本发明涉及一种使用金属模具制造的基片，该金属模具用于塑性材料的盘状光学存储载体的生产，本发明还涉及它们的制造方法。 为了制造金属模具或母盘（也称为制原板和电成型）以用在盘状塑性材料的光学存储载体的生产中（例如CD或LD的生产，LD为视盘），使用的是玻璃基片或母盘。由于对玻璃基片表面的要求是十分严格的，所以后期工作，例如研磨和/或抛光及清洗（以去除兰色光雾（blue haze）是非常必要的。在研磨和/或抛光工作中引入的杂质的去除是项困难的工作。另外，对基片的偏心率（eccentricity）也有要求。在这个方面，已知可利用一个金属栓柱与基片的中心相连，或者在基片上制造一个中心孔，或者利用一种精确的定位单元，如在申请人的AMS系统中所述的那样。所有这些玻璃基片的制造都有费工、费时、成本高的缺点。
本发明地目的是要克服上述不足，并完成提供上述基片的目的，这种基片的特征在于是由塑性材料制成的。
因此，可以明显看出塑性基片具有与玻璃片一样的表面精确度，并且考虑到利用化学处理和热处理制造金属模具的方法，塑性基片应是化学和热学隋性的，而且，用作基片的塑性材料必须是可模塑的。
进一步说，基片的表面精确度是由模塑过程和所使用的模塑装置来决定的。因此，不必象已知的玻璃基片的加工方法一样，每一塑性基片须单独加工，而且所述的塑料材料基片在模塑过程中就给出了中心形状（定中心）（centring configuration），这个结构由模塑装置来确定，所以不需要一个单独的加工步骤。另外，模塑过程和模塑装置使得所述基片的直径和厚度的改变成为可能。所述基片的塑料材料应被选择能吸收写入激光并且/或者能透射从指令表（order Meter）来的测量激光在后一种情况下所述基片具有光学性质。
一种合适的材料是聚醚酰亚胺，它是市场上有售的商标注册名为Ultem的GE塑料，特别是Ultem 1000更适合，因为其脆性降低了，这种材料现在已用来生产高温下使用的产品如微波炉的盘子，消毒盘和汽车灯罩。
本发明也提供了一种方法用于制造所述基片，其特性在于采用注模工艺方法。
模具决定了基片表面的精确度，以便所述基片是高度抛光的，而中心形状（定中心）可以由所述模具来确定。
当采用上述方法时，在注模之后，必须有一个处理步骤以去除基片上的静电荷，这一步骤对玻璃基片而言是不必要的。
下面将参照附图说明本发明。
图1是本发明基片的示意性截面图。
图2是聚醚酰亚胺树脂的透射曲线，它最好与光刻模塑处理相结合。
在下面的说明中，我们将从已知的用于塑性材料盘状存储载体的生产的金属模具的制备的光刻方法开始介绍，其中塑性材料也是已知的，并且，它也可能涉及母盘和或子盘或复制盘的制造。
图1示意地说明了所述塑性基片（用1表示）的一个实施例的截面视图。基片1的上侧用2表示，下侧用3表示，标号4示出了一个中心柱状凸起，是用于中心（定心）目的的。在这种情况下，这里使用的是正向心（中心），负向心（中心）或中心孔，或根本无向心（中心）也可以使用，在无向心（中心）的情况下，必须使用精密的定位机械，如在申请人的AMS系统中所述的那样。定心柱4的使用是本领域所公知的，但是定心柱4与基片1整体地形成则是新颖的。在前述的AMS系统中基片1的直径大约为16cm，厚度大约为2mm。显然，当采用光刻法时，上侧2是涂有光刻胶的一侧。为了获得满意的光刻胶的粘结，在基片1上提供一个第一涂层。欲被涂敷在其上的光刻层称为存储层，因为所希望的信息可利用写入激光存储在其中。
正如前面所解释的那样，基片1是通过模塑处理由塑性材料制成的。呈中心（定心）形状，如果希望的话，包括一个凸起4或一个相应的凹槽（未示出）。基于本发明的目的，用于形成基片1的塑性材料在原板制造过程中在化学上和热力学上应是惰性的。
按照一种可能的且是已知的光刻制原板过程，一光刻胶在室温下被提供到基片1的上侧2，而其所用的溶剂90%的甲基异丁基酮（MIBK）和10%n醋酸（异）丁酯/=甲苯/乙氧基乙烯酸酯，涂有上述光刻胶的基片1暴露在热空气中，其条件是从80℃下30分钟变化到160℃下6分钟。然后，存储的信息模式用激光束记录器在室温下写入到已热处理的的光刻胶上，不使用化学药剂。之后，所述光刻层在NaOH溶液中显影成有图案的光刻层。利用蒸发沉积处理，溅射处理或湿式化学处理将一金属膜沉积到已显影的光刻层上。随后，使用一种溶剂和化学药剂，在pH值大约为4、温度50-60℃的条件下沉积金属膜90分钟，该金属膜可从基片上取下并加清洗以去除残余的光刻胶，这时该金属膜就成为金属模具。
不用光刻制原板过程也可利用烧蚀法制原板，这是根据硝化纤维素蒸发而进行的。这时，将着色剂加入硝化纤维素中，以吸收写入激光，从而使着色剂和激光写入光的波长相互协调。通过适当地选择溶剂，有可能使用例如聚碳酸酯或苯乙烯马来无水石膏来作为这一制原板过程中的基片材料，这与光刻制原板的过程不同，因为光刻制原板过程使用了溶剂MIBK，会使上述材料扩散并出现表面裂纹。当聚醚酰亚胺树脂被用作基片材料时，则不会存在上述现象。这种材料在热处理温度的选择上有较大的自由，在烧蚀过程中也是如此，因为玻璃的转变温度比举例的聚碳酸酯高得多。于是，热处理可在高达130℃下分两步每次60分钟进行。
可能使用的几种制原板处理中的另一种是利用在基片的存储面上形成凸起部分。
返回到光刻制原板处理，可以注意到基片1必须吸收激光记录器的写入激光，其中，基片1旋转地在中心处安装，以防止当经调制的写入激光照射在上侧2上时，在下侧3上产生错误光，所以在AMS系统中，聚醚酰亚胺吸收以的写入激光（参见图2）。
在显影过程中，通过测量测量激光的强度可以测量出这一过程进行的程度是否足够，所述测量激光是从所述指令表发出的并由在基片上形成的刻痕形成反射。这样，聚醚酰亚胺树脂可透过用于AMS系统中的指令表的红色激光测量光（参见图2）。
在通常的光刻制原板过程中使用的是平玻璃（钠钙玻璃）基片，直径为240mm和360mm，厚度为6mm，它可以经研磨、抛光和冲洗过程来获得，此后，提供一个金属中心柱。
从上面的说明可以看出，当平玻璃基片由聚醚酰亚胺树脂替代时，可以使用与玻璃片所用的完全相同的光刻制原板过程和设备。
图2示出了Ultem1000（GE塑料产品商标注册名）的透射曲线，其纵轴是透射因子（%），横轴是波长（nm）。
正如上面所说明的，用于制备所述基片的塑性材料必须是可模塑的。基片1的尺寸和形状以及涂覆侧2的表面精糙度可以由塑性材料的模塑来确定，所以，术语“形状”指的是正向（中）心还是负向（中）心被提供，参见凸起4。应该注意，为了确定上述的质量基片1的下侧3的表面粗糙度必须是较低的，这可以通过所选择的模塑过程来确定。注塑是对本发明目的而言的一种较好的模塑方法。在这种情况下，为了获得对基片1的上侧2来说的所希望的低表面粗糙度注模过程中使用的模具必须是高度抛光的。
最好在注塑过程之后采用例如离子化空气流的方法去除基片1上的静电。