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1、(10)申请公布号 CN 103963178 A (43)申请公布日 2014.08.06 C N 1 0 3 9 6 3 1 7 8 A (21)申请号 201410035751.7 (22)申请日 2014.01.24 2013-014501 2013.01.29 JP B28D 5/00(2006.01) B28D 1/24(2006.01) C03B 33/02(2006.01) (71)申请人三星钻石工业股份有限公司 地址日本大阪府摄津市香露园32番12号 (72)发明人福西利夫 北市充 近藤干夫 留井直子 (74)专利代理机构北京中原华和知识产权代理 有限责任公司 11019 代理。
2、人寿宁 张华辉 (54) 发明名称 刻划轮用销、保持具单元及刻划装置 (57) 摘要 本发明是关于一种减少因销孔内面与销表面 接触所产生的磨耗粉导致在刻划轮与销之间的滑 动阻力变高、烧灼产生等的刻划轮用销、保持具 单元及刻划装置。其解决方法为:在插入于销孔 (42)并将刻划轮(40)保持成旋转自如的销(50) 的表面,形成有在销轴方向(B)延伸的沟槽(51), 借此,可使因销孔(42)内面(42a)与销(50)的表 面接触所产生的磨耗粉堆积于沟槽(51),减少磨 耗粉的凝着,且能够抑制在刻划轮(40)与销(50) 之间的滑动阻力上升、或烧灼产生。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权。
3、利要求书1页 说明书9页 附图5页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书9页 附图5页 (10)申请公布号 CN 103963178 A CN 103963178 A 1/1页 2 1.一种刻划轮用销,插入于形成在刻划轮的销孔,并将该刻划轮保持成旋转自如,其特 征在于:在表面形成有在销轴方向延伸的沟槽。 2.如权利要求1所述的刻划轮用销,其特征在于:在销轴方向延伸的该沟槽,形成有多 个。 3.一种保持具单元,具备刻划轮、保持该刻划轮的保持具及插入于形成在该刻划轮的 销孔并将该刻划轮保持于该保持具呈旋转自如的刻划轮用销,其特征在于:在该刻划轮用 销的。
4、表面,在与该销孔内面接触的接触区域,形成有在销轴方向延伸的沟槽。 4.如权利要求3所述的保持具单元,其特征在于:在销轴方向延伸的该沟槽,形成方向 与该销轴方向平行。 5.如权利要求3所述的保持具单元,其特征在于:在销轴方向延伸的该沟槽,形成有多 个。 6.如权利要求3所述的保持具单元,其特征在于:该沟槽的深度,随着从该刻划轮用销 的中央侧朝向端侧而变深。 7.如权利要求3所述的保持具单元,其特征在于:该沟槽的宽度,随着从该刻划轮用销 的中央侧朝向端侧而变宽。 8.一种刻划装置,其特征在于:具备权利要求3至权利要求7中任一项的保持具单元。 权 利 要 求 书CN 103963178 A 1/9页。
5、 3 刻划轮用销、 保持具单元及刻划装置 技术领域 0001 本发明是有关于将用以在玻璃基板等的脆性材料基板形成刻划线的刻划轮保持 成旋转自如的刻划轮用销、具备该刻划轮用销与刀轮的保持具单元及具备该保持具的刻划 装置。 背景技术 0002 在对玻璃基板等的脆性材料基板进行分断时,一般使用刻划装置。作为该刻划装 置,例如已知有专利文献1中记载的自动玻璃划线器。该自动玻璃划线器,具备有玻璃刀轮 (刻划轮)与轴(销),且在圆板状的玻璃刀轮的中心部贯通轴,成为借由该轴而将玻璃刀 轮保持成旋转自如的构成。 0003 专利文献1:日本特开2004-292278号公报。 发明内容 0004 在专利文献1记载。
6、的刻划装置中,随着刻划轮的旋转,使销所贯通的刻划轮的销 孔内面与销表面接触。而且,因销孔内面与销表面接触,导致销孔内面或销表面磨耗而产生 磨耗粉。 0005 一旦在该磨耗粉堆积于销表面的状态下继续进行刻划,则该磨耗粉凝着,将使得 在刻划轮与销之间的滑动阻力升高、产生烧灼等。此外,亦存在有根据刻划轮与销的素材组 合,而在刻划轮与销之间产生的摩擦力导致刻划轮的旋转阻力变高的情况。 0006 本发明的目的在于提供一种减少因销孔内面与销表面接触所产生的磨耗粉的凝 着,并且使刻划轮与销的接触面积本身变小而借此降低刻划轮与销之间的滑动阻力变高、 烧灼产生等情况的刻划轮用销、保持具单元及刻划装置。 0007。
7、 本发明的目的是采用以下技术方案来实现的。一种刻划轮用销,插入于形成在刻 划轮的销孔,并将该刻划轮保持成旋转自如,其中:在表面形成有在销轴方向延伸的沟槽。 0008 本发明的目的还可采用以下技术措施进一步实现。 0009 较佳的,前述的刻划轮用销,其中所述的在销轴方向延伸的该沟槽,形成有多个。 0010 本发明的目的还采用以下技术方案来实现的。一种保持具单元,具备刻划轮、保持 该刻划轮的保持具及插入于形成在该刻划轮的销孔并将该刻划轮保持于该保持具呈旋转 自如的刻划轮用销;其中:在该刻划轮用销的表面,在与该销孔内面接触的接触区域,形成 有在销轴方向延伸的沟槽。 0011 本发明的目的还可采用以下。
8、技术措施进一步实现。 0012 较佳的,前述的保持具单元,其中:在销轴方向延伸的该沟槽,形成方向与该销轴 方向平行。 0013 较佳的,前述的保持具单元,其中:在销轴方向延伸的该沟槽,形成有多个。 0014 较佳的,前述的保持具单元,其中:该沟槽的深度,随着从该刻划轮用销的中央侧 朝向端侧而变深。 说 明 书CN 103963178 A 2/9页 4 0015 较佳的,前述的保持具单元,其中:该沟槽的宽度,随着从该刻划轮用销的中央侧 朝向端侧而变宽。 0016 本发明的目的还采用以下技术方案来实现的。一种刻划装置,其具备保持具单元, 该保持具单元,具备刻划轮、保持该刻划轮的保持具及插入于形成在。
9、该刻划轮的销孔并将 该刻划轮保持于该保持具呈旋转自如的刻划轮用销,且在该刻划轮用销的表面,在与该销 孔内面接触的接触区域,形成有在销轴方向延伸的沟槽。 0017 借由上述技术方案,本发明刻划轮用销、保持具单元及刻划装置至少具有下列优 点及有益效果:利用本发明的刻划轮用销、保持具单元及刻划装置,在将刻划轮用销插入刻 划轮的销孔而使用时,可使因销孔内面与销的表面接触而产生的磨耗粉堆积于形成在销表 面的沟槽,可以减少因销孔内面与销表面接触所产生的磨耗粉的凝着,并且使刻划轮与销 的接触面积本身变小而借此降低刻划轮与销之间的滑动阻力变高、烧灼产生等情况。 0018 上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了。
10、能够更清楚了解本发明的技术手段, 而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够 更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。 附图说明 0019 图1是实施形态中的刻划装置的概略图。 0020 图2是实施形态中的刻划装置所具有的保持具接头的前视图。 0021 图3是实施形态中的保持具单元的立体图。 0022 图4是实施形态中的保持具单元的一部分放大图。 0023 图5是实施形态中的刻划轮的侧视图。 0024 图6是实施形态中的销的侧视图。 0025 图7(a)是图6的VIIa-VIIa线的剖面图。 0026 图7(b)是图7(a)的VIIb-VI。
11、Ib线的剖面图。 0027 图8(a)是变形例1的销的侧视图。 0028 图8(b)是变形例1的销的剖面图。 0029 图9是变形例2的销的一部分侧视图。 0030 图10是变形例3的销的一部分侧视图。 0031 图11是变形例4的销的一部分侧视图。 0032 图12是变形例5的销的一部分侧视图。 0033 图13是变形例6的销的一部分侧视图。 0034 【主要元件符号说明】 0035 10:刻划装置 11:移动台 0036 12a、12b:导引轨条 13:滚珠螺杆 0037 14、15:马达 16:平台 0038 17:脆性材料基板 18:CCD摄影机 0039 19:桥架 20a、20b:。
12、支柱 0040 21:刻划头 22:导引件 0041 23:保持具接头 23a:旋转轴部 说 明 书CN 103963178 A 3/9页 5 0042 23b:接头部 24a、24b:轴承 0043 24c:隔片 25:开口 0044 26:内部空间 27:磁铁 0045 28:平行销 30:保持具单元 0046 30a:保持具 31:安装部 0047 31a:倾斜部 31b:平坦部 0048 32:保持沟槽 33a、33b:支持部 0049 34a、34b:支持孔 40:刻划轮 0050 41:基材 42:销孔 0051 42a:内面 43:刀刃部 0052 44:棱线 45:倾斜面 00。
13、53 50、50a、50b、50c、50d、50e、50f:销 0054 51、51a、51b、51c、51d、51e、51f、52:沟槽 0055 B:销轴方向 具体实施方式 0056 为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结 合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的一种刻划轮用销、保持具单元及刻划装置的具 体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。 0057 图1表示实施形态的刻划装置10的概略图。刻划装置10,具备有移动台11。而 且,该移动台11,与滚珠螺杆13螺合,且借由马达14的驱动使该滚珠螺杆13旋转,借此可 沿一对导引轨条12a、12b在y轴方向移。
14、动。 0058 在移动台11的上面,设置有马达15。该马达15,是用以使位于上部的平台16在 xy平面旋转而定位于既定角度。脆性材料基板17,载置于该平台16上,且由未图示的真空 吸引方法等保持。另外,作为成为刻划的对象的脆性材料基板17,是玻璃基板、由低温烧成 陶瓷或高温烧成陶瓷构成的陶瓷基板、硅基板、化合物半导体基板、蓝宝石基板、石英基板 等。此外,脆性材料基板17,亦可为在基板的表面或内部附着或包含有薄膜或半导体材料。 此外,脆性材料基板17,亦可在其表面附着有非属脆性材料的薄膜等。 0059 刻划装置10,在脆性材料基板17的上方,具备有对形成于脆性材料基板17的表面 的对准标记进行拍。
15、摄的两台CCD摄影机18。而且,在刻划装置10,沿x轴方向将桥架19借 由支柱20a、20b而架设成横跨移动台11与其上部的平台16。 0060 该桥架19,安装有导引件22,而将刻划头21设置成可沿导引件22并沿x轴方向 移动。而且,刻划头21,通过保持具接头23,安装有保持具单元30。 0061 图2是安装有保持具单元30的保持具接头23的前视图。此外,图3是保持具单 元30的立体图。此外,图4是放大从图3的A方向所观察到的保持具单元30的侧面的一 部分的图。 0062 保持具接头23成为大致圆柱状,且具备有旋转轴部23a及接头部23b。在刻划头 21安装有保持具接头23的状态下,在该旋转。
16、轴部23a,隔着圆筒形的隔片(spacer)24c安 装有用以将保持具接头23保持成旋动自如的两个轴承24a、24b。另外,图2,表示保持具接 说 明 书CN 103963178 A 4/9页 6 头23的前视图,并且一并表示安装于旋转轴部23a的轴承24a、24b与隔片24c的剖面图。 0063 在圆柱形的接头部23b,设置有在下端侧具备有圆形开口25的内部空间26。在该 内部空间26的上部埋设有磁铁27。而且,将借由磁铁27而装卸自如的保持具单元30,以 插入于该内部空间26的方式安装。 0064 保持具单元30,保持具30a与刻划轮40与销50成为一体。该保持具30a,如图3 所示般成为。
17、大致圆柱形,且以磁性体金属形成。而且,在保持具30a的上部,设置有定位用 的安装部31。该安装部31,是切削保持具30a的上部而形成,具备有倾斜部31a与平坦部 31b。 0065 而且,将保持具30a的安装部31侧,通过开口25往内部空间26插入。此时,借由 磁铁27吸引保持具30a的上端侧,且借由安装部31的倾斜部31a与通过内部空间26的平 行销28接触,而进行保持具单元30相对于保持具接头23的定位与固定。此外,在从保持 具接头23取出保持具单元30时,可借由将保持具30a往下方拉而容易地取出。 0066 在保持具30a的下部,设置有切削保持具30a而形成的保持沟槽32。而且,在为了 。
18、设置保持沟槽32而经切削的保持具30a的下部,以夹着保持沟槽32的方式设置有支持部 33a、33b。而且,该保持沟槽32,将刻划轮40配置成旋转自如。此外,支持部33a、33b,分别 形成有支持用以将刻划轮40保持成旋转自如的销50的支持孔34a、34b。 0067 而且,如图4所示,使销50贯通于刻划轮40的销孔42,并且将销50的两端设置 于支持孔34a、34b,借此将刻划轮40安装成相对于保持具30a旋转自如。另外,支持孔34a 内部具有阶部,且使保持沟槽32侧的开口的孔径,较另一侧的开口的孔径大。 0068 接着,针对刻划轮40的细节进行说明。图5是安装于保持具30a前端的刻划轮40 。
19、的侧视图。 0069 该刻划轮40,主要具备有圆板状的基材41、形成于基材41的大致中心的用以使销 50贯通的销孔42、及切削基材41的圆周部两端而形成的刀刃部43。 0070 基材41,是由超硬合金、不锈钢、陶瓷、烧结钻石(Poly CrystallineDiamond,以下 称为PCD)等硬质物构成的圆板状的构件。尤其较佳为具有导电性、且硬度亦比较高的超硬 合金。亦在本实施形态中,使用超硬合金作为刻划轮40的基材。另外,超硬合金,是使用混 合碳化钨(tungsten carbide)与结合材(binder)(即钴(Co))并烧结而成。在该情形,根 据用途而添加碳化钛(TiC)或碳化钽(Ta。
20、C)等。此外,销孔42,是以将基材41的大致中心 切削成圆形而形成。 0071 刀刃部43,具备有切削圆板状的基材41的圆周部两端而形成的棱线44、及棱线44 两侧的倾斜面45。 0072 接着,针对刻划轮40的尺寸进行说明。刻划轮40的外径,处于1.0-10.0mm的范 围,较佳为1.0-5.0mm的范围。在刻划轮40的外径小于1.0mm的情形,刻划轮40的可处理 性降低。另一方面,在刻划轮40的外径大于10.0mm的情形,存在有刻划时无法对脆性材料 基板17形成较深的垂直裂痕的情况。而在本实施形态中,使用外径为2.5mm的刻划轮40。 0073 此外,刻划轮40的厚度,处于0.4-1.2m。
21、m的范围,较佳为0.4-1.1mm的范围。在刻 划轮40的厚度小于0.4mm的情形,存在有可加工性及可处理性降低的情况。另一方面,在 刻划轮40的厚度大于1.2mm的情形,将使刻划轮40的材料及用于制造的成本变高。而在 本实施形态中,使用厚度为0.65mm的刻划轮40。另外,使保持具30a的保持沟槽32的宽度 说 明 书CN 103963178 A 5/9页 7 (支持部33a与支持部33b的距离),相对于刻划轮40的厚度稍微大,例如在刻划轮40的 厚度为0.65mm的情形,使保持沟槽32的宽度成为约0.67mm。 0074 此外,刻划轮40的销孔42的孔径,在本实施形态中为0.8mm。 00。
22、75 此外,刀刃部43的刃前角,一般为钝角,且为90-160的范围,较佳为90-140的 范围。另外,刃前角具体的角度,可根据将进行切断的脆性材料基板17的材质、厚度等而适 宜地设定。 0076 接着,针对销50进行说明。销50是圆柱形的构件,并如图6所示,一端成为尖头 形状。而且,将销50从尖头形状侧往支持孔34b插入,贯通销孔42,且尖头形状部分与支持 部33a的阶部相接,借此保持刻划轮40。 0077 作为销50的材料,与刻划轮40的基材41同样地,可使用超硬合金、不锈钢、陶瓷、 PCD等硬质物。而在本实施形态中,使用PCD作为销50的材料。 0078 此处,针对销50的材料即PCD的制。
23、造方法进行说明。另外,如上所述般亦可使用 PCD作为刻划轮40的材料,该情形亦为同样的制造方法。 0079 PCD主要是由钻石粒子及其余的由添加剂及结合材构成的结合所作成。该钻石粒 子的平均粒子径为1.5m以下。而且,PCD中的钻石含有量为75.0-90.0vol%的范围。 0080 作为添加剂,例如可适当地使用从钨、钛、铌、钽选择至少1种以上的元素的超微 粒子碳化物。PCD中的超微粒子碳化物含有量为3.0-10.0vol%的范围,且该超微粒子碳化 物包含1.0-4.0vol%的碳化钛、及其余的碳化钨。 0081 作为结合材,一般而言,可适当地使用铁族元素。作为铁族元素,可例举如钴、镍、 铁等。
24、,其中亦以钴较佳。此外,PCD中的结合材含有量较佳为钻石及超微粒子碳化物的其余 部分,更佳为20.0-20.5vol%的范围。 0082 而且,首先,混合上述的钻石粒子、添加剂、结合材,且在钻石成为热力学上安定的 高温及超高压下,使上述多个混合物烧结。借此制造PCD。在该烧结时,超高压产生装置的 模具内的压力为5.0-8.0GPa的范围,模具内的温度为1500-1900C的范围。 0083 从以如此方式制造出的PCD切取所希望长度的圆柱。然后,将该圆柱的一端削成 尖头形状而借此制造销50。另外,若为刻划轮40的情形,则从所制造出的PCD切取成为所 希望半径的圆板。然后,在该圆板的周缘部,分别切。
25、削两侧面而借此形成二个倾斜面45,完 成具有刀刃部43的刻划轮40。 0084 一旦使用将如此般的销50维持该状态贯通于刻划轮40的销孔42且保持有刻划 轮40的保持具单元30,在刻划装置10进行脆性材料基板17的刻划,则销孔42的内面42a 与销50的表面接触且产生磨耗粉。而且,一旦该磨耗粉维持附着在销50的表面的状态下 继续进行刻划,则在销孔内面42a与销50表面之间凝着该磨耗粉,使得在刻划轮40与销50 之间的滑动阻力变高、产生烧灼等。 0085 因此,在本实施形态中,如图6、图7所示,在销50的表面,设置有用以堆积磨耗粉 的沟槽51。另外,图7(a)是图6的VIIa-VIIa线的剖面图。
26、,图7(b)是图7(a)的VIIb-VIIb 线的剖面图。 0086 形成于销50的表面的沟槽51,相对于图6中以箭头B表示的与销50的中心轴平 行的销轴方向B平行地延伸。此外,沟槽51,在销50的表面形成有多个,且相邻的沟槽51 彼此的间隔为等间隔。此外,沟槽51的长度,较刻划轮40的厚度长。 说 明 书CN 103963178 A 6/9页 8 0087 如此般,借由在销50的表面形成有在销轴方向B延伸的沟槽51,使得因刻划轮40 的旋转而导致销孔42的内面42a与销50的表面接触所产生的磨耗粉,借由刻划轮40或销 50的旋转,而落入销50表面的沟槽51并堆积。因此,由于磨耗粉不会继续堆积。
27、在销孔42 的内面42a与销50表面之间,因此可降低因摩擦热等所导致的磨耗粉的凝着,且可抑制在 刻划轮40与销50之间的滑动阻力上升或烧灼产生。 0088 尤其是在本实施形态中,在销50的表面形成多个沟槽51。此是由于例如在仅形成 有一个沟槽51的情形,以该沟槽51的凹部为基点,销50稳固于支持孔34a、34b内,而使销 50难以旋转。一旦销50的旋转停止,则恐有在销50表面的相同位置,销孔42的内面42a 进行接触,从该处聚集的磨耗产生于销50表面的情况。然而,借由形成有多个沟槽51,便不 会有如此的情况,此外,更由于沟槽51彼此的间隔为等间隔,因此可使销50的旋转稳定。 0089 进一步地。
28、,借由形成有多条沟槽,亦可使刻划轮40与销50的接触面积变小。借此, 能使原本随着刻划轮40的旋转而产生的刻划轮40与销50的摩擦力变小、使刻划轮40的 滑动阻力变小。更进一步地,亦可使磨耗粉凝着于销表面的面积变小、使磨耗粉附着的影响 变小。 0090 此外,在本实施形态中,使沟槽51的长度较刻划轮40的厚度长。也就是,形成于 销50的表面的沟槽51,延伸设置至与销孔42的内面42a接触的接触区域T之外。因此,将 使堆积于沟槽51的摩擦粉(磨耗粉),随着刻划轮40或销50的旋转而缓缓地移动,通过沟 槽51而往接触区域T之外排出。 0091 该沟槽51,虽亦可为在销50的表面抵接研磨构件,借由研。
29、磨而形成,但在本实施 形态中,在借由激光加工形成沟槽51。如此借由激光加工形成沟槽51,借此可较研磨构件 更精密地进行加工。此外,能够容易地形成如下述的变形例般的沟槽形状。另外,沟槽51 的深度,形成为0.1mm。该沟槽51的深度,若为更深,恐使销50的强度降低。因此,较佳为 相对于销50的径长5-20%左右的深度。 0092 销50的具体的制造步骤,首先,对由PCD构成的细长圆柱状的基材,借由激光加工 形成沟槽51。之后,将圆柱状的基材切断成既定的长度,成为多个圆柱状的切断构件。然 后,切削各圆柱状的切断构件的一端侧成尖头形状而完成销50。如此般使用细长圆柱状的 基材,对基材借由激光加工形成。
30、沟槽51,之后,分断成多个切断构件,使销50完成,借此可 效率佳地制造多个销50。此外,在基材的状态下形成沟槽51,借此容易使沟槽51的位置或 深度均一化。 0093 另外,亦可首先切断细长圆柱状的基材,成为多个切断构件之后,就每个切断构件 借由激光加工形成沟槽51而制造销50。 0094 此外,在本实施形态中,使用超硬合金作为刻划轮40的材料,使用PCD作为销50 的材料。在如此般的刻划轮40的材料与销50的材料为不同的组合的情形,借由在销50的 表面形成有沟槽51,更加产生沟槽51的效果。此是由于相对于刻划轮40的材料(即超硬合 金),销50的材料(即PCD)较硬,一旦在该状态下进行刻划,。
31、则因硬度不同将导致销50大力 地切削销孔42的内面42a,从而亦产生较多磨耗粉的原因。 0095 此外,虽借由激光加工形成沟槽51,但在利用激光加工的情形,与对超硬合金制成 的销加工相比,对本实施形态般的PCD制成的销加工较为容易。 0096 如以上般,借由在销50的表面形成有沟槽51,使得销孔42的内面42a与销50的 说 明 书CN 103963178 A 7/9页 9 表面接触所产生的磨耗粉,在刻划轮40的旋转中,由沟槽51回收,且堆积于沟槽51,因此 可降低磨耗粉的凝着,能够抑制在刻划轮40与销50之间的滑动阻力上升、或烧灼产生。而 且,用于堆积磨耗粉的沟槽51,由于可借由对销50的表。
32、面加工而形成,因此能够非常简单 地形成。 0097 变形例1接着,针对形成于销50表面的沟槽51的变形例1,利用图8进行说明。 图8(a)是销50a的侧视图,图8(b)是销50a的剖面图。 0098 销50a,与销50同样地,在表面等间隔设置有多个沟槽51a,另一方面,如图8(b) 所示,各沟槽51a的深度,随着从销50a的中央侧朝向端侧而变深。也就是,沟槽51a,以随 着朝向与销孔42的内面42a接触的接触区域T的外侧而缓缓地变深的方式形成。借由如 此方式形成,使堆积于沟槽51a的磨耗粉,更加容易地往与销孔42的内面42a接触的接触 区域T之外排出。而且,如沟槽51a般该改变沟槽的深度般的加。
33、工,可利用上述的激光加工 而容易地形成。 0099 另外,沟槽51a的深度,并不一定要如图8(b)所示般缓缓地变化,亦可为呈阶段状 地变深。此外,沟槽51a,亦可为在接触区域T的中央侧固定深度,而从接触区域T的两端附 近使深度变化。 0100 变形例2接着,针对变形例2,利用图9进行说明。图9是销50b的一部分侧视 图。 0101 销50b,在表面等间隔设置多个沟槽51b,另一方面,如图9所示,各沟槽51b的宽 度,随着从销50b的中央侧朝向端侧而变宽。也就是,沟槽51b,形成为宽度随着从与销孔 42的内面42a接触的接触区域T的中央侧朝向外侧而缓缓地变宽。借由如此方式形成,磨 耗粉沿着沟槽5。
34、1b宽度的倾斜,朝向接触区域T的外侧,因此容易将磨耗粉往接触区域T之 外排出。而且,如沟槽51b般改变沟槽宽度般的加工,亦可借由激光加工而容易形成。 0102 另外,沟槽51b,与沟槽51或沟槽51a不同,未形成至销50b的端部。也就是,沟 槽51b虽延伸设置至接触区域T之外,但成为到达支持孔34a、34b左右的长度。因此,在支 持孔34a、34b的位置,沟槽51b几乎不位于销50b的表面,因此借由沟槽51b而不易产生销 50b旋转不稳定的情况。 0103 变形例3接着,针对变形例3,利用图10进行说明。图10是销50c的一部分侧 视图。 0104 销50c,在表面等间隔设置多个沟槽51c,另。
35、一方面,如图10所示,在接触区域T 中,设置有多个与沟槽51c呈直角相交的沟槽52。如此在接触区域T中,设置有沿销轴方向 B平行延伸的沟槽51c、及与沟槽51c呈直角相交的沟槽52,借此亦使堆积于沟槽51c的一 部分的磨耗粉,随着刻划轮40的旋转而在沟槽52的位置沿着沟槽52进行移动。因此,亦 能够使磨耗粉堆积于沟槽52,因此亦在沟槽51c的深度较浅的情形,在接触区域T中,能够 确保堆积磨耗粉的区域。此外,亦使磨耗粉沿着沟槽52进行移动,因此,可促进磨耗粉在沟 槽内的移动,从而使磨耗粉容易往接触区域T之外排出。 0105 另外,沟槽51c,亦可如变形例1或变形例2般改变深度或宽度。此外,沟槽5。
36、2,并 不一定要与沟槽51c呈直角相交,亦可相对于沟槽51c呈倾斜方向相交。此外,沟槽51c或 沟槽52般的加工,亦可借由激光加工而容易地形成。 0106 变形例4接着,针对变形例4,利用图11进行说明。图11是销50d的一部分侧 说 明 书CN 103963178 A 8/9页 10 视图。 0107 销50d,在表面等间隔设置有沿销轴方向B延伸的多个沟槽51d,另一方面,如图11 所示,如沟槽51或沟槽51a般,不与销轴方向B平行,而沿着销轴方向B稍微倾斜地延伸。 另外,在图11中,使销轴方向B吻合销50d的中心轴,并以虚线记载。该沟槽51d的倾斜, 是相对于销轴方向B为45以下,在本变形。
37、例中,为相对于销轴方向B呈15倾斜。如此, 销50d,即使是使在销轴方向B延伸的沟槽51d稍微倾斜,亦能够使磨耗粉堆积于表面的沟 槽51d。 0108 另外,沟槽51d,亦可形成为在接触区域T的中心附近呈左右对称折弯。此外,如沟 槽51d般的加工亦可借由激光加工形成。 0109 变形例5接着,针对变形例5,利用图12进行说明。图12是销50e的一部分侧 视图。销50e,在表面等间隔设置有沿销轴方向B延伸的多个沟槽51e,另一方面,如图12 所示,沟槽51e的形状成为波线形状。在销的表面沿销轴方向B延伸的沟槽,亦可为如此般 的波线形状的沟槽51e。另外,亦在图12中,使销轴方向B吻合销50e的中。
38、心轴,并以虚线 记载。 0110 变形例6接着,针对变形例6,利用图13进行说明。图13是销50f的一部分侧 视图。销50f,在表面等间隔设置有沿销轴方向B延伸的多个沟槽51f,另一方面,如图13所 示,各沟槽51f形成为仅往接触区域T的单侧突出。也就是,不是如沟槽51或沟槽51a般 以从接触区域T两侧突出的方式延伸设置,而是从接触区域T的中央仅朝向一端侧延伸,以 从接触区域T的一侧突出的方式延伸设置。 0111 此外,沟槽51f,以从接触区域T的一侧交互地突出的方式设置。此外,各沟槽51f, 虽不是以遍及接触区域T的整体的方式设置,但遍及接触区域T的整体,设置某任何沟槽 51f。也就是若将沟。
39、槽51f投影于销孔42的内面42a,则遍及接触区域T整体配置有沟槽 51f。因此,某任何沟槽51f必与销孔42的内面42a接触,且使摩擦粉堆积。此外,沟槽51f 与沟槽51等不同,其至接触区域T之外的距离较短,因此通过沟槽使得磨耗粉容易更快地 排出。 0112 另外,若可遍及接触区域T整体,设置有某任何沟槽51f,则亦可为如此形状以外, 亦可以更短的多个沟槽51f构成。此外,沟槽51f般的加工,亦可借由激光加工容易地形成。 0113 如以上所述般,借由在销50等的表面形成有沟槽51等,而将销孔42的内面42a 与销50等的表面接触所产生的磨耗粉,在刻划轮40的旋转中,借由沟槽51等回收,且堆积。
40、 于沟槽51等。因此,在具备有该销50的刻划装置10或保持具单元30中,可减少磨耗粉的 凝着,且能够抑制在刻划轮40与销50之间的滑动阻力上升、或烧灼产生。 0114 另外,刻划轮40或销50是消耗品,因此必需定期性更换。在本实施形态中,成为 通过保持具接头23将保持具单元30装附于刻划头21的构成。因此,为了可容易地进行 保持具单元30的装卸,亦可以在消耗品的更换时不必特地从保持具30a取出刻划轮40的 方式,将刻划轮40与保持具30a处理成为一体之物,更换具有保持具30a的该物。因此,能 够非常容易地进行刻划轮40的更换作业。此外,对于不必通过保持具接头23而将保持具 30a直接固定于刻划。
41、头的构成、对保持具30a进行刻划轮的更换般的构成的刻划装置,本发 明亦可适用。 0115 以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽 说 明 书CN 103963178 A 10 9/9页 11 然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人 员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰 为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质 对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。 说 明 书CN 103963178 A 11 1/5页 12 图1 说 明 书 附 图CN 103963178 A 12 2/5页 13 图2 图3 说 明 书 附 图CN 103963178 A 13 3/5页 14 图4 图5 图6 图7(a) 图7(b) 说 明 书 附 图CN 103963178 A 14 4/5页 15 图8(a) 图8(b) 图9 图10图11 说 明 书 附 图CN 103963178 A 15 5/5页 16 图12图13 说 明 书 附 图CN 103963178 A 16 。