用于改善布线和减小封装应力的接合焊盘设计.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201110332275.1

申请日:

2011.10.25

公开号:

CN102842547A

公开日:

2012.12.26

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):H01L 23/488申请日:20111025|||公开

IPC分类号:

H01L23/488; H01L23/48; H01L21/60

主分类号:

H01L23/488

申请人:

台湾积体电路制造股份有限公司

发明人:

周逸曼; 郭彦良

地址:

中国台湾新竹

优先权:

2011.06.24 US 13/167,906

专利代理机构:

北京德恒律师事务所 11306

代理人:

陆鑫;高雪琴

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内容摘要

接合焊盘设计包括:多个接合焊盘,位于半导体芯片上方;和多个凸块下金属(UBM)层,形成在多个接合焊盘的相应接合焊盘的上方。接合焊盘中的至少一个具有包括伸长部和收缩部的伸长形状,伸长部大体上沿着从芯片的中心辐射到外围的应力方向定向。本发明公开了用于改善布线和减小封装应力的接合焊盘设计。

权利要求书

1.一种接合焊盘设计,包括:多个接合焊盘,所述多个接合焊盘位于半导体芯片的上方,其中,所述接合焊盘中的至少一个具有伸长形状,该伸长形状具有伸长部和收缩部,所述伸长部大体上沿着从所述芯片的中心向所述芯片的外围辐射的应力方向定向;以及多个凸块下金属(UBM)层,所述多个凸块下金属层被形成在所述多个接合焊盘的相应接合焊盘的上方。2.根据权利要求1所述的接合焊盘设计,进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多条布线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。3.根据权利要求1所述的接合焊盘设计,其中,所述多个UBM层中的至少一个的直径大于所述多个接合焊盘中的一个的所述收缩部的长度。4.根据权利要求1所述的接合焊盘设计,其中,所述多个UBM层中的至少一个的直径小于所述多个接合焊盘中的一个的所述伸长部的长度。5.根据权利要求1所述的接合焊盘设计,其中,所述多个接合焊盘中的至少一个具有伸长部,以相对于所述芯片的角部呈基本上45度夹角定向,并且至少一个接合焊盘具有伸长部,以相对于所述芯片的边缘呈基本上90度夹角定向。6.一种接合焊盘结构,包括:一个或多个接合焊盘,所述一个或多个接合焊盘位于半导体器件的上方,其中,所述接合焊盘具有包括较窄部分和较宽部分的伸长的椭圆形,所述较宽部分大体上与应力方向平行,所述应力方向从所述半导体器件的中心向外辐射;以及一个或多个凸块下金属(UBM)层,所述一个或多个凸块下金属层形成在所述一个或多个接合焊盘的相应接合焊盘上。7.根据权利要求6所述的接合焊盘结构,进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多条布线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。8.根据权利要求6所述的接合焊盘结构,其中,所述UBM层之一的直径大于所述接合焊盘之一的所述较窄部分的长度。9.根据权利要求6所述的接合焊盘结构,其中,所述UBM层之一的直径小于所述接合焊盘之一的所述较宽部分的长度。10.一种接合焊盘设计,包括:多个接合焊盘和多个UBM层,所述多个接合焊盘和多个UBM层以所述接合焊盘具有包括伸长部和收缩部的形状的方式分别形成在芯片的表面上,并且其中,所述接合焊盘被配置为从所述芯片的中心向外延伸至所述芯片的外围的阵列;以及一条或多条布线,所述一条或多条布线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。

说明书

用于改善布线和减小封装应力的接合焊盘设计

技术领域

本发明大体上涉及半导体封装,更具体地来说,涉及改善布线和减小
封装应力的接合焊盘设计。

背景技术

现在,晶圆级芯片封装(WLCSP)由于其低成本和相对简单的工艺而
被广泛使用。在典型的WLCSP中,在金属化层上形成互连结构,然后形
成凸块下金属(UBM),并且安装焊料球。图1为发明人已知的和用在
WLCSP中的互连结构的横截面图。芯片(或者晶圆)20包括衬底30,在
该衬底上形成有源电路32。互连结构40包括:多个金属化层,该金属化
层具有金属线和通孔(未示出)。金属化层包括顶部介电层,在该顶部介
电层中形成金属焊盘52。金属焊盘52可以通过通孔48、布线或者重新分
布层(RDL)46电连接至接合焊盘38。在衬底30的上方,并且也在互连
结构40的上方形成钝化层34和36。在钝化层34的上方形成接合焊盘38,
并且UBM层41与接合焊盘38接触。在UBM层41的上方形成凸块球42,
并且该凸块球电连接至并且可能与UBM层41接触。接合焊盘38具有水
平尺寸L1,在与衬底的前面(在图1中面朝上的表面)平行的平面上测量
该水平尺寸。UBM层41具有尺寸L2,在与水平尺寸L1的方向相同的方
向上测量该尺寸。为了降低在芯片20中的翘曲并且因此产生的分层的不利
影响,接合焊盘38的尺寸L1通常大于UBM层41的尺寸L2。在图2中示
出了图1中所示的结构的接合焊盘设计22的俯视图。

因为其尺寸,接合焊盘38占用了芯片表面的相当大的比例。因为接合
焊盘38具有圆形,并且具有越来越高的半导体器件的密度,圆形接合焊盘
38的尺寸可能限定布线或者用于布线的RDL 46的数量。如果在每一给定
区域上的布线太多,则存在桥接或导致短路的危险。

通过减小圆形接合焊盘38的尺寸,设计者可以将在相邻接合焊盘38
之间的更大间距提供用于布线。图3示出了接合焊盘设计22的实例,其中,
接合焊盘38的尺寸L1小于UBM层41的尺寸L2。与在图2中所示的设计
相比较,这种设计允许有在相邻接合焊盘38之间的额外布线。然而,具有
这种设计的芯片易于由翘曲和/或热循环应力导致的分层。可以通过接合焊
盘38将应力传递给互连结构40,潜在导致低k介电层在互连结构40中分
层。当接合焊盘38的尺寸减小时,因为减小了用于UBM层41的支撑,
所以将更大的应力传递给互连结构40;因此生成的封装件的可靠性下降。
分层在芯片20的角部15处尤其严重。为了减小分层的危险,接合焊盘38
的尺寸L1通常大于UBM层41的尺寸L2的预定数量。

由于阅读以下详细描述时显而易见的这些原因和其他原因,需要提供
额外布线同时减小封装应力的改善的接合焊盘设计。

发明内容

为了解决现有技术所存在的问题,根据本发明的一个方面,提供了一
种接合焊盘设计,包括:多个接合焊盘,所述多个接合焊盘位于半导体芯
片的上方,其中,所述接合焊盘中的至少一个具有伸长形状,该伸长形状
具有伸长部和收缩部,所述伸长部大体上沿着从所述芯片的中心向所述芯
片的外围辐射的应力方向定向;以及多个凸块下金属(UBM)层,所述多
个凸块下金属层被形成在所述多个接合焊盘的相应接合焊盘的上方。

所述接合焊盘设计进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多条布
线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。

在所述接合焊盘设计中,所述多个接合焊盘中的至少一个具有伸长的
圆形;或者所述接合焊盘中的至少一个具有伸长的椭圆形;或者所述多个
UBM层中的至少一个的直径大于所述多个接合焊盘中的一个的所述收缩
部的长度;或者所述多个UBM层中的至少一个的直径小于所述多个接合
焊盘中的一个的所述伸长部的长度。

在所述的接合焊盘设计中,所述多个接合焊盘中的至少一个具有伸长
部,以相对于所述芯片的角部呈基本上45度夹角定向,并且至少一个接合
焊盘具有伸长部,以相对于所述芯片的边缘呈基本上90度夹角定向。

根据本发明的另一方面,提供了一种接合焊盘结构,包括:一个或多
个接合焊盘,所述一个或多个接合焊盘位于半导体器件的上方,其中,所
述接合焊盘具有包括较窄部分和较宽部分的伸长的椭圆形,所述较宽部分
大体上与应力方向平行,所述应力方向从所述半导体器件的中心向外辐射;
以及一个或多个凸块下金属(UBM)层,所述一个或多个凸块下金属层形
成在所述一个或多个接合焊盘的相应接合焊盘上。

所述的接合焊盘结构进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多条
布线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。

在所述的接合焊盘结构中,所述UBM层之一的直径大于所述接合焊
盘之一的所述较窄部分的长度;或者所述UBM层之一的直径小于所述接
合焊盘之一的所述较宽部分的长度;或者以相对于所述半导体器件的角部
呈约45度定位所述一个或多个接合焊盘之一的所述伸长部;或者以相对于
所述半导体器件的边部呈约90度定位所述一个或多个接合焊盘之一的所
述伸长部。

根据本发明的又一方面,提供了一种接合焊盘设计,包括:多个接合
焊盘和多个UBM层,所述多个接合焊盘和多个UBM层以所述接合焊盘具
有包括伸长部和收缩部的形状的方式分别形成在芯片的表面上,并且其中,
所述接合焊盘被配置为从所述芯片的中心向外延伸至所述芯片的外围的阵
列。

所述的接合焊盘设计进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多条
布线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。

在所述的接合焊盘设计中,所述接合焊盘沿着应力方向被配置在所述
芯片中;或者所述接合焊盘具有椭圆形,所述接合焊盘具有伸长的椭圆形;
或者所述UBM层之一的直径大于所述接合焊盘之一的所述收缩部;或者
所述UBM层之一的直径小于所述接合焊盘之一的所述伸长部。

附图说明

通过以下详细描述、所附权利要求、以及附图可以使本发明的特征、
各个方面、和优点变得更加显而易见。

图1为示出在半导体制造的阶段过程中的芯片(或晶圆)的横截面图。

图2为图1的芯片的接合焊盘设计的俯视图,其中,接合焊盘的尺寸
大于UBM的尺寸。

图3为图1的芯片的接合焊盘设计的俯视图,其中,接合焊盘的尺寸
小于UBM的尺寸。

图4为根据本发明的一个实施例的接合焊盘设计的俯视图。

图5为根据本发明的另一个实施例的接合焊盘设计的俯视图。

具体实施方式

在以下描述中,许多特定的细节被阐述用于提供对本发明实施例的全
面理解。然而,本领域的普通技术人员应意识到没有这些特定的细节也可
实施本发明的实施例。在一些实例中,没有详细描述公知的结构和工艺,
从而避免了使本发明的实施例不必要地变得模糊。

整个说明书中所提及的“一个实施例”或“某个实施例”指的是本发
明的至少一个实施例包括关于实施例所描述的特定部件、结构或特征。因
此,在整个本说明书的各个位置出现的短语“在一个实施中”或“在某个
实施例中”不一定指同一个实施例。而且,在一个或多个实施例中可以以
任何合适的方式组合特定部件、结构或特征。应当理解,以下附图没有按
比例绘制,这些附图只是为了说明的目的。

图4为根据本发明的一个实施例的接合焊盘设计24的俯视图。接合焊
盘设计24包括:多个接合焊盘39,位于半导体芯片或晶圆20的上方。在
多个接合焊盘39的各个接合焊盘上形成多个UBM层41。应该注意到,图
4和图5仅示出了具有接合焊盘设计的相应UBM层41的16个接合焊盘,
该接合焊盘设计可以包括具有相应UBM层的几百个这种接合焊盘。仅是
为了清晰示出本发明的各种实施例的各个方面而限定本文所示的接合焊盘
数量和UBM层。本发明不仅限于任何特定数量的接合焊盘或UBM层。

接合焊盘39具有通常伸长的形状,该形状具有如测量为长度L的较宽
部或者伸长部以及如测量为宽度W的较窄部或收缩部。根据本发明的一个
实施例,UBM层41的直径大于结合焊盘39的宽度W。根据另一实施例,
UBM层41的直径小于接合焊盘39的长度L。在本发明的其他实施例中,
多个接合焊盘39中的每个具有伸长的圆形。在又一实施例中,多个接合焊
盘39中的每个具有伸长的椭圆形。然而,应该理解,只要每种形状具有伸
长部和收缩部,接合焊盘39就可以具有任何多种形状。

根据本发明的方面,通过非圆形的形状,接合焊盘39的较窄部或收缩
部提供了位于相邻接合焊盘39之间的更大间距,从而允许在钝化层36中
的相邻接合焊盘39之间的更多布线或RDL 46。提供更多布线的这种设计
尤其可应用于更高密度的半导体器件。

当接合焊盘的尺寸显著地影响倒装芯片封装件的可靠性时,根据本发
明的另一方面,较宽部或伸长部为下层UBM层41提供更大支撑,使封装
件不易由于翘曲和/或热循环应力所导致的分层。例如,在将芯片20接合
至封装衬底(未示出)以后,由于在芯片20的热膨胀系数(CTE)和封装
衬底的CTE之间的偏差而生成应力。虽然接合焊盘39具有较窄部,但是
通过增大提供伸长部的接合焊盘39的尺寸,将更小的应力传递给互连结构
40,因此,改善了生成的封装件的可靠性。

明显地,在芯片20的外围或者角部15处,分层问题尤其严重,因为
角部15比芯片的其他地方(例如在中心处)经受更大的应力。至少由于这
种原因,根据本发明的另一方面,接合焊盘39具有大体上沿着应力方向
60定向的接合焊盘的伸长部,该应力方向从芯片20的中心部辐射到芯片
的外围或角部15。通过大体上沿着应力方向60定向伸长部,接合焊盘设
计24的实施例更好更有效地解决了分层问题,因为伸长部提供了每单位接
合焊盘的更大的线性覆盖,同时提高了接合焊盘39的应力分布特征。

如图5所示,具有沿着应力方向60定向的接合焊盘的伸长部的接合焊
盘39被配置为阵列,应力方向从芯片20的中心至向外延伸芯片的外围。
根据一些实施例,多个接合焊盘39中的一个或多个具有接合焊盘的伸长
部,该接合焊盘的伸长部沿着应力方向60定向,将该应力方向相对于芯片
20角部为夹角62。根据一些实施例,夹角62相对于芯片20的角部具有基
本上45度夹角。根据其他实施例,多个接合焊盘39中的一个或多个具有
沿着应力方向60定向的接合焊盘的伸长部,并且相对于芯片20的角部15
具有基本上90度夹角,将该90度夹角标示为夹角64。

根据本发明的一个实施例,接合焊盘设计包括:多个接合焊盘,位于
半导体芯片上;和多个凸块下金属(UBM)层,被形成在多个接合焊盘的
相应接合焊盘上,其中,接合焊盘中的至少一个具有伸长形状,该伸长形
状具有伸长部和收缩部,该伸长部大体上沿着从芯片的中心辐射至芯片的
外围的应力方向定向。

根据本发明的另一实施例,接合焊盘结构包括:一个或多个接合焊盘,
位于半导体器件上方;和一个或多个凸块下金属(UBM)层,被形成在一
个或多个接合焊盘的相应接合焊盘的上方,其中,接合焊盘具有伸长的椭
圆形,该伸长的椭圆形具有较窄部分和较宽部分,较宽部分大体上与从半
导体器件的中心向外辐射的应力方向平行。

根据本发明的又一实施例,接合焊盘设计包括:多个接合焊盘和多个
UBM层,分别以接合焊盘具有包括伸长部和收缩部的形状方式被形成在芯
片的表面上,并且其中,将接合焊盘配置为阵列,该阵列从芯片中心向外
延伸至芯片的外围。

本发明的实施例具有几个优点。接合焊盘的较窄部或收缩部提供了相
邻接合焊盘之间的更大间距,从而允许焊盘之间更多的布线。此外,通过
沿着应力方向对准接合焊盘的伸长部,低k介电层享有更大保护而防止分
层,因为更小的应力传递给互连结构,因此改善了倒装芯片封装件的可靠
性。此外,除了需要修改一种掩模以外,不需要额外的光刻步骤。

在以上详细的描述中,已经描述了特定的示例性实施例。然而,显而
易见地,在不背离本发明的宽泛主旨和范围的情况下,本领域中的普通技
术人员可以做各种更改、结构、工艺和改变。因此,说明书和附图是为了
说明而不用于限定的目的。应该理解,本发明的实施例可以使用各种其它
组合和环境且可以在本权利要求书的范围内进行改变和更改。

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1、(10)申请公布号 CN 102842547 A (43)申请公布日 2012.12.26 C N 1 0 2 8 4 2 5 4 7 A *CN102842547A* (21)申请号 201110332275.1 (22)申请日 2011.10.25 13/167,906 2011.06.24 US H01L 23/488(2006.01) H01L 23/48(2006.01) H01L 21/60(2006.01) (71)申请人台湾积体电路制造股份有限公司 地址中国台湾新竹 (72)发明人周逸曼 郭彦良 (74)专利代理机构北京德恒律师事务所 11306 代理人陆鑫 高雪琴 (54) 。

2、发明名称 用于改善布线和减小封装应力的接合焊盘设 计 (57) 摘要 接合焊盘设计包括:多个接合焊盘,位于半导 体芯片上方;和多个凸块下金属(UBM)层,形成在 多个接合焊盘的相应接合焊盘的上方。接合焊盘 中的至少一个具有包括伸长部和收缩部的伸长形 状,伸长部大体上沿着从芯片的中心辐射到外围 的应力方向定向。本发明公开了用于改善布线和 减小封装应力的接合焊盘设计。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 4 页 附图 3 页 1/1页 2 1.一种接合焊盘设计,包括。

3、: 多个接合焊盘,所述多个接合焊盘位于半导体芯片的上方,其中,所述接合焊盘中的至 少一个具有伸长形状,该伸长形状具有伸长部和收缩部,所述伸长部大体上沿着从所述芯 片的中心向所述芯片的外围辐射的应力方向定向;以及 多个凸块下金属(UBM)层,所述多个凸块下金属层被形成在所述多个接合焊盘的相应 接合焊盘的上方。 2.根据权利要求1所述的接合焊盘设计,进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多 条布线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。 3.根据权利要求1所述的接合焊盘设计,其中,所述多个UBM层中的至少一个的直径大 于所述多个接合焊盘中的一个的所述收缩部的长度。 4.根据权利要求1所述的接合焊盘设。

4、计,其中,所述多个UBM层中的至少一个的直径小 于所述多个接合焊盘中的一个的所述伸长部的长度。 5.根据权利要求1所述的接合焊盘设计,其中,所述多个接合焊盘中的至少一个具有 伸长部,以相对于所述芯片的角部呈基本上45度夹角定向,并且至少一个接合焊盘具有伸 长部,以相对于所述芯片的边缘呈基本上90度夹角定向。 6.一种接合焊盘结构,包括: 一个或多个接合焊盘,所述一个或多个接合焊盘位于半导体器件的上方,其中,所述接 合焊盘具有包括较窄部分和较宽部分的伸长的椭圆形,所述较宽部分大体上与应力方向平 行,所述应力方向从所述半导体器件的中心向外辐射;以及 一个或多个凸块下金属(UBM)层,所述一个或多个。

5、凸块下金属层形成在所述一个或多 个接合焊盘的相应接合焊盘上。 7.根据权利要求6所述的接合焊盘结构,进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多 条布线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。 8.根据权利要求6所述的接合焊盘结构,其中,所述UBM层之一的直径大于所述接合焊 盘之一的所述较窄部分的长度。 9.根据权利要求6所述的接合焊盘结构,其中,所述UBM层之一的直径小于所述接合焊 盘之一的所述较宽部分的长度。 10.一种接合焊盘设计,包括: 多个接合焊盘和多个UBM层,所述多个接合焊盘和多个UBM层以所述接合焊盘具有包 括伸长部和收缩部的形状的方式分别形成在芯片的表面上,并且其中,所述接合焊盘被。

6、配 置为从所述芯片的中心向外延伸至所述芯片的外围的阵列;以及 一条或多条布线,所述一条或多条布线位于任意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。 权 利 要 求 书CN 102842547 A 1/4页 3 用于改善布线和减小封装应力的接合焊盘设计 技术领域 0001 本发明大体上涉及半导体封装,更具体地来说,涉及改善布线和减小封装应力的 接合焊盘设计。 背景技术 0002 现在,晶圆级芯片封装(WLCSP)由于其低成本和相对简单的工艺而被广泛使用。 在典型的WLCSP中,在金属化层上形成互连结构,然后形成凸块下金属(UBM),并且安装焊 料球。图1为发明人已知的和用在WLCSP中的互连结构的横截面图。。

7、芯片(或者晶圆)20 包括衬底30,在该衬底上形成有源电路32。互连结构40包括:多个金属化层,该金属化层 具有金属线和通孔(未示出)。金属化层包括顶部介电层,在该顶部介电层中形成金属焊 盘52。金属焊盘52可以通过通孔48、布线或者重新分布层(RDL)46电连接至接合焊盘38。 在衬底30的上方,并且也在互连结构40的上方形成钝化层34和36。在钝化层34的上方 形成接合焊盘38,并且UBM层41与接合焊盘38接触。在UBM层41的上方形成凸块球42, 并且该凸块球电连接至并且可能与UBM层41接触。接合焊盘38具有水平尺寸L1,在与衬 底的前面(在图1中面朝上的表面)平行的平面上测量该水平。

8、尺寸。UBM层41具有尺寸 L2,在与水平尺寸L1的方向相同的方向上测量该尺寸。为了降低在芯片20中的翘曲并且 因此产生的分层的不利影响,接合焊盘38的尺寸L1通常大于UBM层41的尺寸L2。在图2 中示出了图1中所示的结构的接合焊盘设计22的俯视图。 0003 因为其尺寸,接合焊盘38占用了芯片表面的相当大的比例。因为接合焊盘38具 有圆形,并且具有越来越高的半导体器件的密度,圆形接合焊盘38的尺寸可能限定布线或 者用于布线的RDL 46的数量。如果在每一给定区域上的布线太多,则存在桥接或导致短路 的危险。 0004 通过减小圆形接合焊盘38的尺寸,设计者可以将在相邻接合焊盘38之间的更大 。

9、间距提供用于布线。图3示出了接合焊盘设计22的实例,其中,接合焊盘38的尺寸L1小 于UBM层41的尺寸L2。与在图2中所示的设计相比较,这种设计允许有在相邻接合焊盘 38之间的额外布线。然而,具有这种设计的芯片易于由翘曲和/或热循环应力导致的分层。 可以通过接合焊盘38将应力传递给互连结构40,潜在导致低k介电层在互连结构40中分 层。当接合焊盘38的尺寸减小时,因为减小了用于UBM层41的支撑,所以将更大的应力传 递给互连结构40;因此生成的封装件的可靠性下降。分层在芯片20的角部15处尤其严重。 为了减小分层的危险,接合焊盘38的尺寸L1通常大于UBM层41的尺寸L2的预定数量。 000。

10、5 由于阅读以下详细描述时显而易见的这些原因和其他原因,需要提供额外布线同 时减小封装应力的改善的接合焊盘设计。 发明内容 0006 为了解决现有技术所存在的问题,根据本发明的一个方面,提供了一种接合焊盘 设计,包括:多个接合焊盘,所述多个接合焊盘位于半导体芯片的上方,其中,所述接合焊盘 说 明 书CN 102842547 A 2/4页 4 中的至少一个具有伸长形状,该伸长形状具有伸长部和收缩部,所述伸长部大体上沿着从 所述芯片的中心向所述芯片的外围辐射的应力方向定向;以及多个凸块下金属(UBM)层, 所述多个凸块下金属层被形成在所述多个接合焊盘的相应接合焊盘的上方。 0007 所述接合焊盘设。

11、计进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多条布线位于任意 两个相邻接合焊盘之间的间隙中。 0008 在所述接合焊盘设计中,所述多个接合焊盘中的至少一个具有伸长的圆形;或者 所述接合焊盘中的至少一个具有伸长的椭圆形;或者所述多个UBM层中的至少一个的直径 大于所述多个接合焊盘中的一个的所述收缩部的长度;或者所述多个UBM层中的至少一个 的直径小于所述多个接合焊盘中的一个的所述伸长部的长度。 0009 在所述的接合焊盘设计中,所述多个接合焊盘中的至少一个具有伸长部,以相对 于所述芯片的角部呈基本上45度夹角定向,并且至少一个接合焊盘具有伸长部,以相对于 所述芯片的边缘呈基本上90度夹角定向。 00。

12、10 根据本发明的另一方面,提供了一种接合焊盘结构,包括:一个或多个接合焊盘, 所述一个或多个接合焊盘位于半导体器件的上方,其中,所述接合焊盘具有包括较窄部分 和较宽部分的伸长的椭圆形,所述较宽部分大体上与应力方向平行,所述应力方向从所述 半导体器件的中心向外辐射;以及一个或多个凸块下金属(UBM)层,所述一个或多个凸块 下金属层形成在所述一个或多个接合焊盘的相应接合焊盘上。 0011 所述的接合焊盘结构进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多条布线位于任 意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。 0012 在所述的接合焊盘结构中,所述UBM层之一的直径大于所述接合焊盘之一的所述 较窄部分的长度;或者。

13、所述UBM层之一的直径小于所述接合焊盘之一的所述较宽部分的长 度;或者以相对于所述半导体器件的角部呈约45度定位所述一个或多个接合焊盘之一的 所述伸长部;或者以相对于所述半导体器件的边部呈约90度定位所述一个或多个接合焊 盘之一的所述伸长部。 0013 根据本发明的又一方面,提供了一种接合焊盘设计,包括:多个接合焊盘和多个 UBM层,所述多个接合焊盘和多个UBM层以所述接合焊盘具有包括伸长部和收缩部的形状 的方式分别形成在芯片的表面上,并且其中,所述接合焊盘被配置为从所述芯片的中心向 外延伸至所述芯片的外围的阵列。 0014 所述的接合焊盘设计进一步包括:一条或多条布线,所述一条或多条布线位于。

14、任 意两个相邻接合焊盘之间的间隙中。 0015 在所述的接合焊盘设计中,所述接合焊盘沿着应力方向被配置在所述芯片中;或 者所述接合焊盘具有椭圆形,所述接合焊盘具有伸长的椭圆形;或者所述UBM层之一的直 径大于所述接合焊盘之一的所述收缩部;或者所述UBM层之一的直径小于所述接合焊盘之 一的所述伸长部。 附图说明 0016 通过以下详细描述、所附权利要求、以及附图可以使本发明的特征、各个方面、和 优点变得更加显而易见。 0017 图1为示出在半导体制造的阶段过程中的芯片(或晶圆)的横截面图。 说 明 书CN 102842547 A 3/4页 5 0018 图2为图1的芯片的接合焊盘设计的俯视图,其。

15、中,接合焊盘的尺寸大于UBM的尺 寸。 0019 图3为图1的芯片的接合焊盘设计的俯视图,其中,接合焊盘的尺寸小于UBM的尺 寸。 0020 图4为根据本发明的一个实施例的接合焊盘设计的俯视图。 0021 图5为根据本发明的另一个实施例的接合焊盘设计的俯视图。 具体实施方式 0022 在以下描述中,许多特定的细节被阐述用于提供对本发明实施例的全面理解。然 而,本领域的普通技术人员应意识到没有这些特定的细节也可实施本发明的实施例。在一 些实例中,没有详细描述公知的结构和工艺,从而避免了使本发明的实施例不必要地变得 模糊。 0023 整个说明书中所提及的“一个实施例”或“某个实施例”指的是本发明的。

16、至少一个 实施例包括关于实施例所描述的特定部件、结构或特征。因此,在整个本说明书的各个位置 出现的短语“在一个实施中”或“在某个实施例中”不一定指同一个实施例。而且,在一个 或多个实施例中可以以任何合适的方式组合特定部件、结构或特征。应当理解,以下附图没 有按比例绘制,这些附图只是为了说明的目的。 0024 图4为根据本发明的一个实施例的接合焊盘设计24的俯视图。接合焊盘设计24 包括:多个接合焊盘39,位于半导体芯片或晶圆20的上方。在多个接合焊盘39的各个接 合焊盘上形成多个UBM层41。应该注意到,图4和图5仅示出了具有接合焊盘设计的相应 UBM层41的16个接合焊盘,该接合焊盘设计可以。

17、包括具有相应UBM层的几百个这种接合焊 盘。仅是为了清晰示出本发明的各种实施例的各个方面而限定本文所示的接合焊盘数量和 UBM层。本发明不仅限于任何特定数量的接合焊盘或UBM层。 0025 接合焊盘39具有通常伸长的形状,该形状具有如测量为长度L的较宽部或者伸长 部以及如测量为宽度W的较窄部或收缩部。根据本发明的一个实施例,UBM层41的直径大 于结合焊盘39的宽度W。根据另一实施例,UBM层41的直径小于接合焊盘39的长度L。在 本发明的其他实施例中,多个接合焊盘39中的每个具有伸长的圆形。在又一实施例中,多 个接合焊盘39中的每个具有伸长的椭圆形。然而,应该理解,只要每种形状具有伸长部和 。

18、收缩部,接合焊盘39就可以具有任何多种形状。 0026 根据本发明的方面,通过非圆形的形状,接合焊盘39的较窄部或收缩部提供了位 于相邻接合焊盘39之间的更大间距,从而允许在钝化层36中的相邻接合焊盘39之间的更 多布线或RDL 46。提供更多布线的这种设计尤其可应用于更高密度的半导体器件。 0027 当接合焊盘的尺寸显著地影响倒装芯片封装件的可靠性时,根据本发明的另一方 面,较宽部或伸长部为下层UBM层41提供更大支撑,使封装件不易由于翘曲和/或热循环 应力所导致的分层。例如,在将芯片20接合至封装衬底(未示出)以后,由于在芯片20的 热膨胀系数(CTE)和封装衬底的CTE之间的偏差而生成应。

19、力。虽然接合焊盘39具有较窄 部,但是通过增大提供伸长部的接合焊盘39的尺寸,将更小的应力传递给互连结构40,因 此,改善了生成的封装件的可靠性。 0028 明显地,在芯片20的外围或者角部15处,分层问题尤其严重,因为角部15比芯片 说 明 书CN 102842547 A 4/4页 6 的其他地方(例如在中心处)经受更大的应力。至少由于这种原因,根据本发明的另一方 面,接合焊盘39具有大体上沿着应力方向60定向的接合焊盘的伸长部,该应力方向从芯片 20的中心部辐射到芯片的外围或角部15。通过大体上沿着应力方向60定向伸长部,接合 焊盘设计24的实施例更好更有效地解决了分层问题,因为伸长部提供。

20、了每单位接合焊盘 的更大的线性覆盖,同时提高了接合焊盘39的应力分布特征。 0029 如图5所示,具有沿着应力方向60定向的接合焊盘的伸长部的接合焊盘39被配 置为阵列,应力方向从芯片20的中心至向外延伸芯片的外围。根据一些实施例,多个接合 焊盘39中的一个或多个具有接合焊盘的伸长部,该接合焊盘的伸长部沿着应力方向60定 向,将该应力方向相对于芯片20角部为夹角62。根据一些实施例,夹角62相对于芯片20 的角部具有基本上45度夹角。根据其他实施例,多个接合焊盘39中的一个或多个具有沿 着应力方向60定向的接合焊盘的伸长部,并且相对于芯片20的角部15具有基本上90度 夹角,将该90度夹角标示。

21、为夹角64。 0030 根据本发明的一个实施例,接合焊盘设计包括:多个接合焊盘,位于半导体芯片 上;和多个凸块下金属(UBM)层,被形成在多个接合焊盘的相应接合焊盘上,其中,接合焊 盘中的至少一个具有伸长形状,该伸长形状具有伸长部和收缩部,该伸长部大体上沿着从 芯片的中心辐射至芯片的外围的应力方向定向。 0031 根据本发明的另一实施例,接合焊盘结构包括:一个或多个接合焊盘,位于半导 体器件上方;和一个或多个凸块下金属(UBM)层,被形成在一个或多个接合焊盘的相应接 合焊盘的上方,其中,接合焊盘具有伸长的椭圆形,该伸长的椭圆形具有较窄部分和较宽部 分,较宽部分大体上与从半导体器件的中心向外辐射。

22、的应力方向平行。 0032 根据本发明的又一实施例,接合焊盘设计包括:多个接合焊盘和多个UBM层,分别 以接合焊盘具有包括伸长部和收缩部的形状方式被形成在芯片的表面上,并且其中,将接 合焊盘配置为阵列,该阵列从芯片中心向外延伸至芯片的外围。 0033 本发明的实施例具有几个优点。接合焊盘的较窄部或收缩部提供了相邻接合焊盘 之间的更大间距,从而允许焊盘之间更多的布线。此外,通过沿着应力方向对准接合焊盘的 伸长部,低k介电层享有更大保护而防止分层,因为更小的应力传递给互连结构,因此改善 了倒装芯片封装件的可靠性。此外,除了需要修改一种掩模以外,不需要额外的光刻步骤。 0034 在以上详细的描述中,已经描述了特定的示例性实施例。然而,显而易见地,在不 背离本发明的宽泛主旨和范围的情况下,本领域中的普通技术人员可以做各种更改、结构、 工艺和改变。因此,说明书和附图是为了说明而不用于限定的目的。应该理解,本发明的实 施例可以使用各种其它组合和环境且可以在本权利要求书的范围内进行改变和更改。 说 明 书CN 102842547 A 1/3页 7 图1 图2 说 明 书 附 图CN 102842547 A 2/3页 8 图3 图4 说 明 书 附 图CN 102842547 A 3/3页 9 图5 说 明 书 附 图CN 102842547 A 。

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