有较高的耐受性。 0043 具体地，上述保护膜基材可以采用光聚合单体树脂与热聚合单体树脂混合而成的 共聚物材料，光聚合单体树脂与热聚合单体树脂的质量比为1:1，且光聚合单体与热聚合单 体键连。例如丙烯酸酯和环氧树脂混合而成的共聚物材料，共聚物材料中具有丙烯酸酯交 联剂和环氧树脂交联剂。 说 明 书CN 104087055 A 4/7页 6 0044 其中优选地，上述紫外光吸收色素的质量百分比可以为110，具体可以为 1、2、3、5、8、10；上。

19、述紫外光引发剂的质量百分比具体可 以为1、2、3、 5、8、10。 0045 可选地，紫外光吸收色素可以为紫外光吸收剂UV326，分子式：2-(2-羟基-3-叔 丁基-5-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑；或者，紫外光吸收色素可以为紫外光吸收剂 UV531，分子式：2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮；或者，紫外光吸收色素可以为紫外光吸收 剂Tinuvin1130，分子式：双3-3-(2-H-苯并三唑-2-基)-4-羟基-5-叔丁基苯基-丙 酸-聚乙二醇300酯。当然，紫外光吸收色素也可以为现有技术中已知的其它具有紫外光 吸收功能的化合物。 0046 可选地，紫外光引发剂可以为羰基化合物、染料类化合物、。

20、金属有机类化合物、含 卤化合物或过氧化合物等，具体可以为过氧化二苯甲酰、过氧化十二酰、偶氮二异丁腈、过 氧化二碳酸二异丙酯、过氧化二碳酸二环己酯、苯甲酮或安息香双甲醚。 0047 实施例二 0048 本发明实施例二提供了一种显示基板，包括衬底基板和形成于衬底基板上的保护 膜，保护膜采用上述实施方式提供的保护膜材料制备而成。 0049 由于采用上述实施例一提供的保护膜材料制备而成的保护膜不仅具有良好的平 坦性，而且具有较高的耐受性。所以，本发明实施例提供的显示基板中，显示基板表面的保 护膜的耐受性和表面平坦性较好，从而有利提高显示基板整体的耐受性和表面平坦性。 0050 较佳地，将保护膜材料溶液。

21、涂布于衬底基板表面所形成的保护膜层厚度为0.5 20微米，更优选地，保护膜层的厚度可以为110微米，具体可以为1微米、1.5微米、3微 米、5微米、10微米。保证了紫外光照处理后保护膜层表面处具有较高的聚合度和分子量， 这样在提高所制备保护膜耐受性的同时，也有利于显示面板的薄型化发展。当然，保护膜层 的厚度也可以根据衬底基板的类型、尺寸、以及衬底基板上工件尺寸大小等实际情况进行 设置，此处不再一一赘述。 0051 优选地，衬底基板为阵列基板或彩膜基板。保护膜设置于阵列基板中薄膜 晶体管 表面或者彩膜基板中的彩色滤光层表面，以保护薄膜晶体管或者彩色滤光层。 0052 实施例三 0053 请参考图。

22、1，本发明实施例三提供了一种上述实施例二所提供的显示基板的制备 方法，包括： 0054 步骤S101：形成保护膜层，在衬底基板表面覆盖一层上述实施例一所提供的保护 膜材料的溶液，通过预固化处理后形成保护膜层； 0055 步骤S102：紫外光辐照处理，对衬底基板表面所形成的保护膜层进行紫外光辐照 处理以使保护膜层中的表层分子发生紫外聚合； 0056 步骤S103：加热处理，对紫外光辐照处理后的衬底基板进行加热处理以使保护膜 层内的保护膜基材分子发生热聚合，从而形成表面具有保护膜的显示基板。 0057 采用本发明实施例提供的制备方法制备显示基板时，其采用的是上述实施例一所 提供的保护膜材料的溶液，。

23、由于上述实施例一所提供的保护膜材料溶液的流动性较好，从 而保证了将保护膜材料溶液涂布于衬底基板表面所形成的保护膜层能够具有较好的表面 平坦性。 说 明 书CN 104087055 A 5/7页 7 0058 并且，对衬底基板表面形成的保护膜层进行紫外光辐照处理时，紫外光吸收色素 分子20会吸收紫外光并向靠近紫外光照的一侧浮动，即紫外光吸收色素分子20会向保护 膜层的表面浮动，如图2和图3所示，从而使得保护膜层中的紫外光吸收色素分子呈不均 匀分布，使得保护膜层内越靠近保护膜层表面一侧，紫外光吸收色素分子的浓度越高；保护 膜层内越靠近衬底基板一侧，紫外光吸收色素分子的浓度越低。这样在进行紫外光辐照。

24、处 理时，沿紫外光照射方向P，保护膜层内的紫外光照强度呈现出由强到弱的梯度变化。而保 护膜层中的丙烯酸酯交联剂和环氧树脂交联剂等交联剂分子10也将在紫外光强度较高的 位置聚集，使得靠近保护膜层表面处的有更多的丙烯酸酯交联剂与保护膜基材分子30发 生紫外聚合，从而使得保护膜层表面处具有较高的聚合度和较 大的分子量，保证了所形成 保护膜层的表面具有较高的耐受性；如图4中所示，再进行加热处理，可以使保护膜层内部 的环氧树脂交联剂再与保护膜基材分子发生交联聚合，从而形成表面具有保护膜的显示基 板。 0059 由此可知，采用本发明提供的显示基板制备方法所制备的显示基板的表面具有良 好的平坦性和较高的耐受。

25、性。 0060 较佳地，本实施例提供的显示基板制备方法中，在衬底基板表面形成保护膜层之 前，还可以先进行衬底基板的清洗及干燥，以保证衬底基板的清洁，避免衬底基板表面的灰 尘被包裹进保护膜材料中，而影响到保护膜层的透光效果，或者保护膜层的表面平坦性。 0061 可选地，上述步骤S101中，在衬底基本表面覆盖保护膜材料溶液时，可以采用喷 涂法、辊涂法、旋涂法或喷墨法等涂布方法将保护膜材料溶液涂布与基本表面。当然，涂布 方法也可以采用现有技术中已知的其它涂布方法，此处不再一一赘述。 0062 较佳地，在上述步骤S102中，对衬底基板表面所形成的保护膜层进行紫外光辐照 处理，具体包括： 0063 在保。

26、护膜层表面上方1100厘米处，使用紫外光源对保护膜层进行紫外光辐 照聚合交联，其中，紫外光辐照时间为160分钟，紫外光波长为365纳米，辐射剂量为 0.001100毫瓦每平方厘米。 0064 更具体地，在上述步骤S102中，对衬底基板表面所形成的保护膜层进行紫外光辐 照处理，具体为： 0065 在保护膜层表面上方30厘米处，使用紫外光源对保护膜层进行紫外光辐照聚合 交联，其中，紫外光辐照时间为5分钟，紫外光波长为365纳米，辐射剂量为30毫瓦每平方 厘米。 0066 较佳地，在上述步骤S103中，对紫外光辐照处理后的衬底基板进行加热处理，具 体为： 0067 将衬底基板置于烘箱中加热至1802。

27、50摄氏度，并保温30240分钟，以 使保 护膜层内部的分子能够充分进行热聚合反应。 0068 上述的加热温度具体可以为180摄氏度、200摄氏度、230摄氏度或250摄氏度；保 温时间具体可以为30分钟、60分钟、90分钟、120分钟或240分钟。 0069 为了便于本领域技术人员能够进一步了解本发明所提供的显示基板制备方法，以 及采用本发明提供的制备方法所制备出的显示基板表面保护膜的性能，本发明列举了一种 具体的实施例对上述显示基板制备方法做进一步解释，具体步骤如下： 说 明 书CN 104087055 A 6/7页 8 0070 步骤一，进行衬底基板的清洗及干燥； 0071 步骤二，准备。

28、具有质量百分比为2的紫外光吸收剂Tinuvin1130和质量百分比 为2的安息香双甲醚的保护膜材料的溶液； 0072 步骤三，通过狭缝式涂布工艺将保护膜材料溶液涂布于衬底基板表面形成保护膜 层，其中，所形成的保护膜层厚度为1.5微米； 0073 步骤四，在保护膜层表面上方30厘米处，使用紫外光源对保护膜层进行紫外光辐 照聚合交联，其中，紫外光辐照时间为5分钟，紫外光波长为365纳米，辐射剂量为30毫瓦 每平方厘米。 0074 步骤五，将紫外光辐照处理后的衬底基板置于温度为230摄氏度的烘箱内，保温 30分钟，以使衬底基板表面保护膜层内的保护膜基材分子发生热聚合，从而形成表面具有 保护膜的显示基。

29、板。 0075 步骤六，对采用上述制备方法所制备的显示基板表面的保护膜进行相关性能测 试，测试方法及测试结果如下： 0076 a)、利用分光光度计测定400纳米的透光率来表征保护膜的透明性，实际测定本 实施例制备的显示基板表面的保护膜的透光率为99.4，表明了采用本实施例提供的制备 方法所制备的显示基板表面的保护膜具有很好的透光性； 0077 b)、利用原子力显微镜测量本实施例提供的制备方法所制备的显示基板表面保护 膜的表面粗糙度，实际测得的保护膜表面粗糙度为0.75纳米，表明了采 用本实施例提供 的制备方法所制备的显示基板表面的保护膜具有很好平坦性； 0078 c)、利用铅笔硬度计测量本实施。

30、例提供的制备方法所制备的显示基板表面保护膜 的表面硬度，实际测得保护膜的表面硬度为6H，表明了采用本实施例提供的制备方法所制 备的显示基板表面的保护膜表面硬度较好，从而也表明了其具有较好的耐磨性； 0079 d)、通过N-甲基吡咯烷酮(NMP)溶液测试浸泡前后的显示基板的失重率来表征保 护膜的耐腐蚀性。将表面具有保护膜的显示基板置于温度为60的NMP溶液中，保持10分 钟，测得显示基板浸泡前后的失重率为0.7，表明了采用本实施例提供的制备方法所制备 的显示基板表面的保护膜具有良好的耐腐蚀型； 0080 e)、通过热处理前后的膜厚变化率来表征保护膜的耐热性。将表面具有保护膜的 显示基板置于温度为。

31、230的烘箱中保温30分钟，测得保护膜的膜厚变化率仅为0.8，表 明了采用本实施例提供的制备方法所制备的显示基板表面的保护膜具有极佳的耐热性。 0081 综上，采用本发明提供的显示基板制备方法所制备的显示基板表面的保护膜不仅 具有良好的透光性和平坦性，而且具有较高耐磨性、耐腐蚀型和耐热性等耐受性。 0082 实施例四 0083 本发明实施例四提供一种显示面板，包括上述实施例二所提供的显示基板。 0084 由于上述实施例二所提供的显示基板的表面具有良好的耐受性和平坦性，因此， 本发明实施例四提供的显示面板中，显示基板表面保护膜的耐受性和平坦性较好，从而有 利于提高本实施例提供的显示面板的显示效果。

32、和产品质量。 0085 本实施例提供的显示面板可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、 数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品中的显示面板。 0086 显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发 明的 说 明 书CN 104087055 A 7/7页 9 精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范 围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。 说 明 书CN 104087055 A 1/2页 10 图1 图2 图3 说 明 书 附 图CN 104087055 A 10 2/2页 11 图4 说 明 书 附 图CN 104087055 A 11 。