多色发光装置 本发明是关于多色发光装置。更详细地说，是关于适合在民生用、工业用显示仪器、彩色显示器等中使用的多色发光装置。
电子显示器件，一般像叫做man-machine interface那样，通过视觉将来自各种装置(machine)的各种情报转递给人(man)的电子器件，担负联系人和装置的重要桥梁任务(interface)。
该电子器件有发光型和受光型，作为发光型，例如可举出CRT(阴极射线管)、PDP(等离子体显示器)、ELD(电致发光显示器)、VFD(荧光显示管)、LED(发光二极管)等。另一方面，作为受光型，例如可举出LCD(液晶显示器)、ECD(电化学显示器)、EPID(电泳显示器)、SPD(分散粒子取向型显示器)、TBD(着色粒子旋转型显示器)、PLZT(透明强介电性PLZT[(Pb，La)(Zr，Ti)O3]陶瓷显示器)等。
在此，作为电子显示器件的全色化的方法，可举出将多色(例如，红、蓝、绿三原色)的发光部分平面地分离配置，各自发光的方法，数个不同的颜色变换层(例如滤色片或者荧光体)接受单色光，进行分解或变换，发出不同的光的方法。
在此，因为ELD自己发光，所以目视性高，并且因为是完全固体的，因而具有耐冲击性优良地特征，目前正进行在发光层上使用无机和有机化合物的各式各样的ELD的开发。特别有机ELD(或者有机EL元件)是在两个电极间夹持有机化合物而构成的显示器，因为有机化合物的种类丰富，所以大多期待作为以高效率、高辉度发各种色光的显示器。
但是，目前将有机EL元件的发光部分平面地分离配置，为了使不同色的光发光并进行多色化，必须开发各自颜色的发光材料，而且因为材料本身是有机化合物，所以有对平面地分离配置的加工(例如光刻法)缺乏耐性的问题。因此，利用色变换层将有机EL元件的单色光分解或者变换的方法，作为发光层可以仅设置单色，在简便方面是良好的。
再者，在作为色变换层使用滤色片的场合，在其机能上是将光分解或者截止而取出，因此光的损失显著。例如，在将白色的发光分解成三原色(红、绿、蓝)时，白色的辉度大大地减少到三分之一。
另一方面，在色变换层是荧光体时，具有吸收光、变换成更长波长(能量小)的荧光的机能，但是例如荧光体的光吸收率作为80％，如果以80％的荧光吸收率发出荧光，应该能变换成64％的长波长的光。实际上存在像这样的荧光体。因此，作为色变换层，虽然包含荧光体层，但在很好利用光效率的意义上是理想的。
因此，例如作为以包含荧光体层的数个不同的色变换层使有机EL元件的单色光进行多色化的构成，在特开平3-152897和特开平5-258860中已有描述。尤其特开平5-258860，如图11所示，揭示有机EL元件的发光能受光地配置荧光媒体的多色发光装置。
但是，关于该多色发光装置，因为不设置遮光层，所以从有机EL元件各向同性地发出的光透过绝缘性平坦化层(透光性介质)，不仅入射到所希望的荧光媒体而且入射到邻接的荧光媒体中，产生套色不准(混色)。
另外，虽然是在荧光媒体上层叠有机EL元件的构成，但有机EL元件是以两个电极夹持薄膜的有机层的构成，因而包含基底的荧光媒体的表面的凹凸对有机EL元件的影响大。即，影响两个电极间的漏电和电极的断线，对多色发光装置的驱动带来恶劣影响，进而，关系到多色发光装置的制造合格率的降低。
因此，特开平5-258860在荧光媒体和有机EL元件之间配置绝缘性平坦化层，谋求荧光体的平坦化，但没有揭示使不同的荧光媒体的厚度趋于一致，而达到平坦化。另外，使荧光媒体的膜厚达到10μm以下，但10μm以下，不能充分发挥荧光体的荧光性。
本发明是鉴于上述的问题，目的在于提高防止发生套色不准(混色)、目视性优良、实用的、同时能高合格率地制造的多色发光装置。
为了达到上述的目的，按照本发明提供，在透光性基板上设置数个遮光层和包含一个以上的荧光体层的数个不同的色变换层交错地重复而平面地分离配置的色变换部件，以及在对应于色变换层的位置上设置平面地分离配置的数个发光部件、但色变换层接受各发光部件的光并进行不同的发光的多色发光装置中，以色变换部件的发光部件侧的表面凹凸平坦化至2.0μm以下为特征的多色发光装置。
另外，作为其最佳方式，提供在上述色变换部件和发光部件之间夹持透光性媒体而配置上述色变换部件和发光部件的多色发光装置。
另外，作为其最佳方式，提供上述发光部件是有机电致发光(EL)元件的多色发光装置。
此外，作为其最佳方式，提供上述色变换层的膜厚是10μm以上的多色发光装置。
此外，作为其最佳方式，提供上述色变换部件的发光部件侧的表面进行研磨而构成的多色发光装置。
另外，作为其最佳方式，提供上述色变换层中的至少一个埋入透光性基板中而构成的多色发光装置。
另外，作为其最佳方式，提供上述色变换层中的至少一个在透光性媒体上形成褶子而构成的多色发光装置。
此外，作为其最佳方式，提供上述色变换层中的至少一个是包含透光性媒体的多色发光装置。
进而，作为其最佳方式，提供上述色变换层中的至少一个是发红色光的荧光体层的多色发光装置。
以下，参照附图具体地说明本发明的多色发光装置的实施方式。
1.多色发光装置的构成
多色发光装置的一般构成，如图2所示，在透光性基板1上设置数个遮光层21和包含一个以上的荧光体层的数个不同的色变换层22交错地重复而平面地分离配置而构成的色变换部件2，以及在对应于色变换层22的位置上设置平面地分离配置的数个发光部件3、但色变换层接受各发光部件的光并进行不同的发光。
各发光部件3如果发光，其光以对应的色变换层22进行变换，成为与发光部件3的光不同颜色的发光，然后到达视觉。像这样，通过不同的色变换层22平面地分离配置，能够形成多色发光。
另一方面，在色变换层22是同一种时，成为单色发光。
再者，在此，使色变换层22的一部分形成透明的层(不含色素的层)，使有机EL元件的发光原样地透过，也可以进行多色发光。
另外，如图3所示，在色变换部件2和发光部件3之间也可以设置透光性媒体4。
在本发明中，提出如图1所示，使色变换部件2的发光部件3侧的表面凹凸平坦化至2.0μm以下而构成的多色发光装置。
在此，说明色变换部件的发光部件侧的表面凹凸未进行平坦化的情况。
图4(a)和(b)以遮光层21的厚度作为基准分别表示色变换层22更厚的情况和更薄的情况。
在图4(a)所示的情况，从某特定的发光部件3各向同性地发光，向色变换层(荧光体层)22进行入射光，但入射的光以色变换层22进行变换，再各向同性地发光(荧光)。因为色变换层22比遮光层21厚，所以从跑出来的色变换层22向邻接的色变换层的光泄漏变大，成为套色不准(混色)的原因。
另一方面，图4(b)所示的情况，因为色变换层22比遮光层21薄，所以妨碍光从色变换层22向邻接的色变换层的入射，而相反，跑出来的遮光层21或吸收来自发光部件3的光，或进行散射，因此色变换层22不能充分地接受来自该发光部件3的光(吸收率降低)，从而变换后的辉度降低，成为目视性降低的原因。再者，在遮光层的厚度存在偏差时，就有图4(a)(b)的任一问题。因此，使遮光层21和色变换层22的厚度趋于一致，即，使色变换部件2的发光部件3侧的表面凹凸平坦化，能够防止多色发光装置的套色不准(混色)，在提高辉度等的目视性的意义上是有利的。这与图3所示的在色变换部件2和发光部件3之间夹持透光性媒体的情况也是相同的。
进而，图5表示在色变换部件2的各色变换层22上粘合各发光部件(例如有机EL元件31)、使发光部件追随色变换部件2的表面凹凸的情况。并且，有机EL元件31是在2个电极32和33上夹持有机物层34(主发光层)的构成，2个电极32和33各自是条纹状的，它们形成交叉的形状。
图5(a)表示色变换部件2的表面凹凸大的情况，此时，对薄膜的有机EL元件31给予变形。其结果，引起有机EL元件31的2个电极32和33间的漏电或者尤其引起电极32的断线，从而降低多色发光装置的制造合格率。
图5(b)表示色变换部件2的表面凹凸小的情况，此时，对薄膜的有机EL元件31不给予变形。其结果，提高多色发光装置的制造合格率。
再者，如图6所示，在图5(a)的色变换部件2上层叠透明的平坦化层5，即，透光性媒体，能使色变换部件2的表面凹凸缓和，但是，若平坦化层5的膜厚过大，则来自发光部件(未图示)的光泄漏，从而发生套色不准(混色)，而且缩小视野角。平坦化层5的膜厚依赖于色变换部件2和发光部件的精细度，如果小，就没有小程度的上述问题。但是，色变换部件2的表面凹凸越小，既越容易平坦化，又能够使平坦化层5的膜厚薄。
从在表面凹凸不同的基板上制作有机EL元件时的结果(表1)，可以推断色变换部件2的表面凹凸的大小与制作将作为发光部件的有机EL元件层叠的多色发光装置时的合格率的关系。即，已清楚，如果表面凹凸是2.0μm以下，由有机EL元件的断线或者短路而引起的辉度降低和相互干扰(在所希望的地点以外的位置发光)就小，因而要考虑色变换部件的表面凹凸对多色发光装置的制造合格率的影响。
表1基板的表面凹凸(μm)辉度降低1) 相互干扰1) 0.2 0.5 1.0 2.0 3.0 4.0 5.0 无 无 无 小 有 有 有 无 无 小 小 有 有 有
1)以在平滑的透光性基板(表面凹凸是0.1μm以下)上制作有机EL元件的场合作为基准。
如图7所示，作为表面凹凸小的色变换部件2，可举出研磨其发光部件(未图示)侧的全体表面的色变换部件。
在形成遮光层21和色变换层22后，即在制作色变换部件2后进行研磨，例如使用市售的砂纸和由氧化铝、碳化硅构成的研磨膜等研磨色变换部件2的表面，或者使用旋转研磨机、以氧化铝等陶瓷微粒作为磨料一边水洗一边抛光，使研磨面镜面化的手段。
另外，如图8(a)所示，可举出通过在透光性基板1中埋入色变换层22中的膜厚厚的层22a，来调整膜厚。
另外，如图8(b)所示，可举出通过在透光性媒体4中埋入色变换层22中的膜厚厚的层22a，来调整膜厚。
又如图9所示，可举出使色变换层22中的膜厚薄的层22b在透光性媒体4上形成褶子，来调整膜厚。
进而，如图10所示，可举出通过使色变换层22中的膜厚薄的层22b包含透光性媒体，来调整膜厚。
另外，也可以是将上述的构成进行组合的构成。
2.关于各构成要素
(1)透光性基板
在本发明中使用的透光性基板是支持多色发光装置的基板，以400nm～700nm的可见区光的透过率是50％以上、平滑的基板为佳。具体地可举出玻璃板、聚合物板。作为玻璃板，尤其可举出钠钙玻璃、含有钡·锶的玻璃、铅玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸钡玻璃、石英等。作为聚合物板，可举出聚碳酸酯、丙烯酸酯、聚对苯二甲酸酯乙二醇、聚硫醚、聚砜等。在此，在透光性基板中埋入色变换层时，预先或者在遮光层形成后，利用光刻法或印刷法等，以保护膜形成所期望的图案，然后利用喷砂等物理方法或由氢氟酸等而产生的化学蚀刻，可以制作在透光性基板中使色变换层埋入预定的适当深度的沟。
(2)色变换层
在本发明中使用的色变换层是包含一个以上的荧光体层，但也可以包含将发光部件的光分解或者截止，进行色调整意义的滤色片。
作为荧光体层，例如由荧光色素和树脂、或者仅由荧光色素组成的荧光体层，由荧光色素和树脂组成的荧光体层可举出在颜料树脂和/或粘结剂树脂中溶解或分散荧光色素的固体状态的荧光体层。
下面说明具体的荧光色素。首先，作为从近紫外光将来自紫色的有机EL元件的发光变换成蓝色发光的荧光色素，可举出1，4-双(2-甲基苯乙烯基)苯(以下称为Bis-MSB)、反式-4，4’-二苯基(以下称为DPS)等芪系色素，7-羟基-4-甲基香豆素(以下称为香豆素)等的香豆素系色素。
下面，关于从蓝色、深绿色或白色发光部件的发光变换成绿色发光的荧光色素，例如可举出2，3，5，6-1H，4H-四氢-8-三氟甲基喹啉并(9，9a，1-gh)香豆素(以下称为香豆素153)、3-(2’-苯并噻唑基)-7-二乙氨基香豆素(以下称为香豆素6)、3-(2’-苯并咪唑基)-7-N，N-二乙氨基香豆素(以下称为香豆素7)等的香豆素色素、是其他的香豆素色素染料的碱性黄51、还有溶剂黄11、溶剂黄116等的萘二甲酰亚胺色素。
另外，关于从蓝色至绿色的、或者从白色的发光部件的发光变换成从橙色至红色的发光的荧光色素，例如可举出4-二氰亚甲基-2-甲基-6-(对二甲氨基苯乙烯基)-4H-吡喃(以下称为DCM)等花青系色素、1-乙基-2-(4-(对二甲氨基苯基)-1，3-丁间二烯基-高氯酸吡啶鎓(以下称为吡啶1)等吡啶系色素、若丹明B、若丹明6G等若丹明系色素、其他的噁嗪系。
进而，各种染料(直接染料、酸性染料、碱性染料、分散染料等)如果也有荧光性，是能够选择的。
另外，也可以将上述荧光色素预先在聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯共聚物、醇酸树脂、芳族氨磺酰树脂、脲醛树脂、蜜胺树脂、苯并胍胺树脂等颜料树脂中进行混炼而实现颜料化。
这些荧光色素或颜料，根据需要可以单独或者混合使用。
另一方面，粘结剂树脂以透明的(可见光50％以上)材料为佳。例如可举出聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、羟乙基纤维素、羧甲基纤维素等透明树脂(高分子)。
再者，为了平面地分离配置荧光体层，也选择能适用光刻法的感光性树脂。例如可举出具有丙烯酸系、甲基丙烯酸系、聚肉桂酸乙烯系、环橡胶系等的反应性乙烯基的光固化型保护层材料。另外，在使用印刷法的场合，选择使用透明树脂的印刷油墨(介质)。例如可以使用聚氯乙烯树脂、蜜胺树脂、酚醛树脂、醇酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、聚酯树脂、马来酸树脂、聚酰胺树脂的单体、低聚物、聚合物，还可以使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、羟乙基纤维素、羧甲基纤维素等透明树脂。
在荧光体层主要由荧光色素组成时，通过掩蔽所期望的荧光层图案、以真空蒸镀或者溅射法进行成膜。另一方面，在由荧光色素和树脂组成时，一般是将荧光色素和树脂与适当的溶剂进行混合、分散或可溶化，形成液状，利用旋转涂布法、辊涂法、流延涂布法等方法进行成膜，或者以光刻法按照所期望的荧光体层图案制作图案，或者以丝网印刷等方法按照所期望的荧光体层图案制作图案。
荧光体层的膜厚要充分接受(吸收)有机EL元件的发光，如果不妨碍发生荧光的机能，就不加限制，但较好是10nm～1mm，更好是1μm～1mm，最好是10μm～100μm，与滤色片相比，一般厚膜成为必要。荧光色素与滤色片相比，在浓度上是敏感的，比在颜料树脂或者粘结剂树脂中以更低浓度分散或可溶化的荧光性高，另一方面，必须充分吸收有机EL元件的发光，因此滤色片的吸光度是必要的。因而，按照Lambert-Beer法则的下述(式1)，如果使色素的吸光系数一定，结果荧光体层成为厚膜，这是令人满意的。包含荧光色素的颜料树脂和/或粘结剂树脂的荧光体层中的浓度，因荧光色素而异，可以是1～10-4mol/kg，更好是0.1～10-3mol/kg，最好是0.05～10-2mol/kg。
Lambert-Beer的法则
A＝εcl (式1)
A：吸光度
ε：吸光系数(色素中固有)
c：色素浓度
l：膜厚
因此，为了使色变换部件的发光部件侧的表面凹凸平坦化，使各色变换层(荧光体层或滤色片层)的膜厚趋于一致是有利的，考虑到荧光性，各色变换层的膜厚最好达到10μm以上。
再者，在红色发光的荧光体层，因为是从发光部件的波长发出向更大的长波长侧移动的荧光(斯托克斯频移大)的层，所以一般包括将数种荧光色素混合。因而，荧光色素的浓度变大，所以如以上记载的那样，充分吸收发光部件的发光，而且为了提高荧光性，红色荧光体层的膜厚变大。因此，尤其像图8(a)和(b)所示的情况那样，作为在透光性基板1中或透光性媒体4中埋入的色变换层22，可举出红色荧光体层。
另一方面，作为滤色片层，例如可举出不仅下述的色素，而且可举出将色素溶解或分散在粘结剂树脂中的固体状态。
红色(R)色素
苝系颜料、沉淀颜料、偶氮系颜料、喹吖酮系颜料、蒽醌系颜料、蒽系颜料、异二氢吲哚系颜料、异二氢吲哚酮系颜料等的单品和至少二种以上的混合物。
绿色(G)色素
卤素多取代酞菁系颜料、卤素多取代铜酞菁系颜料、三苯甲烷系碱性颜料、异二氢吲哚系颜料、异二氢吲哚酮系颜料等的单品和至少二种以上的混合物。
蓝色(B)色素
铜酞菁系颜料、阴丹酮系颜料、靛酚系颜料、花青系颜料、二噁嗪系颜料等的单品和至少二种以上的混合物。
作为上述的粘结剂树脂，可以选择和荧光体层相同的材料。
另外，用于平面地分离配置滤色片所必要的粘结剂树脂也可以选择和荧光体层相同的材料。
另外，尤其滤色片主要由色素组成时，由色素和粘结剂树脂组成时都可以与荧光体层相同地制作图案。
滤色片由色素和粘结剂树脂组成者，色素的浓度可以是滤色片能没问题地制作图案，而且是使有机EL元件的发光充分能透过的范围。一般说来，也取决于色素的种类，但在包含所使用的粘结剂树脂的滤色片膜中含5～50％(重量)的色素。
(3)遮光层
在本发明中，遮光层是为了遮住发光部件的光、防止多色发光装置混色、提高视野角特性而使用。
遮光层的膜厚是10nm～1mm，更好是1μm～1mm，最好是10μm～100μm，但如上所述，在色变换层是荧光体的场合，与滤色片的场合相比，厚膜是必要的，为了使该色变换层和遮光层的厚度趋于一致而平坦化，遮光层的膜厚最好也是10μm以上。
另外，遮光层的表面形状既可以是格子状也可以是条纹状，但是在色变换层是荧光体层时，从荧光体层侧面的漏光显著，因此格子状更好。另外，遮光层的端面形状通常是矩形，但也可以是反梯形或者T字状。
遮光层的透过率，发出来自发光部件的光或者色变换层(尤其荧光体层)的光的区域，即在波长400nm～700nm的可见区域的光中是10％以下，最好是1％以下。若超过10％，则来自发光部件的光或者色变换层的光漏光，而发生多色发光装置的套色不准(混色)，视野角特性也恶化。另外，根据需要，至少也可以将遮光层的侧面制成反射性的。
作为遮光层的材料，例如可举出以下的金属及黑色色素。
作为金属的种类，可举出Ag、Al、Au、Cu、Fe、Ge、In、K、Mg、Ba、Na、Ni、Pb、Pt、Si、Sn、W、Zn、Cr、Ti、Mo、Ta、不锈钢等的一种以上的金属或者合金。另外，也可以使用上述金属的氧化物、氮化物、硫化物、硝酸盐、硫酸盐等，根据需要，也可以含有碳。
上述材料可以利用溅射法、蒸镀法、CVD法、离子镀敷法、电析法、电镀法、化学镀法等方法在透光性基板上成膜，再利用光刻法等进行图案制作，可以形成遮光层的图案(平面地分离配置)。
作为黑色色素，可以举出将碳黑、钛黑、苯胺黑、上述的滤色片色素混合而黑色化的黑色色素。
将这些黑色色素或者上述金属材料在色变换层中使用的粘结剂树脂中溶解或分散而制成固体状态，利用和色变换层相同的方法进行图案制作，形成遮光层的图案。
(4)透光性媒体
在本发明中，透光性媒体，根据需要，设置在色变换部件和发光部件之间，并且，也在色变换层和遮光层的褶子以及色变换层的埋入中使用。另外，也包含在色变换层中使用。400nm～700nm的光的透过率最好是50％以上，如果是电绝缘性的，则更好。
尤其，设置在色变换部件和发光部件之间时，透光性媒体可以是单层的，也可以形成多层的构成。另外，固相、液相、气相状态的任一种都可以。
在以聚合物层作为透光性媒体时，作为该聚合物，具体地说，像光固化型树脂和/或热固化型树脂那样，可举出具有丙烯酸酯系、甲基丙烯酸酯系的反应性乙烯基的树脂。
可举出蜜胺树脂、酚醛树脂、醇酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、聚酯树脂、马来酸树脂、聚酰胺树脂的单体、低聚物、聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、羟乙基纤维素、羧甲基纤维素等的透明树脂以及各种氟聚合物。
另外，为了提高荧光体层的耐光性，可以添加紫外线吸收材料。
另外，作为无机氧化物层，具体地可举出氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钇(Y2O3)、氧化锗(GeO2)、氧化锌(ZnO)、氧化镁(MgO)、氧化钙(GaO)、氧化硼(B2O3)、氧化锶(SrO)、氧化钡(BaO)、氧化铅(PbO)、二氧化锆(ZrO2)、氧化钠(Na2O)、氧化锂(Li2O)、氧化钾(K2O)等。
另外，作为无机氧化物层，可举出玻璃。
特别是，可举出钠钙玻璃、含钡·锶玻璃、铅玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、硼硅酸钡玻璃等。在此，无机氧化物层，作为其组成，可以是主要含有无机氧化物的，也可以含有氮化物(例如Si3N4)。
为了将发光部件和色变换部件粘结，可以使用像以下的粘结剂。
具体地可举出具有丙烯酸系低聚物、甲基丙烯酸系低聚物的反应性乙烯基的光固化和热固化型粘结剂、2-氰基丙烯酸酯等的湿气固化型等粘结剂。另外，可举出环氧系等热和化学固化型(二液混合)。
另外，关于气相和液相，可举出氮气、氩气等惰性气体，以及像氟化烃、硅油那样的惰性液体。另外，也可以形成真空。
这些透光性媒体，以适当的溶剂将固体状的材料制成液体状，然后利用旋转涂布法、辊涂布法、流延涂布法等方法进行成膜，在原样地使用固体状的材料时，利用溅射、蒸镀、CVD、离子镀敷等方法进行成膜。在玻璃板的情况下，使用先前的粘结剂进行贴合。
密封多色发光装置的发光区域以外的区域，封入惰性液体和惰性气体。
作为这些透光性媒体，例如与有机EL元件接触的界面，上述无机氧化物层或者作为惰性液体或惰性气体能阻断促进有机EL元件劣化的水和氧，因此是令人满意的。
在此，以透光性媒体形成色变换层的褶子，或者为了在透光性媒体中埋入色变换层，例如，预先或者在遮光层形成后，使用上述透光性媒体中的光固化型树脂和/或热固化型树脂，利用光刻法或者印刷法、按照所期望的适当膜厚的图案形成褶子，或者可以形成用于埋入色变换层的适当深度的沟。
另外，为了在色变换层中包含透光性媒体，分别追加色变换层的粘结剂树脂或者颜料树脂，并进行溶解或分散，可以包含上述透光性媒体的固体状材料。
(5)发光部件
作为在本发明中使用的发光部件，有机EL元件是薄型、面发光，而且因为有机化合物的种类丰富，可以以高效率、高辉度发出各种颜色的光，因而是令人满意的，但因无机EL、LED、VFD、PDP的情况不同，可以利用LCD的光源。
作为有机EL元件的有机物层，使用至少具有再结合区域和发光区域的有机物层。该再结合区域和发光区域，因为通常存在于发光层中，所以在本发明中，作为有机物层，可以仅使用发光层，但根据需要，在发光层以外，例如也可以使用空穴注入层、电子注入层、有机半导体层、电子阻挡层、附着改善层等。
下面，示出在本发明中使用的有机EL元件的代表的构成例。当然并不限于这些例子。
可以举出
①阳极/发光层/阴极
②阳极/空穴注入层/发光层/阴极
③阳极/发光层/电子注入层/阴极
④阳极/空穴注入层/发光层/电子注入层/阴极
⑤阳极/有机半导体层/发光层/阴极
⑥阳极/有机半导体层/电子阻挡层/发光层/阴极
⑦阳极/空穴注入层/发光层/附着改善层/阴极等结构。
在它们之中，通常最好使用④的结构。
(5)-1.阳极
作为阳极，最好使用以工函数大的(4eV以上)金属、合金、导电性化合物或者它们的混合物作为电极物质的阳极。作为这样的电极物质的具体例子，可举出Au等的金属、Cul、ITO、SnO2、ZnO等的导电性透明材料。
可以利用蒸镀法和溅射法等方法将这些电极物质形成薄膜来制作阳极。
像这样，在从阳极取出来自发光层的发光时，相对于阳极的发光的透过率最好达到大于10％。另外，阳极的薄膜电阻最好是数百Ω/□以下。阳极的膜厚也取决于材料，但通常在10nm～1μm、最好在10～200nm的范围选择。
(5)-2.发光层
有机EL元件的发光材料主要是有机化合物，具体地说，根据所期望的色调，可举出像以下的化合物。
首先，在从紫外线区得到紫色的发光时，可举出以下述的通式表示的化合物。
化学式1在该通式中，X表示下述的化合物。化学式2在此，n是2、3、4或5。并且，Y表示下述化合物。化学式3或者
上述化合物的苯基、亚苯基、萘基可以是1～4个碳原子的烷基、烷氧基、羟基、磺酰基、羰基、氨基、二甲氨基或者二苯胺基等可以是单独或数个取代的。并且，它们互相结合，可以形成饱和5节环、6节环。另外，虽然在苯基、亚苯基、萘基上在对位结合，但结合性好，因为形成平滑的蒸蒸镀，所以是理想的。具体地说是以下的化合物。尤其，最好是对联四苯、对联五苯衍生物。(1) 对联四苯 (PQP)(2)(3)(4)3，5，3””’，5””’-四叔丁基-联六苯 (TBS)(5)[化5]
(6)
(7)
(8)
(9)
(10)[化6]
(11)
(12)
(13)
(14)
[化7](15)(16)(17)
3，5，3””，5””-四叔丁基-对联五苯
(TBQ)
接着，为了从蓝色得到绿色的发光，例如可举出苯并噻唑系、苯并咪唑系、苯并噁唑系等荧光增白剂、金属螯合化オキシノイド化合物、苯乙烯基苯系化合物。
具体地说，如果示出化合物的名称，例如可举出特开昭59-194393所公布的化合物。作为其代表例，可举出苯并噁唑系、苯并噻唑系、苯并咪唑系等荧光增白剂。
进而，其他有用的化合物，在Chemistry of synthetic dyes1971，628-637页和640页中已列举。
作为上述螯合化オキシノイド化合物，例如可以使用在特开昭63-295695中公布的这种化合物。作为其代表例，可举出三(8-喹啉酚)铝(以下简略记为Alq)等的8-羟基喹啉系金属配位化合物和二锂エピントリ二酮(ジリチウムエピントリジオン)等。
另外，作为上述的苯乙烯基苯系化合物，例如可以使用欧洲专利第0319881号说明书和欧洲专利第0373582号说明书中公布的这种化合物。
另外，在特开平2-252793中公布的二苯乙烯基吡嗪衍生物也可以作为发光层的材料使用。
作为其他的化合物，例如在欧洲专利第0387715号说明书中公布的聚苯系化合物也可以作为发光层的材料使用。
进而，除上述的荧光增白剂、金属螯合化オキシノイド化合物和苯乙烯基苯系化合物以外，例如
12-酞并周因酮(j.Appl.Phys.，第27卷，L713(1988年))、1，4-二苯基-1，3-丁二烯，
1，1，4，4-四苯基-1，3-丁二烯(以上Appl.Phys.Lett.，第56卷，L799(1990)年)，
萘二甲酰亚胺衍生物(特开平2-305886)，
苝衍生物(特开平2-189890)，
噁二唑衍生物(特开平2-216791、或者在第38次应用物理学关系连合演讲会上由浜田等公布的噁二唑衍生物)，
醛连氮衍生物(特开平2-220393)，
吡嗪(ピラジリン)衍生物(特开平2-220394)，
环戊二烯衍生物(特开平2-289675)，
吡咯并基吡咯衍生物(特开平2-296891)，
苯乙烯基胺衍生物(Appl.Phys.Lett.，第56卷，L799 (1990年))，
香豆素系化合物(特开平2-191694)，
像国际公开公报WO90/13148和Appl.Phys.Lett.，vol 58，18，p1982(1991)中记载的高分子化合物等都可以作为发光层的材料使用。
在本发明中，尤其作为发光层的材料，最好使用芳香族二次甲基系化合物(欧洲专利第0388768号说明书和特开平3-231970所公布的这种化合物)。作为具体例子，可举出4，4’-双(2，2-二叔丁基苯乙烯基)联苯(以下简略记为DTBPBBi)、4，4’-双(2，2-二苯乙烯基)联苯(以下简略记为DPVBi)等、以及它们的衍生物。
进而，可举出以在特开平5-258862等中记载的通式(Rs-Q)2-AL-O-L表示的化合物。
(在上述式中，L是含有苯基部分的6～24个碳原子的烃，O-L是酚盐配位基，Q表示取代8-喹啉并盐配位基，Rs表示将在铝原子上取代8-喹啉并盐配位基超过2个结合进行立体妨碍地选择的8-喹啉并盐环取代基)，具体地可举出双(2-甲基-8-喹啉并盐)(对苯基酚盐)铝(III)(以下称为PC-7)、双(2-甲基-8-喹啉并盐)(1-萘酚盐)铝(III)(以下称为PC-17)等。
其他，可举出得到使用按照特开平6-9953等中的掺杂的高效率的蓝色和绿色的混合发光的方法。此时，作为基质，可举出在上述中记载的发光材料，作为掺杂剂，可举出从蓝色至绿色的强荧光色素，例如与作为香豆素系或上述记载的基质使用的相同的荧光色素。具体地说，作为基质，可举出二苯乙烯基亚芳基骨架的发光材料，尤其最好是例如DPVBi，作为掺杂剂，可举出二苯氨基亚芳基，尤其最好是例如N，N-二苯氨基乙烯基苯(DPAVB)。
作为得到白色发光的发光层，不作特别限制，但可举出下述的发光层。
①规定有机EL层叠结构体的各层的能级，利用隧道注入而进行发光的发光层(欧洲专利申请公开说明书第0390551号公报)，
②是和①相同，以利用隧道注入的元件，作为实施例记载的白色发光元件(特开平3-230584)，
③所记载的二层结构的发光层(特开平2-220390和特开平2-216790)，
④将发光层分割成数层，各自以发光波长不同的材料构成的发光层(特开平4-51491)，
⑤将蓝色发光体(荧光峰380nm～480nm)和蓝色发光体(480nm～580nm)层叠，进而含有红色荧光体的结构的发光层(特开平6-207170)，
⑥具有有蓝色发光层含蓝色荧光色素、绿色荧光层含红色荧光色素的区域，进而含有绿色荧光体的结构的发光层(特开平7-142169)。
特别，最好使用⑤的结构的发光层。
另外，在化学式8中示出红色荧光体的例子。
化学式8
(Lumogen(ルモゲン)F红)
(二氰基亚甲基吡喃)
(吩噁嗪酮)
(红荧烯)
使用上述材料，作为形成发光层的方法，例如可以使用蒸镀法、旋转涂布法、LB法等公知的方法。发光层尤其最好是分子堆积膜。在此所谓分子堆积膜，是从气相状态的材料化合物沉积形成的薄膜和从溶液状态或液相状态的材料化合物进行固体化而形成的膜，通常该分子堆积膜是利用LB法形成的薄膜(分子累积膜)，所谓分子累积膜可根据凝集结构、高级结构的差异及由其引起的不同机能来区分。
另外，如在特开昭57-51781中所揭示，将树脂等的粘结剂和材料化合物溶解在溶剂中制成溶液后，利用旋转涂布法等将该溶液进行薄膜化，也可以形成发光层。
关于这样形成的发光层膜厚，不作特别限制，根据情况，可以适当选择，通常最好是5nm～5μm。
有机EL元件的发光层是同时保持以下的机能。即，①注入机能：在外加电场时，从阳极或空穴注入层能够注入空穴、从阴极或电子注入层能够注入电子的机能，②输送机能：以电场力使注入的电荷(电子和空穴)移动的机能，③发光机能：提供电子和空穴再结合的场合，具有将它与发光相联系的机能。但是，在容易进行空穴注入和容易进行电子注入上可以有差异，并且在以空穴和电子的移动度表示的输送能上可以期待大小，但最好使任何一方的电荷移动。
(5)-3.空穴注入层
接着，空穴注入层在本发明使用的元件中不一定是必要的，但是为了提高发光性能而使用是理想的。该空穴注入层是有助于向发光层注入空穴的层，空穴移动度大，离子化能通常小到5.5eV以下。作为这样的空穴注入层，最好是以更低的电场将空穴输送到发光层的材料，进而，空穴移动度，例如在外加104～105V/cm的电场时，如果是至少10-6cm2/V·秒更好。
关于这样的空穴注入材料，如果是具有上述的合适性质的材料，就不加特别限制，可以从在以往的光传导材料中作为空穴的电荷输送材料惯用的材料和在EL元件的空穴注入层中使用的公知材料中任意选择而使用。
作为具体例子，例如可举出
三唑衍生物(参照美国专利3,112,197说明书等)，
噁二唑衍生物(参照美国专利3,189,447说明书等)，
咪唑衍生物(参照特公昭37-16096等)，
聚芳基链烷烃衍生物(参照美国专利3,615,402说明书、美国专利3,820,989说明书、美国专利3,542,544说明书、特公昭45-555、特公昭51-10983、特开昭51-93224、特开昭55-17105、特开昭56-4148、特开昭55-108667、特开昭55-156953、特开昭56-36656等)，
吡唑啉衍生物和吡唑啉酮衍生物(参照美国专利3,180,729说明书、美国专利4,278,746说明书、特开昭55-88064、特开昭55-88065、特开昭49-105537、特开昭55-51086、特开昭56-80051、特开昭56-88141、特开昭57-45545、特开昭54-112637、特开昭55-74546等)，
亚苯基二胺衍生物(参照美国专利3,615,404说明书、特公昭51-10105、特公昭46-3712、特公昭47-25336、特开昭54-53435、特开昭54-110536、特开昭54-119925等)，
芳基胺衍生物(参照美国专利3,567,450说明书、美国专利3,180,703说明书、美国专利3,240,597说明书、美国专利3,658,520说明书、美国专利4,232,103说明书、美国专利4,175,961说明书、美国专利4,012,376说明书、特公昭49-35702、特公昭39-27577、特开昭55-144250、特开昭56-119132、特开昭56-22437、西德专利1,110,518说明书等)，
氨基取代芳基烯丙酰芳烃衍生物(参照美国专利3,526,501说明书等)，
噁唑衍生物(在美国专利3,257,203说明书等中公布的噁唑衍生物)，
苯乙烯基蒽衍生物(参照特开昭56-46234等)，
芴酮衍生物(参照特开昭54-110837等)，
腙衍生物(参照美国专利3,717,462说明书、特开昭54-59143、特开昭55-52063、特开昭55-52064、特开昭55-46760、特开昭55-85493、特开昭57-11350、特开昭57-148749、特开平2-311591等)，
芪衍生物(参照特开昭61-210363、特开昭61-228451、特开昭61-14642、特开昭61-72255、特开昭62-47646、特开昭62-36674、特开昭62-10652、特开昭62-30255、特开昭60-93445、特开昭60-94462、特开昭60-174749、特开昭60-175052等)，
硅氨烷衍生物(美国专利4,950,950说明书)，
聚硅烷系(特开平2-204996)，
苯胺系共聚物(特开平2-282263)，
特开平1-211399中公布的导电性高分子低聚物(特别是噻吩低聚物)等。
作为空穴注入层的材料，可以使用上述的材料，但最好使用卟啉化合物(在特开昭63-2956965等中公布的卟啉化合物)、芳香族叔胺化合物和苯乙烯胺化合物(参照美国专利4,127,412说明书、特开昭53-27033、特开昭54-58445、特开昭54-149634、特开昭54-64299、特开昭55-79450、特开昭55-144250、特开昭56-119132、特开昭61-295558、特开昭61-98353、特开昭63-295695等)，特别是芳香族胺化合物。
另外，可举出在分子内具有美国专利5,061,569中记载的2个缩合芳香族环，例如4，4’-双〔N-(萘基)-N-苯氨基〕联苯(以下简略记为NPD)，还有在特开平4-308688中记载的三苯胺单元连接成3个繁星式的4，4’，4”-三〔N-(3-甲苯基)-N-苯氨基〕三苯胺(以下简略记为MTDATA)等。
另外，作为发光层的材料，除了上述的芳香族二次甲基系化合物以外，p型-Si、p型SiC等无机化合物也可以作为空穴注入层的材料使用。
例如利用真空蒸镀法、旋转涂布法、流延涂布法、LB法等公知的方法使上述化合物薄膜化，可以形成空穴注入层。作为空穴注入层的膜厚，不作特别限制，通常是5nm～5μm。该空穴注入层可以由上述的材料的一种或二种以上组成的一层构成，或者，上述空穴注入层也可以是将其他种类的化合物构成的空穴注入层层叠。
另外，有机半导体层是有助于向发光层的空穴注入或电子注入的层，具有10-10S/cm以上的导电率是合适的。作为这样的有机半导体层的材料可以使用含噻吩低聚物和含芳胺低聚物等导电性低聚物，含芳胺デンドリマ-等的导电性デンドリマ-等。
(5)-4.电子注入层
一方面，电子注入层是有助于向发光层注入电子的层，电子移动度大，并且附着改善层在该电子注入层中，特别是由和阴极的附着良好的材料构成的层。作为在电子注入层中使用的材料，例如可举出8-羟基喹啉或其衍生物的金属配位化合物、或者噁二唑衍生物。另外，作为在附着改善层中使用的材料，尤其8-羟基喹啉或其衍生物的金属配位化合物是合适的。
作为8-羟基喹啉或其衍生物的金属配位化合物的具体例子，可举出包含喔星(一般是8-喹啉酚或8-羟基喹啉)的螯合物的金属螯合形オキシノイド化合物。
例如可以以先前记载的Alq作为电子注入层而使用。
另一方面，作为噁二唑衍生物，可以举出以通式(II)、(III)、(IV)
化学式9(式中，Ar10～Ar13分别表示取代的或非取代的芳基，Ar10、Ar11、Ar12、Ar13在各个中相互相同，也可以相互不同，Ar14表示取代的或非取代的芳基。)表示的电子传递化合物。在此，作为芳基，可举出苯基、亚联苯基、蒽基、苝基、芘基等，作为亚芳基，可举出亚苯基、亚萘基、亚联苯基、亚蒽基、ペニレニレン基、亚芘基等。另外，作为取代基，可举出1～10个碳原子的烷基、1～10个碳原子的烷氧基或者氰基等。这些电子传递化合物最好是薄膜形成性的电子传递化合物。
作为上述电子传递化合物的具体例子，可举出下述的电子传递化合物。
化学式10
(5)-5.阴极
作为阴极，可以使用以工函数小的(4eV以下)金属、合金、导电性化合物和它们的混合物作为电极物质。作为这样的电极物质的具体例子，可举出钠、钠·钾合金、镁、锂、镁·银合金、铝/氧化铝(Al2O3)、铝·锂合金、铟、稀土金属等。
该阴极可以利用蒸镀和溅射等方法，使这些电极物质形成薄膜进行制造。
另外，作为电极的薄膜电阻以数百Ω/□以下为佳，膜厚通常是10nm～1μm，最好是50～200nm的范围。在本发明中使用的EL元件中，该阳极或阴极中的任一个是透明或半透明的，但为了透过发光，最好是发光的取出效率好的。
(5)-6.有机EL元件的制作(例子)
利用以上例示的材料和方法，形成阳极、发光层，根据需要形成空穴注入层，并根据需要形成电子注入层，再形成阴极，由此可以制作有机EL元件。另外，也可以从阴极至阳极，以与上述相反的顺序制作有机EL元件。
以下，记载在支持基板上依次设置阳极/空穴注入层/发光层/电子注入层/阴极构成的有机EL元件的制作例。
首先，利用蒸镀和溅射等方法，在适当的基板上使由阳极材料构成的薄膜形成1μm以下、最好10～200nm范围的膜厚，进行制作阳极。接着，在该阳极上设置空穴注入层。空穴注入材料的形成，可以利用如上所述的真空蒸镀法、旋转涂布法、流延涂布法、LB法等方法进行，但从容易得到均质的膜、而且不容易发生气孔等看，最好是利用真空蒸镀法进行形成。在利用真空蒸镀法形成空穴注入层时，其蒸镀条件，因所使用的化合物(空穴注入层的材料)、作为目的的空穴注入层的结晶构造和再结晶构造等不同而异，但一般最好在蒸镀源温度50～450℃、真空度10-7～103托、蒸镀速度0.01～50nm/s、基板温度-50～300℃、膜厚5nm～5μm的范围进行适当选择。
接着，在空穴注入层上设置发光层的发光层的形成，也可以利用真空蒸镀法、旋转涂布法、流延涂布法等，通过使有机发光材料薄膜化来形成，但从容易得到均质的膜、而且不容易发生气孔等看，最好是利用真空蒸镀法进行形成。在利用真空蒸镀法形成发光层时，其蒸镀条件，因所使用的化合物不同而异，但一般可以从和空穴注入层相同的条件范围中进行选择。
随后，在该发光层上设置电子注入层。和空穴注入层、发光层相同，从为了得到均质的膜看，最好利用真空蒸镀法进行形成。蒸镀条件，可以从和空穴注入层、发光层相同的条件范围中进行选择。
最后，将阴极层叠，可以得到有机EI元件。
阴极是由金属构成的，所以可以使用蒸镀法、溅射法。但是，为了保护基底的有机物层不受成膜时的损伤，以真空蒸镀法为好。
至此，所记载的有机EI元件的制作，最好一次抽真空连续地从阳极至阴极进行制作。
再者，在对有机EI元件上外加直流电压的场合，使阳极为+，阴极为-的极性，外加5～40V的电压，就能观测发光。另外，即使以相反的极性外加电压，也不流过电流，完全不产生发光。进而，在外加交流电压的场合，仅使阳极为+，阴极为-的极性时，观测到均匀的发光。外加的交流的波形可以是任意的。
在此，为了制作平面地分离配置、进行发光的有机EL元件，可举出使条纹状的阳极和阴极交叉、在各个电极上外加直流电压、使交叉部分发光的X-Y点矩阵方式和使阳极或阴极的任一个形成点状、对像TFT(Thin filmTransister)那样的开关元件仅在特定的点部分外加直流电流而进行发光的有源矩阵方式。条纹状或点状的阳极和阴极以光刻法或进行蚀刻或剥下，或者可以利用掩蔽蒸镀等的方法形成。
以下，按照实施例具体地说明本发明。
实施例1(利用研磨的平坦化)
作为透光性基板，在100mm×100mm×1.1mm厚的玻璃基板(透紫外线的麻粒玻璃7059)上，旋转涂布分散3重量％(对固形部分)的碳黑的丙烯酸酯系光固化型保护层(粘度250cps)，在80℃烘烤后，固定在以高压水银灯作为光源的曝光机上。接着，通过得到50μm线条、250μm间隔的条纹状图案的掩蔽物，以900mJ/cm2(365nm)进行曝光。在1重量％碳酸钠水溶液中进行2分钟室温显像后，以3000mJ/cm2从基板的玻璃面进行全面后曝光后，在200℃烘烤，形成遮光层的图案。遮光层的膜厚是20μm。
接着，将基板固定在丝网印刷机上，使用得到250μm×650μm间隔的条纹状图案的版，将在作为溶剂的环己酮中混合分散铜钛氰系颜料(C.I.颜料蓝15∶6)2.8重量％(对固形部分)、二噁嗪系颜料(C.I.颜料紫23)0.2重量％(对固形部分)和作为粘结剂的聚氯乙烯树脂(重均分子量2万)97重量％的油墨(粘度8000cps)印刷在遮光层的图案间隙中，然后在80℃烘烤，得到蓝色滤色片层的图案。蓝色滤色片的膜厚是15μm左右。
接着，使版向相对蓝色滤色片层的图案的条纹排列的垂直方向平行移动300μm，使香豆素6的配合量相对于1Kg聚氯乙烯树脂成为0.03mol地将香豆素6和作为粘结剂树脂的聚氯乙烯树脂(平均分子量2万)溶解在作为溶剂的环己酮中形成的油墨(粘度8000cps)印刷在遮光层图案的其他间隙中，然后在80℃烘烤，得到荧光体层A的图案。荧光体层A的膜厚是15μm左右。
随后使版向相对荧光体层A的图案的条纹排列的垂直方向平行移动300μm，使香豆素6的配合量相对于若丹明6G和若丹明B混炼在苯并二氨基三嗪树脂中的荧光颜料与聚氯乙烯树脂的合计量1Kg成为0.03mol、荧光颜料的配合量成为30重量％、并且聚氯乙烯树脂的配合量成为70重量％地将香豆素6、4重量％(相对苯并二氨基三嗪树脂)若丹明6G和4重量％(相对苯并二氨基三嗪树脂)若丹明B混炼在苯并二氨基三嗪树脂中成形的荧光颜料以及作为粘结剂树脂的聚氯乙烯树脂(重均分子量2万)溶解在作为溶剂的环己酮中形成的油墨(粘度8000cps)印刷在遮光层图案的另外的间隙中，然后在80℃烘烤，得到荧光体层B的图案。荧光体层B的膜厚是20μm左右。
接着，用800号砂纸，一边喷雾纯水，一边在色变换部件上进行抛光研磨，然后利用旋转研磨机(Speed Fam社制造)，使用氧化铝微粒研磨剂，一边喷雾纯水，一边进行镜面研磨(抛光)。
由以上制作色变换部件(图7(b))，若用表面粗造度计(DEKTAK3030)测定色变换部件的表面凹凸，则平坦化至0.2μm，另外，色变换层即蓝色滤色片、荧光体层A、B的膜厚分别是15μm左右。
此后，为了确认层叠的有机EL元件的发光辉度和色度，剥去极少一部分的遮光层和色变换层。
进而，作为透光性媒体，在基板温度160℃加热氧化硅(SiO2)，在10-6托的真空度进行溅射。膜厚是0.5μm。
在氧化硅膜的成膜后，也测定表面凹凸，是0.2μm，未变化。
接着，进行有机EL元件的制作。
首先，在160℃加热基板，在10-6托的真空度，利用溅射在氧化硅膜上将0.15μm的膜厚、表面电阻20Ω/□的ITO(铟锡氧化物)的透明电极(阳极)成膜。
接着，将正片型光敏抗蚀剂(保护层)(富士ハントエレクトロニクステクノロジ-社制造)旋转涂布在ITO上，在80℃烘烤后，在曝光机上，通过得到250μm线条、50μm间隔的条纹状的ITO图案的掩蔽物，在遮光层图案上进行位置组合，以100mJ/cm2进行曝光。
随后，在2.38重量％TMAH(四甲基氢氧化铵)水溶液中使保护层显像，在120℃进行后补烘烤，能形成保护层图案。
接着，将基板浸渍在室温的47重量％的溴化氢水溶液中，浸蚀ITO、保护层图案露出的部分，将保护层剥离，形成250μm线条、50μm间隔的条纹状的ITO图案。
接着，将该基板进行IPA洗净、UV洗净后，固定在蒸镀装置(日本真空技术社制造)基板支撑物上。蒸镀源，在钼制的电阻加热舟皿中分别装入作为空穴注入材料的MTDATA和NPD，作为发光材料的DPVBi，作为粘结剂的DPAVB，作为电子注入材料的Alq，作为阴极的第二金属，在钨制钨丝上装着Ag，作为阴极的电子注入性金属，在钨制舟皿上装着Mg。
然后，将真空槽减压至5×10-7托后，按照以下的顺序依次进行层叠。从空穴注入层至阴极，在途中不破真空进行一次抽真空。首先，作为空穴注入层，以镀蒸镀速度0.1～0.3nm/s、膜厚200nm将MTDATA蒸镀，以蒸镀速度0.1～0.3nm/s、膜厚20nm将NPD蒸镀，作为发光层，以蒸镀速度0.1～0.3nm/s、以蒸镀速度0.05nm/s同时将DPVBi、DPAVB蒸镀，并达到膜厚40nm(相对基质材料的掺杂剂的重量比是1.2～1.6)，作为电子注入层，以蒸镀速度0.1～0.3nm/s、膜厚20nm将Alg蒸镀，作为阴极，对阳极ITO的条纹图案垂直，通过形成600μm线条、100μm间隔的条纹图案的掩蔽物，将Mg和Ag同时蒸镀。即，Mg以蒸镀速度1.3～1.4nm/s形成膜厚200nm，Ag以蒸镀速度0.1nm/s形成200nm膜厚。
像这样进行，制作有机EL多色发光装置(图3)，在阳极和阴极上外加8V的直流电压，外加电压的阳极和阴极的交叉部分发光，已证实，从削去遮光层和色变换层的部分看到的有机EL元件的发光辉度和CIE色度坐标(JISZ 8701)分别是100cd/m2、色度是x＝0.16、y＝0.24，得到蓝色发光。
另外，已证实，从蓝色滤色片看到的光的发光辉度是50cd/m2，色度是x＝0.14、y＝0.16，得到色纯度高的蓝色发光。
另一方面，已证实，从荧光体层A看到的光的发光度是113cd/m2，色度是x＝0.23、y＝0.65，得到滤掉黄色的绿色(イエロイツシュグリ-ン)发光。
另外，已证实，从荧光体层B看到的光的发光度是22cd/m2，色度是x＝0.55、y＝0.29，得到红色的发光。
像以上那样制作有机EL元件多色发光装置，得到来自各色变换层的本来色的发光，未看到套色不准(混色)。
实施例2(向透光性基板中的埋入)
除了将分散实施例1的碳黑的丙烯酸酯系光固化型保护层旋转涂布在透光性基板上的转数变大以外，以和实施例1相同的条件形成遮光层的图案。遮光层的膜厚是15μm。
接着，在基板上层叠干膜保护层(富士フイルム社制造A-840)，固定在以高压水银灯作为光源的曝光机上。接着，将得到650μm线条、250μm间隔的条纹状图案的掩蔽物与遮光层的图案成为平行地进行位置组合，以60mJ/cm2(365nm)进行曝光。
然后，在1重量％碳酸钠水溶液中进行2分钟室温显像，保护层的图案，对遮光层间的条纹图案的3个进行1个开口，在该开口部露出透光性基板。
接着，向该开口部进行喷砂处理，在透明性基板上形成5μm深的沟。
然后，在3重量％氢氧化钠水溶液中、在50℃进行1分钟处理，可以剥离保护层。
以下，除了将实施例1的荧光体层B埋入在先前的透光性基板上形成沟的部分中、并且不进行研磨以外，以和实施例1相同的条件制成色变换部件(图8(a))。
用表面粗造度计(DEKTAK3030)测定色变换部件的表面凹凸，尽管蓝色滤色片和荧光体层A的膜厚是15μm左右，荧光体层B的膜厚是20μm左右，但已平坦化至1.5μm。
下面，以和实施例1相同的条件制作氧化硅膜和有机EL元件，制成有机EL多色发光装置。
接着，在阳极和阴极上一外加8V的直流电压，外加电压的阳极和阴极的交叉部分就发光，已证实，从削去遮光层和色变换层的部分看到的有机EL元件的发光辉度和CIE色度坐标(JIS Z 8701)分别是100cd/m2，色度是x＝0.16、y＝0.24，得到蓝色的发光。
另外，已证实，从蓝色滤色片看到的光的发光辉度是50cd/m2，色度是x＝0.14、y＝0.16，得到色纯度高的蓝色的发光。
另一方面，已证实，从荧光体层A看到的光的发光辉度是113cd/m2，色度是x＝0.23、y＝0.65，得到滤掉黄色的绿色(イエロイツシュグリ-ン)的发光。
另外，已证实，从荧光体层B看到的光的发光辉度是20cd/m2，色度是x＝0.60、y＝0.31，得到比实施例1纯度高的红色的发光。
像以上那样，当制成有机EL多色发光装置时，得到来自各色变换层的本来的发光，未看到套色不准(混色)。
实施例3(由透光性媒体产生的褶子)
以和实施例1相同的条件形成遮光层(遮光层的膜厚是20μm)。
接着，在该基板上旋转涂布作为透光性媒体的丙烯酸酯系光固化型保护层(新日铁化学社制V259PA)，在80℃烘烤后，固定在以高压水银灯作为光源的曝光机上。接着，将得到250μm线条、650μm间隔的条纹状图案的掩蔽物与遮光层的图案成为平行地进行位置组合，以300mJ/cm2(365nm)进行曝光。然后，再将掩蔽物相对300μm遮光层图案垂直地移动，以相同条件进行曝光。
接着，在1重量％碳酸钠水溶液中一进行2分钟室温显像，就将保护层的图案填充在遮光层的条纹图案的3个的2个内部中。
随后，在200℃烘烤，形成透光性媒体的图案。透光性媒体的膜厚是5μm。
以下，除了将实施例1的蓝色滤色片层和荧光体层A印刷在以先前的透光性媒体填充(已起褶子)的部分、并且不研磨以外，以和实施例1相同的条件制成色变换部件(图9)。
用表面粗造度计(DEKTAK3030)测定色变换部件的表面凹凸，尽管蓝色滤色片和荧光体层A的膜厚是15μm左右，荧光体层B的膜厚是20μm左右，但已平坦化至1.3μm。
下面，以和实施例1相同的条件制作氧化硅膜和有机EL元件，制成有机EL多色发光装置。
接着，在阳极和阴极上一外加8V的直流电压，外加电压的阳极和阴极的交叉部分就发光，已证实，从削去遮光层和色变换层的部分看到的有机EL元件的发光辉度和CIE色度坐标(JIS Z 8701)分别是100cd/m2，色度是x＝0.16、y＝0.24，得到蓝色的发光。
另外，已证实，从蓝色滤色片看到的光的发光辉度是50cd/m2，色度是x＝0.14、y＝0.12，得到色纯度更高的蓝色的发光。
另一方面，已证实，从荧光体层A看到的光的发光辉度是113cd/m2，色度是x＝0.23、y＝0.65，得到滤掉黄色的绿色(イエロイツシュグリ-ン)的发光。
另外，已证实，从荧光体层B看到的光的发光辉度是20cd/m2，色度是x＝0.60、y＝0.31，得到比实施例1纯度高的红色的发光。
像以上那样，当制成有机EL多色发光装置时，得到来自各色变换层的本来的发光，未看到套色不准(混色)。
实施例4(向透光性媒体中的埋入)
在与实施例1相同的透光性基板上旋转涂布作为透光性媒体的丙烯酸酯系光固化型保护层(新日铁化学社制V259PA)，在80℃烘烤后，固定在以高压水银灯作为光源的曝光机上。接着，将得到650μm线条、250μm间隔的条纹状图案的掩蔽物配置在和预先的遮光层的图案平行的位置上，以300mJ/cm2(365nm)进行曝光。
接着，在1重量％碳酸钠水溶液中进行2分钟室温显像，在200℃烘烤而形成透光性媒体的图案。透光性媒体的膜厚是5μm。
随后，以实施例2的条件，旋转涂布分散3重量％(对固形部分)的碳黑的丙烯酸酯系光固化型保护层(粘度250cps)，在80℃烘烤后，固定在以高压水银灯作为光源的曝光机上。随后，将得到50μm线条、250μm间隔的条纹状图案的掩蔽物与上述透光性媒体的图案平行地进行位置组合，以900mJ/cm2(365nm)进行曝光。
接着，在1重量％碳酸钠水溶液中进行2分钟室温显像，从透光性基板的玻璃面(里面)以3000mJ/cm2进行全面后曝光，然后在200℃烘烤。遮光层的膜厚是15μm。
透光性媒体的图案，在遮光层间的条纹图案的3个上进行1个开口，在该开口部露出透光性基板。
以下，除了将荧光体层B埋入先前的透光性媒体的开口部分并且不进行研磨以外，以和实施例1相同的条件制成色变换部件(图8(b))。
用表面粗造度计(DEKTAK3030)测定色变换部件的表面凹凸，尽管蓝色滤色片和荧光体层A的膜厚是15μm左右，荧光体层B的膜厚是20μm左右，但已平坦化至1.5μm。
以下，以和实施例1相同的条件制作氧化硅膜和有机EL元件，当制成有机EL多色发光装置时，得到和实施例2相同的结果。
实施例5(含有透光性媒体的色变换层)
以和实施例1相同的条件形成遮光层(遮光层的膜厚是20μm)。
接着，将基板固定在丝网印刷机上，使用得到250μm线条、650μm间隔的条纹状图案的版，使用铜钛菁系颜料(C.I.颜料蓝15∶6)2.8重量％(对固形部分)、二噁嗪系颜料(C.I.颜料紫23)0.2重量％(对固形部分)、作为粘结剂树脂的聚氯乙烯树脂(重均分子量2万)70重量％和作为透光性媒体的聚乙烯吡咯烷酮(重均分子量4万)27重量％，将它们分散在作为溶剂的环己酮中形成油墨(粘度13000cps)印刷在遮光层图案的空隙中，在80℃烘烤，得到蓝色滤色片的图案。蓝色滤色片的膜厚是20μm左右。
接着，使版相对条纹向垂直方向错开300μm，使香豆素6的配合量相对于聚氯乙烯树脂和聚氯乙烯吡咯烷酮的合计量1Kg成为0.03mol，使聚氯乙烯树脂的配合量成为70重量％、并且使聚氯乙烯吡咯烷酮的配合量成为30重量％地将香豆素6、作为粘结剂树脂的聚氯乙烯树脂(重均分子量2万)、作为透光性媒体的聚氯乙烯吡咯烷酮(重均分子量4万)溶解在作为溶剂的环己酮中形成的油墨(粘度12000cps)印刷在遮光层的图案的其他的间隙中，在80℃烘烤，得到荧光体层C的图案。荧光体层C的膜厚是20μm左右。
接着，将版相对荧光体层A的图案的条纹排列再向垂直方向平行移动300μm，使香豆素6的配合量相对于若丹明6G和若丹明B混炼在苯并二氨基三嗪树脂中的荧光颜料和聚氯乙烯树脂的合计量1Kg成为0.03mol、荧光颜料的配合量成为30重量％、并且聚氯乙烯树脂的配合量成为70重量％地将香豆素6、4重量％(相对苯并二氨基三嗪树脂)若丹明6G和4重量％(相对苯并二氨基三嗪树脂)若丹明B混炼在苯并二氨基三嗪树脂中成形的荧光颜料以及作为粘结剂树脂的聚氯乙烯树脂(重均分子量2万)溶解在作为溶剂的环己酮中形成的油墨(粘度8000cps)印刷在遮光层图案的另外的间隙中，然后在80℃烘烤，得到荧光体层B的图案。荧光体层B的膜厚是20μm左右。
从以上除了不进行研磨外，以和实施例1相同的条件制作色变换部件(图10)，用表面粗造度计(DEKTAK3030)测定，蓝色滤色片和荧光体层C、B的膜厚分别是20μm左右，趋于一致，因此表面凹凸平坦化至1.8μm。
以下，以和实施例1相同的条件制作氧化硅膜和有机EI元件，当制成有机EL多色发光装置时。
接着，在阳极和阴极上一外加8V的直流电压，外加电压的有阳极和阴极的交叉部分就发光，已证实，从削去遮光层和色变换层的部分看到的有机EL元件的发光辉度和CIE色度坐标(JIS Z 8701)分别是100cd/m2，色度是x＝0.16、y＝0.24，得到蓝色的发光。
另外，已证实，从蓝色滤色片看到的光的发光辉度是52cd/m2，色度是x＝0.14、y＝0.16，得到色纯度高的蓝色的发光。
另一方面，已证实，从荧光层C看到的光的发光辉度是115cd/m2，色度是x＝0.23、y＝0.65，得到滤掉黄色的绿色(イエロイツシュグリ)的发光。
另外，已证实，从荧光体层B看到的光的发光辉度是20cd/m2，色度是x＝0.60、y＝0.31，得到比实施例1色纯度高的红色发光。
像以上那样，当制成有机EL多色发光装置时，得到来自色变换层的本来色的发光，未看到套色不准(混色)。
实施例6
在作为支持基板的100mm×100mm×1.1mm厚的玻璃基板(透紫外线的麻粒玻璃7059)上旋转涂布分散30重量％(对固形部分)的碳黑的丙烯酸酯系光固化型保护层(粘度10cps)，在80℃烘烤后，再在200℃烘烤，形成2μm膜厚的黑色单色膜。
接着，将黑色单色膜的相反侧进行IPA洗净、UV洗净后，固定在蒸镀装置(日本真空技术社制)的基板支撑物上。蒸镀源，在钼制的电阻加热舟皿中分别装入作为空穴注入材料的MTDATA和NPD、作为发光材料的DPVBi、作为掺杂剂的DPAVB、作为电子注入材料的Alq，作为阴极的第二金属在钨制的钨丝中装着Ag，作为阴极的电子注入性金属，在钼制舟皿上装着Mg。
此后，将真空槽减压至5×10-7托后，通过得到600μm线条、100μm间隔的条纹状图案的掩蔽物，首先将阴极的图案成膜，接着，从电子注入层至空穴注入层进行成膜。再者，在从阴极将空穴注入层依次层叠时，在途中进行不破坏真空地一次抽真空。
首先，作为阴极同时将Mg和Ag进行蒸镀。即，Mg以蒸镀速度为1.3～1.4nm/s，Ag以蒸镀速度为0.1nm/s使膜厚达到200nm。
接着，作为电子注入层，以蒸镀速度为0.1～0.3nm/s使Alg达到膜厚20nm，作为发光层，分别以蒸镀速度为0.1～0.3nm/s、蒸镀速度为0.05nm/s，同时将DPVBi和DPAV蒸镀，并达到膜厚40nm(相对基质材料的掺杂剂的重量比是1.2～1.6)，作为空穴注入层，以蒸镀速度为0.1～0.3nm/s、膜厚20μm的条件将NPD蒸镀，以蒸镀速度为0.1～0.3nm/s、膜厚400μm的条件将MTDATA镀。
随后，将该基板移动到溅射装置上，在室温作为120nm膜厚、20Ω/□的透明电极(阳极)，通过得到250μm线条、50μm间隔的条纹状图案的掩蔽物，将ITO成膜，制成有机EL元件。再者，在此，阴极和阳极垂直，各自的电极端子能取出地配置掩蔽物。
接着，在该基板的阴极和阳极的交叉范围的周边部，利用分配器以1mm程度的宽度开一部分间隙，涂布环氧系光固化型粘结剂(スリ-ボンド社制3113)。
另一方面，将以和实施例1相同的条件制作的色变换部件的基板(表面凹凸是0.2μm)向有机EL元件和遮光层及色变换层组合进行贴合，仅对粘结剂涂布部分照射紫外线，使粘结剂固化。
接着，在氮气气氛下，使用注射针从先前已固化的粘结剂的间隙注入作为透光性媒体的氟化烃(美国3M公司制，商品名：FC70)。
然后，在粘结剂的间隙中再填充上述的粘结剂，和上述相同进行紫外线固化。
像这样进行，制作有机EL多色发光装置(图3)，在阳极和阴极上一外加8V的直流电压，外加电压的阳极和阴极的交叉部分就发光，已证实，从削去遮光层和色变换层的部分看到的有机EL元件的发光辉度和CIE色度坐标(JIS Z 8701)分别是100cd/m2，色度是x＝0.16、y＝0.24，得到蓝色的发光。
已证实，从蓝色滤色片看到的光的发光辉度是50cd/m2，色度是x＝0.14、y＝0.16，得到蓝色的发光。
另一方面，已证实，从荧光体层A看到的光的发光辉度是113cd/m2，色度是x＝0.23、y＝0.65得，到滤掉黄色的绿色(イエロイツシュグリ-ン)的发光。
另外，已证实，从荧光体层B看到的光的发光辉度是22cd/m2，色度是x＝0.55、y＝0.29，得到红色的发光。
像以上那样，当制作有机EL多色发光装置时，得到来自色变换层的本来的色的发光，未看到套色不准(混色)。
比较例1(色变换层比遮光层薄的场合)
在实施例1中，除了不进行研磨以外，以和实施例1相同的条件制成色变换部件。用表面粗造度计(DEKTAK3030)测定色变换部件的表面凹凸是5.6μm，色变换层即蓝色滤色片层、荧光体层A是15μm，荧光体层B的膜厚是20μm左右。
使用该色变换部件，以和实施例6相同的条件制成多色发光装置(图4(b)、图12)。
在此，在阳极和阴极上一外加8V的直流电压，外加电压的阳极和阴极的交叉部分就发光，已证实，从削去遮光层和色变换层的部分看到的有机EL元件的发光辉度和CIE色度坐标(JIS Z 8701)分别是100cd/m2 ，色度是x＝0.16、y＝0.24，得到蓝色的发光。
已证实，从蓝色滤色片看到的光的发光辉度是45cd/m2，色度是x＝0.14、y＝0.16，得到色纯度高的蓝色的发光。
另一方面，已证实，从荧光体层A看到的光的发光辉度是103cd/m2，色度是x＝0.23、y＝0.65，得到滤掉黄色的绿色(イエロイツシュグリ-ン)的发光。
另外，已证实，从荧光体层B看到的光的发光辉度是20cd/m2，色度是x＝0.60、y＝0.31，得到红色的发光。
像以上那样，制成有机EL多色发光装置，但蓝色滤色片和荧光体层A的辉度比实施例1低一些。认为这是，因为遮光层也比各自的层厚5μm左右，因此有机EL元件的光的一部分被遮光层吸收，色变换层不能充分受光的缘故。
比较例2(色变换层比遮光层厚的场合)
在实施例2中，除了在透光性基板上不形成沟、不埋入荧光体层B以外，以和实施例2相同的条件形成色变换部件。
用表面粗造度计(DEKTAK3030)测定色变换部件的表面凹凸是5.4μm，另外，色变换层即蓝色滤色片、荧光体层A的膜厚是15μm左右，B的膜厚是20μm左右。
使用该色变换部件，以和实施例6相同的条件制成多色发光装置(图4(a)，图13)。
在此，在阳极和阴极上一外加8V的直流电压，外加电压的阳极和阴极的交叉部分就发光，已证实，从削去遮光层和色变换层的部分看到的有机EL元件的发光辉度和CIE色度坐标(JIS Z 8701)分别是100cd/m2，色度是x＝0.16、y＝0.24，得到蓝色的发光。
已证实，从蓝色滤色片看到的光的发光辉度是50cd/m2，色度是x＝0.14、y＝0.16，得到蓝色的发光。
另一方面，已证实，从荧光体层A看到的光的发光辉度是110cd/m2，色度是x＝0.30、y＝0.59，得到滤掉黄色的绿色(イエロイツシュグリ-ン)的发光。
另外，已证实，从荧光体层B看到的光的发光辉度是20cd/m2，色度是x＝0.60、y＝0.31，得到红色的发光。
像以上那样，制成有机EL多色发光装置，但荧光体层A的色度比实施例2变化(套色不准)，色纯度变差。认为这是，因为荧光体层B也比其他的层厚5μm左右，从荧光体层B漏出的光混在荧光体层A中(混色)的缘故。
比较例3(不形成遮光层的场合)
在实施例1中，除了不形成遮光层以外，以和实施例1相同的条件制成色变换部件。
以下，以和实施例1相同的条件制作氧化硅膜和有机EL元件，制成有机EL多色发光装置。
接着，在阳极和阴极上一外加8V的直流电压，外加电压的阳极和阴极的交叉部分就发光，已证实，从削去遮光层和色变换层的部分看到的有机EL元件的发光辉度和CIE色度坐标(JIS Z 8701)分别是100cd/m2，色度是x＝0.16、y＝0.24，得到蓝色的发光。
另外，已证实，从蓝色滤色片看到的光的发光辉度是55cd/m2，色度是x＝0.20、y＝0.30，得到蓝色的发光。
另一方面，已证实，从荧光体层A看到的光的发光辉度是95cd/m2，色度是x＝0.30、y＝0.51，得到滤掉黄色的绿色(イエロイツシュグリ-ン)的发光。
另外，已证实，从荧光体层B看到的光的发光辉度是20cd/m2，色度是x＝0.50、y＝0.31，得到峰的发光。
像以上那样，制成有机EL元件多色发光装置，但因为没有遮光层，来自各色变换层的光进入邻接的色变换层，而引起套色不准(混色)，成为色纯度差的多色发光装置。
实施例7(基板的表面凹凸和有机EL元件的发光缺陷的关系)
作为透光性基板准备4枚100mm×100mm×1.1mm厚的玻璃板(透紫外线的麻点玻璃7059)，以各种转数将分散30重量％(对固形部分)碳黑的丙烯酸酯系光固化型保护层(富士ハントエレクトロニクステクノロジ-社制CK2000)旋转涂布在各个基板上，在80℃烘烤后，固定在以高压水银灯作为光源的曝光机上。接着，通过得到50μm线条、250μm间隔的条纹状图案的掩蔽物，以300mJ/cm2(365nm)进行曝光。
接着，在1重量％碳酸钠水溶液中进行2分钟室温显像后，在200℃烘烤，形成遮光层的图案。遮光层的膜厚分别是0.2μm、0.5μm、1.0μm、2.0μm，各自的膜厚相当于基板的表面凹凸。
进而，作为透光性媒体，在基板温度160℃加热氧化硅(SiO2)，在10-5托的真空度进行溅射。膜厚是0.5μm。
再者，氧化硅的成膜后也测定表面凹凸，上述各个基板的表面凹凸没有变化。
以下，以和实施例1相同的条件进行有机EL元件的制作。
接着，在阳极和阴极上外加8V的直流电压，使外加电压的阳极和阴极的交叉部分发光，进行表面凹凸不同的基板上的有机EL元件的评价。
结果示于表2。
再者，作为比较的对照，也准备在透光性基板(表面凹凸＜0.1μm)上直接制成的有机EL元件。
从表2可知，在表面凹凸为2.0μm以下的基板上的有机EL元件，由断线和短路而引起的辉度降低及相互干扰少。
比较例4
除了遮光层的膜厚是3.0μm、4.0μm、5.0μm以外，以和实施例7相同的条件制成有机EL元件。
结果示于表2。
从表2可知，在表面凹凸为3.0μm以上的基板上的有机EL元件，由断线和短路而引起的辉度降低及相互干扰少。
表2基板的表面凹凸(μm)辉度降低1)相互干扰1)实施例7 0.2 0.5 1.0 2.0 无 无 无 少 无 无 少 少比较例4 3.0 4.0 5.0 有 有 有 有 有 有
1)以在平滑的透光性基板(表面凹凸为0.1μm以下)上制成有机EL元件的场合作为基准。
如以上所说明的那样，按照本发明，能够提供防止发生套色不准(混色)、提高辉度、目视性优良、实用的多色发光装置。
另外，能够提高能以良好的合格率制造的多色发光装置。对附图的简要说明
图1是示意地表示本发明的多色发光装置的一种实施方式的断面图。
图2是示意地表示本发明的多色发光装置的一般构成的断面图。
图3是示意地表示本发明的多色发光装置的一般构成的断面图，示出在色变换部件和发光部件之间设置透光性媒体。
图4是用于说明在本发明的多色发光装置中，以遮光层的厚度作为基准时的色变换层厚度的影响的断面图。
图5是示意地表示在本发明中，在色变换部件的各色变换层上粘结各发光部件、使发光部件追随色变换部件的表面凹凸的断面图。
图6是用于说明本发明中的平坦化层厚度的影响的断面图。
图7示意地表示在本发明中，研磨色变换部件时的断面图。
图8是示意地表示在本发明中，在透光性基板中或者在透光性媒体中埋入膜厚厚的色变换层时的断面图。
图9是示意地表示在本发明中，在透光性媒体上使膜厚薄的色变换层起褶子时的断面图。
图10是示意地表示在本发明中，在膜厚薄的色变换层中包含透光性媒体时的断面图。
图11是表示以往技术的断面图，示出有机EL元件的发光能够受光地配置荧光媒体。
图12是示意地表示比较例的断面图。
图13是示意地表示比较例的断面图。
符号的说明
1 透光性基板
2 色变换部件
21 遮光层
22 色变换层
22a 膜厚厚的色变换层
22b 膜厚薄的色变换层
3 发光部件
31 有机EL元件
32 电极
33 (透明)电极
34 有机物层
4 透光性媒体
5 平坦化层(透光性媒体)