光学组件及其制造方法、光伏器件.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 102842623 A (43)申请公布日 2012.12.26 C N 1 0 2 8 4 2 6 2 3 A *CN102842623A* (21)申请号 201210226532.8 (22)申请日 2012.06.29 H01L 31/0216(2006.01) H01L 31/18(2006.01) (71)申请人法国圣戈班玻璃公司 地址法国库伯瓦 (72)发明人谷鋆鑫 王正佳 陈捷 (74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人朱胜 李春晖 (54) 发明名称 光学组件及其制造方法、光伏器件 (57) 摘要 一种光学组件及其制造方法。

2、、光伏器件。所述 光学组件包括：基底；抗反射膜，覆盖于所述基底 上，所述抗反射膜包括多个位于所述基底上的纳 米棒，所述纳米棒与所述基底不相接触的端面形 成有台阶结构。一种光伏器件，包括：所述的光学 组件，所述光学组件中的基底为透明基底；太阳 能电池，位于所述透明基底未设置抗反射膜的一 侧。相应地，本发明还提供一种光学组件的制造方 法，包括：提供基底；在所述基底上形成多个纳米 棒；在所述纳米棒与所述基底不相接触的端面形 成台阶结构。本发明可以提高抗反射膜的减反效 果。 (51)Int.Cl. 权利要求书2页 说明书6页 附图4页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要。

3、求书 2 页 说明书 6 页 附图 4 页 1/2页 2 1.一种光学组件，其特征在于，包括： 基底； 抗反射膜，覆盖于所述基底上，所述抗反射膜包括多个位于所述基底上的纳米棒，所述 纳米棒与所述基底不相接触的端面形成有台阶结构。 2.如权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述纳米棒为氧化锌纳米棒、二氧化钛 纳米棒或氧化铟锡纳米棒。 3.如权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述端面形成有凹陷，所述台阶结构由 所述凹陷形成。 4.如权利要求3所述的光学组件，其特征在于，所述纳米棒为具有六角棱柱晶体结构 的氧化锌纳米棒，所述凹陷由(001)晶面刻蚀而成。 5.如权利要求3所述的光学组件，其特征。

4、在于，所述凹陷的深度为形成所述凹陷的纳 米棒长度的0.10.9倍。 6.如权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述基底的材料为玻璃、金属或塑料。 7.一种光伏器件，其特征在于，包括： 如权利要求16中任一权利要求所述的光学组件，所述光学组件中的基底为透明基 底； 太阳能电池，位于所述透明基底未设置抗反射膜的一侧。 8.如权利要求7所述的光伏器件，其特征在于，所述透明基底的材料为有机玻璃或塑 料。 9.一种光学组件的制造方法，其特征在于，包括： 提供基底； 在所述基底上形成多个纳米棒； 在所述纳米棒与所述基底不相接触的端面形成台阶结构。 10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，在提供基底。

5、之后，形成纳米棒之前还 包括清洗所述基底。 11.如权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述基底为玻璃，所述清洗所述基底 的步骤包括： 依次通过丙酮、异丙醇和去离子水对所述基底进行超声波震荡清洗； 通过氢氟酸或硝酸溶液对所述基底进行粗糙化处理。 12.如权利要求9、10或11所述的制造方法，其特征在于，所述纳米棒为氧化锌纳米棒， 形成纳米棒的步骤包括： 将醋酸锌和单乙醇胺溶解于乙醇，形成涂膜溶液； 将所述涂膜溶液通过旋涂的方式涂覆在基底上； 对所述基底进行加热，使所述涂膜溶液分解，在所述基底上形成氧化锌晶种； 将六水合硝酸锌和环六亚甲基四胺溶液混合，形成生长溶液； 将形成有氧化锌晶种的基底。

6、放置于所述生长溶液中，以在所述晶种所在位置处生长氧 化锌纳米棒。 13.如权利要求12所述的制造方法，其特征在于，形成氧化锌晶种的步骤包括：大气压 下，对所述基底加热至300400，以所述温度对基底加热持续0.52小时，以使所述涂膜 权 利 要 求 书CN 102842623 A 2/2页 3 溶液分解。 14.如权利要求12所述的制造方法，其特征在于，生长氧化锌纳米棒的步骤包括：将形 成有氧化锌晶种的基底放置于温度为8095的所述生长溶液中，持续120300分钟，以形 成氧化锌纳米棒。 15.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，在形成纳米棒之后，形成台阶结构之 前，还包括： 通过去离子水。

7、清洗所述纳米棒，以去除残余溶液； 清洗之后，将形成有纳米棒的基底晾干。 16.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，在纳米棒与所述基底不相接触的端面 形成台阶结构的步骤包括：将形成有纳米棒的基底放置在刻蚀溶液中，通过所述刻蚀溶液 在所述纳米棒与基底不相接触的端面上刻蚀出台阶结构。 17.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述纳米棒为氧化锌纳米棒；在纳米 棒与所述基底不相接触的端面形成台阶结构的步骤包括：通过酸性或碱性溶液刻蚀氧化锌 纳米棒的(001)晶面，在所述端面形成凹陷，以形成由所述凹陷形成的台阶结构。 18.如权利要求17所述的制造方法，其特征在于，通过酸性或碱性溶液刻蚀纳米棒的。

8、 (001)晶面的步骤包括：在温度为2085的条件下，将氧化锌纳米棒放置于盐酸溶液中持 续560分钟，所述盐酸的浓度位于0.0010.1摩尔/升范围内。 19.如权利要求17所述的制造方法，其特征在于，通过酸性或碱性溶液刻蚀纳米棒的 (001)晶面的步骤包括：在温度为2085的条件下，将氧化锌纳米棒放置氢氧化钾溶液中 持续560分钟，所述氢氧化钾的浓度位于0.0010.1摩尔/升范围内。 权 利 要 求 书CN 102842623 A 1/6页 4 光学组件及其制造方法、 光伏器件 技术领域 0001 本发明涉及光学材料领域，尤其涉及一种光学组件及其制造方法、光伏器件。 背景技术 0002 光。

9、在传播时，在不同介质的分界面上通常会有一部分改变传播方向而返回原来介 质中。这被称为光的反射。通常，不同介质之间折射率的差异越大，光在该分界面处的反射 将越强。 0003 飞蛾的复眼可以被看作是由六角形纳米结构突起有序排列而成的阵列结构。这个 阵列被认为是角膜表面的同质透明层，每一个纳米结构突起相当于一个减反射单元。这样 的结构使得飞蛾的复眼具有低反光性，使其看起来异常黑。因此，即使飞蛾在夜间飞行也不 易被察觉。这样的效应被称为蛾眼效应。在光学领域中，基于蛾眼效应的抗反射技术成为 本领域技术人员研究的热点。 0004 下面结合蛾眼结构的不同光学模型，对蛾眼结构抗反射作用的原理进行说明。 000。

10、5 参考图1，示出了一种蛾眼结构模型的等效示意图。根据绕射理论，当蛾眼结构1 的表面具有微突起的结构变化时（即蛾眼结构1中的小台阶高度差接近或小于光波长时）， 这种微突起的结构变化将引起材料折射率的微变化，会形成自空气至蛾眼结构1折射率 n1、n2、n3、n4依次增大的趋势，从而减少光的反射。 0006 参考图2，示出了另一种蛾眼结构模型的等效示意图。当参考图1中的微突起尺寸 进一步减小，微突起密度进一步增多，其结构从总体上看就越来越接近于蛾眼结构2的连 续变化斜面。这将引起于蛾眼结构2的折射率沿深度方向从n1至n4呈连续变化，从而进 一步减小折射率急剧变化所造成的反射现象。 0007 基于所。

11、述蛾眼效应，现有技术中发展了各种仿生光学材料，以起到减少光反射的 作用。氧化锌（ZnO）纳米棒为模拟蛾眼效应实现抗反射的光学材料之一。 0008 参考图3，示出了现有技术具有抗反射膜的玻璃结构的示意图。所述玻璃结构包 括：玻璃板10，形成于玻璃板10上的抗反射膜11，所述抗反射膜11包括氧化锌纳米棒12 阵列。所述氧化锌纳米棒12垂直于所述玻璃板10排列，不同的氧化锌纳米棒12具有不同 的高度。氧化锌纳米棒12之间的高度差d1，氧化锌纳米棒12在玻璃板10上的高度d2不 相同，形成类似于图1所示蛾眼模型的凸起状微结构，可以起抗反射的作用。 0009 然而，现有技术中所述氧化锌纳米棒阵列形成的抗。

12、反射膜抗反射效果不够良好， 如何提高抗反射膜的效果是本领域技术人员亟待解决的技术问题之一。 发明内容 0010 本发明解决的技术问题是提高抗反射膜的减反效果。 0011 为了解决上述问题，本发明提供一种光学组件，包括：基底；抗反射膜，覆盖于所 述基底上，所述抗反射膜包括多个位于所述基底上的纳米棒，所述纳米棒与所述基底不相 接触的端面形成有台阶结构。 说 明 书CN 102842623 A 2/6页 5 0012 可选地，所述纳米棒为氧化锌纳米棒、二氧化钛纳米棒或氧化铟锡纳米棒。 0013 可选地，所述端面形成有凹陷，所述台阶结构由所述凹陷形成。 0014 可选地，所述纳米棒为具有六角棱柱晶体结。

13、构的氧化锌纳米棒，所述凹陷由(001) 晶面刻蚀而成。 0015 可选地，所述凹陷的深度为形成所述凹陷的纳米棒长度的0.10.9倍。 0016 可选地，所述基底的材料为玻璃、金属或塑料。 0017 相应地，本发明还提供一种光伏器件，包括：所述的光学组件，所述光学组件中的 基底为透明基底；太阳能电池，位于所述透明基底未设置抗反射膜的一侧。 0018 可选地，所述透明基底的材料为有机玻璃或塑料。 0019 相应地，本发明还提供一种光学组件的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上 形成多个纳米棒；在所述纳米棒与所述基底不相接触的端面形成台阶结构。 0020 可选地，在提供基底之后，形成纳米棒之前还包。

14、括清洗所述基底。 0021 可选地，所述基底为玻璃，所述清洗所述基底的步骤包括：依次通过丙酮、异丙醇 和去离子水对所述基底进行超声波震荡清洗；通过氢氟酸或硝酸溶液对所述基底进行粗糙 化处理。 0022 可选地，所述纳米棒为氧化锌纳米棒，形成纳米棒的步骤包括：将醋酸锌和单乙醇 胺溶解于乙醇，形成涂膜溶液；将所述涂膜溶液通过旋涂的方式涂覆在基底上；对所述基 底进行加热，使所述涂膜溶液分解，在所述基底上形成氧化锌晶种；将六水合硝酸锌和环六 亚甲基四胺溶液混合，形成生长溶液；将形成有氧化锌晶种的基底放置于所述生长溶液中， 以在所述晶种所在位置处生长氧化锌纳米棒。 0023 可选地，形成氧化锌晶种的步骤。

15、包括：大气压下，对所述基底加热至300400， 以所述温度对基底加热持续0.52小时，以使所述涂膜溶液分解。 0024 可选地，生长氧化锌纳米棒的步骤包括：将形成有氧化锌晶种的基底放置于温度 为8095的所述生长溶液中，持续120300分钟，以形成氧化锌纳米棒。 0025 可选地，在形成纳米棒之后，形成台阶结构之前，还包括：通过去离子水清洗所述 纳米棒，以去除残余溶液；清洗之后，将形成有纳米棒的基底晾干。 0026 可选地，在纳米棒与所述基底不相接触的端面形成台阶结构的步骤包括：将形成 有纳米棒的基底放置在刻蚀溶液中，通过所述刻蚀溶液在所述纳米棒与基底不相接触的端 面上刻蚀出台阶结构。 002。

16、7 可选地，所述纳米棒为氧化锌纳米棒；在纳米棒与所述基底不相接触的端面形成 台阶结构的步骤包括：通过酸性或碱性溶液刻蚀氧化锌纳米棒的(001)晶面，在所述端面 形成凹陷，以形成由所述凹陷形成的台阶结构。 0028 可选地，通过酸性或碱性溶液刻蚀纳米棒的(001)晶面的步骤包括：在温度为 2085的条件下，将氧化锌纳米棒放置于盐酸溶液中持续560分钟，所述盐酸的浓度位 于0.0010.1摩尔/升范围内。 0029 可选地，通过酸性或碱性溶液刻蚀纳米棒的(001)晶面的步骤包括：在温度为 2085的条件下，将氧化锌纳米棒放置氢氧化钾溶液中持续560分钟，所述氢氧化钾的 浓度位于0.0010.1摩尔。

17、/升范围内。 0030 与现有技术相比，本发明具有以下优点： 说 明 书CN 102842623 A 3/6页 6 0031 光学组件中，所述抗反射膜中纳米棒和基底、纳米棒与纳米棒之间形成凸起微结 构之外，所述纳米棒与所述基底不相接触的端面还形成有台阶结构，所述台阶结构等效为 蛾眼结构的凸起状微结构，可以使抗反射膜从空气至基底的折射率变化更加缓和，从而可 以提高抗反射膜的减反效果。 附图说明 0032 图1是现有技术一种蛾眼结构模型的等效示意图； 0033 图2是现有技术另一种蛾眼结构模型的等效示意图； 0034 图3是现有技术具有抗反射膜的玻璃结构的示意图； 0035 图4是本发明光学组件一。

18、实施例的示意图； 0036 图5是图4所示光学组件的放大示意图； 0037 图6是本发明光学组件制造方法一实施方式的流程示意图； 0038 图7是本发明图6所示步骤S2一实施例的流程示意图； 0039 图8至图10是本发明光学组件制造方法一实施例形成的抗反射膜的示意图。 具体实施方式 0040 在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以 很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况 下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。 0041 其次，本发明利用示意图进行详细描述，在详述本发明实施例时，为便于说明，所 述示意图只是。

19、示例，其在此不应限制本发明保护的范围。 0042 为了解决现有技术的问题，本发明提供一种抗反射膜，覆盖于基底上，所述抗反射 膜为纳米棒阵列结构，包括多个与所述基底垂直的纳米棒，所述纳米棒与所述基底不相接 触的端面形成有台阶结构。 0043 本发明抗反射膜中纳米棒和基底、纳米棒与纳米棒之间形成凸起微结构之外，所 述纳米棒与所述基底不相接触的端面还形成有台阶结构，所述台阶结构等效为蛾眼结构的 凸起状微结构，所述台阶结构可以使抗反射膜从空气至基底的折射率变化更加缓和，从而 可以提高抗反射膜的减反效果。 0044 下面结合具体实施例对本发明技术方案做进一步说明。 0045 参考图4，示出了本发明光学组。

20、件一实施例的示意图。所述光学组件包括： 0046 基底100，所述基底的材料可以是玻璃、金属或塑料。 0047 抗反射膜101，覆盖于所述玻璃的上表面，用于减少投射至玻璃上表面的光的反 射。具体地，所述抗反射膜101包括多个位于所述玻璃的氧化锌纳米棒102。 0048 如图4所示，氧化锌纳米棒102的下表面与所述玻璃相接触，所述氧化锌纳米棒 102的上表面为与基底100不相接触的端面，所述氧化锌纳米棒102的上表面形成有台阶结 构103。 0049 具体地，本实施例中氧化锌纳米棒102的直径在20nm500nm的范围内，高度在 100nm1000nm的范围内。需要说明的是，所述氧化锌纳米棒10。

21、2的直径越大，那么相同面积 基底100上形成的氧化锌纳米棒102的数量越少，相应地，相同面积基底100上可形成的台 说 明 书CN 102842623 A 4/6页 7 阶结构的数量也会减少。 0050 结合参考图5，示出了图4所示氧化锌纳米棒102的放大示意图。所述氧化锌纳米 棒102的上表面形成有凹陷30，所述台阶结构103由所述凹陷形成。 0051 具体地，所述氧化锌纳米棒102的晶体结构为六角棱柱晶体结构，其上表面对应 于（001）晶面，所述凹陷30由(001)晶面刻蚀（etch）而成。 0052 这是由于氧化锌的六角棱柱晶体结构中（001）晶面的表面能较高，处于亚稳态活 性较强，比较。

22、容易和刻蚀溶液发生反应。在将氧化锌纳米棒102浸入至刻蚀溶液进行刻蚀 时，所述刻蚀溶液对所述（001）晶面刻蚀速率远远大于对其他晶面的刻蚀速率。这样，可以 在去除大量（001）晶面材料的同时仅仅少量去除其他晶面的材料。 0053 具体地说，通过刻蚀部分地去除了（001）晶面对应的材料，而位于（001）晶面周围 的六角棱柱侧面基本未被去除，从而在所述六角棱柱侧面在氧化锌纳米棒102上表面围成 所述凹陷30。 0054 继续参考图4，本实施例中，所述抗反射膜101包括多个长度不同的氧化锌纳米棒 102，其中，氧化锌纳米棒102之间的高度差D1，氧化锌纳米棒102在玻璃板100上的高度 D2，具有不。

23、同高度的氧化锌纳米棒102形成蛾眼结构中凸起状微结构。除此之外，在氧化锌 纳米棒102上表面的台阶结构103中，凹陷30具有一定的深度D3，凹陷的顶部突出于所述 凹陷底部，从而也形成蛾眼结构的凸起状微结构，可以进一步缓和空气和玻璃之间折射率 突变的问题，减小光入射至玻璃上表面时光的反射。 0055 需要说明的是，所述凹陷30的深度D3如果过大，例如凹陷30贯穿所述氧化锌纳 米棒102，会使刻蚀以形成贯穿凹陷的时间过长，并且还会影响减反效果、影响氧化锌纳米 棒102与基底100的结合强度，而如果凹陷30的深度D3过小，则抗反射的效果不够明显， 因此，优选地，所述凹陷30的深度D3为形成所述凹陷的。

24、纳米棒长度的0.10.9倍。 0056 还需要说明的是，本实施例中，以氧化锌纳米棒为例进行说明，但是本发明对此不 做限制。在其他实施例中，所述纳米棒还可以是二氧化钛（TiO 2 ）纳米棒、氧化铟锡（ITO）纳 米棒等的金属氧化物纳米棒，类似地，可以在二氧化钛（TiO 2 ）纳米棒、氧化铟锡（ITO）纳米 棒的上表面形成凹陷，以形成可等效为蛾眼结构的台阶结构。 0057 本发明提供的光学组件由于覆盖有减反效果良好的抗反射膜而具有较高的光透 过率。 0058 相应地，本发明还提供一种光伏器件，包括： 0059 光学组件，所述光学组件中的基底为透明基底； 0060 太阳能电池，设置于所述光学组件未设。

25、置抗反射膜的一侧。 0061 其中，所述透明基底为有机玻璃或者塑料（例如，聚甲基丙烯酸甲酯，PMMA）。所述 光学组件与上述实施例中的光学组件相同，在此不再赘述。 0062 具体地，所述太阳能电池为非晶硅太阳能电池或微晶硅太阳能电池。本发明光伏 器件中设置有减反效果良好的抗反射膜，可以使较多的光投射至太阳能电池，提高了光伏 器件的光利用率。 0063 相应地，本发明还提供一种光学组件的制造方法，参考图6，示出了本发明光学组 件的制造方法一实施方式的流程示意图。所述光学组件制造方法大致包括以下步骤： 0064 步骤S1，提供基底； 说 明 书CN 102842623 A 5/6页 8 0065 。

26、步骤S2，在所述基底上形成多个纳米棒； 0066 步骤S3，在所述纳米棒与所述基底不相接触的端面形成台阶结构。 0067 下面结合附图和具体实施例对本发明光学组件的制造方法进行说明， 0068 执行步骤S1，提供基底；本实施例中，所述基底的材料为玻璃。但是本发明对基底 的材料不做限制，在其他实施例中所述基底的材料还可以是金属板或塑料板，本领域技术 人员可以进行相应的替换。 0069 需要说明的是，为了使纳米棒更牢固地形成于所述基底上，需要保证基底具有良 好的清洁度。因此，较佳地，在提供基底之后，形成纳米棒之前还包括清洗所述基底的步骤。 0070 本实施例中，所述基底的材料为玻璃，清洗所述基底的。

27、步骤包括：依次通过丙酮、 异丙醇和去离子水对所述基底进行超声波震荡清洗；通过氢氟酸或硝酸的溶液对所述基底 进行粗糙化处理。 0071 其中，通过丙酮、异丙醇可以去除基底上的油脂等杂质，通过去离子水清洗基底上 残留的丙酮和异丙醇，而通过超声波震荡清洗可以达到良好的清洗效果。 0072 对所述基底进行粗糙化处理有利于后续形成的纳米棒晶种附着于基底表面。 0073 执行步骤S2，在所述基底上形成多个纳米棒，本实施例中所述纳米棒为氧化锌纳 米棒，氧化锌纳米棒竖直生长在所述基底上。 0074 参考图7，示出了形成氧化锌纳米棒一实施例的流程示意图。形成氧化锌纳米棒阵 列的步骤包括： 0075 执行步骤S2。

28、1，将醋酸锌和单乙醇胺溶解于乙醇，形成涂膜溶液；所述涂膜溶液在 室温下形成。 0076 执行步骤S22，将所述涂膜溶液通过旋涂的方式涂覆在基底上；通过旋涂 (spin-coating)的方式可以保证在基底上形成均匀的薄膜，以便于后续形成大小相等的晶 种。 0077 执行步骤S23，对所述基底进行加热，使所述涂膜溶液分解，在所述基底上形成氧 化锌晶种；具体地，大气压下，对所述基底加热至300400，以所述温度对基底加热持续 0.52小时，以使所述涂膜溶液分解，在基底上形成氧化锌晶种。 0078 执行步骤S24，将六水合硝酸锌和环六亚甲基四胺溶液混合，形成生长溶液；本实 施例中，所述六水合硝酸锌和。

29、环六亚甲基四胺溶液的浓度相同。 0079 如图8所示，执行步骤S25，将形成有氧化锌晶种的基底200放置于所述生长溶液 中，以在所述晶种所在位置处生长氧化锌纳米棒201。具体地，将形成有氧化锌晶种的基底 放置于温度为8095的所述生长溶液中，持续120300分钟，以在氧化锌晶种所在位置 处形成足够长的氧化锌纳米棒201。 0080 需要说明的是，在形成纳米棒之后，形成台阶结构之前，还包括： 0081 通过去离子水清洗所述纳米棒，以去除残余溶液；所述残余溶液包括涂膜溶液、生 长溶液残留的部分。在清洗之后，将形成有纳米棒的基底在空气中晾干。 0082 如图9所示，执行步骤S3，将形成有纳米棒的基底。

30、200放置在刻蚀溶液中，通过所 述刻蚀溶液在纳米棒与所述基底200不相接触的端面上刻蚀出台阶结构202。 0083 本实施例中，所述纳米棒为氧化锌纳米棒201，所述氧化锌纳米棒201具有六角棱 柱晶体结构；具体地，通过酸性或碱性溶液刻蚀所述氧化锌纳米棒201，使所述氧化锌纳米 说 明 书CN 102842623 A 6/6页 9 棒的(001)晶面（氧化锌纳米棒201的上表面），在所述氧化锌纳米棒201(001)晶面形成凹 陷20，以形成由所述凹陷20构成的台阶结构202。 0084 参考图10，示出了图9所示氧化锌纳米棒的放大示意图。如图10所示，所述氧化 锌纳米棒201为六角棱柱晶体结构，。

31、其上表面对应于（001）晶面，由于氧化锌的六角棱柱晶 体结构中（001）晶面的表面能较高，处于亚稳态活性较强，比较容易和刻蚀溶液发生反应。 0085 在将氧化锌纳米棒102浸入至刻蚀溶液进行刻蚀时，所述刻蚀溶液对所述（001） 晶面刻蚀速率远远大于对其他晶面的刻蚀速率。这样，可以在将（001）晶面材料去除的同时 仅仅少量地去除其他晶面的材料，具体地说，六角棱柱侧面203未被去除，而去除（001）晶 面对应的材料，这种各向异性刻蚀的方法在氧化锌纳米棒102上表面形成凹陷21，所述凹 陷21相对于上表面具有一定的深度，可以形成台阶结构202，所述台阶结构202等效于蛾眼 结构中的凸起微结构，凸起微。

32、结构的增加提高了本发明抗反射膜的减反效果。 0086 需要说明的是，为了防止刻蚀溶液对氧化锌纳米棒刻蚀过量，而去除了氧化锌纳 米棒六角棱柱的侧面，通常采用低浓度的酸或低浓度的碱溶液进行刻蚀。 0087 具体地，通过酸性或碱性溶液刻蚀纳米棒的(001)晶面的步骤包括：在温度为 285的条件下，将氧化锌纳米棒放置盐酸溶液中持续560分钟，所述盐酸的浓度位于 0.0010.1摩尔/升范围内。或者，在温度为285的条件下，将氧化锌纳米棒放置氢氧化 钾溶液中持续560分钟，所述氢氧化钾的浓度位于0.0010.1摩尔/升范围内。 0088 本发明虽然已以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本发明，任何本。

33、领域 技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发 明技术方案做出可能的变动和修改，因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明 的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明技术方案 的保护范围。 说 明 书CN 102842623 A 1/4页 10 图1 图2 图3 说 明 书 附 图CN 102842623 A 10 2/4页 11 图4 图5 图6 说 明 书 附 图CN 102842623 A 11 3/4页 12 图7 图8 说 明 书 附 图CN 102842623 A 12 4/4页 13 图9 图10 说 明 书 附 图CN 102842623 A 13 。