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1、(10)申请公布号 CN 103969827 A (43)申请公布日 2014.08.06 C N 1 0 3 9 6 9 8 2 7 A (21)申请号 201410039671.9 (22)申请日 2014.01.27 2013-020165 2013.02.05 JP G02B 26/10(2006.01) G02B 27/01(2006.01) (71)申请人精工爱普生株式会社 地址日本东京都 (72)发明人沟口安志 (74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人舒艳君 李洋 (54) 发明名称 光扫描仪及其制造方法、图像显示装置、头戴 式显示器 (57) 摘要。
2、 本发明提供一种能够降低反射光的亮度来提 高通过反射光的扫描而描绘的图像的对比度的光 扫描仪、图像显示装置、头戴式显示器以及光扫描 仪的制造方法。光扫描仪(4)具有能够绕第1轴 J1摆动的可动部(41)、和将可动部(41)支承为能 够绕第1轴J1摆动的第1轴部(421、422)。另外, 可动部(41)具有与第1轴部(421、422)连接的基 部(411)、被基部(411)支承的具有透光性的光透 过部(412)、以及设置在光透过部(412)的表面并 降低光反射的第1光反射降低部(413)。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书2页 说明书14页 附图14页 (19)中华人民共和。
3、国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书14页 附图14页 (10)申请公布号 CN 103969827 A CN 103969827 A 1/2页 2 1.一种光扫描仪,其特征在于,具备: 基部; 轴部,其将所述基部支承为能够绕第1轴摆动;以及 光学部,其包括被所述基部支承并具有透光性的光透过部以及设置在所述光透过部上 并降低光反射的第1光反射降低部, 光入射至所述第1光反射降低部。 2.根据权利要求1所述的光扫描仪,其特征在于, 所述光学部的光反射率小于4。 3.根据权利要求1或者2所述的光扫描仪,其特征在于, 所述光学部的透光率为92以上。 4.根据权利要求13中任。
4、意一项所述的光扫描仪,其特征在于, 在所述光透过部的与设有所述第1光反射降低部的表面相反侧设置有使透过了所述 第1光反射降低部以及所述光透过部的光的反射率降低的第2光反射降低部。 5.根据权利要求14中任意一项所述的光扫描仪,其特征在于, 所述光学部包括降低光反射的第3光反射降低部,该第3光反射降低部被设置在所述 光透过部的与设有所述第1光反射降低部的表面相反侧的表面。 6.根据权利要求15中任意一项所述的光扫描仪,其特征在于, 所述基部具有贯通孔,透过了所述光学部的光的至少一部分通过所述贯通孔。 7.根据权利要求6所述的光扫描仪,其特征在于, 所述光透过部被设置成覆盖所述贯通孔的一侧的开口。。
5、 8.根据权利要求6所述的光扫描仪,其特征在于, 所述光透过部被设置在所述贯通孔内。 9.根据权利要求8所述的光扫描仪,其特征在于, 在所述贯通孔的轴向的中途形成有阶梯部, 所述光透过部与所述阶梯部抵接。 10.根据权利要求15中任意一项所述的光扫描仪,其特征在于, 所述光透过部被设置成与所述轴部在所述第1光反射降低部的厚度方向分离,并且从 所述厚度方向观察时与所述轴部的至少一部分重叠。 11.一种图像显示装置,其特征在于, 包括能够绕第1轴摆动的可动部、和将所述可动部支承为能够绕所述第1轴摆动的轴 部, 所述可动部包括: 基部,其与所述轴部连接; 光透过部,其被所述基部支承且具有透光性;以及。
6、 第1光反射降低部,其被设置于所述光透过部并降低光反射。 12.一种头戴式显示器,其特征在于,是具备佩戴于观察者的头部的框架、和设于所述 框架的光扫描仪的头戴式显示器, 所述光扫描仪具备: 基部; 权 利 要 求 书CN 103969827 A 2/2页 3 轴部,其将所述基部支承为能够绕第1轴摆动;以及 光学部,其包括被所述基部支承并具有透光性的光透过部以及设置在所述光透过部上 并降低光反射的第1光反射降低部, 光入射至所述第1光反射降低部。 13.一种光扫描仪的制造方法,其特征在于,具有: 准备具有板状的基部以及向所述基部的一面侧突出的突出部的基板、和在一面侧形成 有凸部的透明基板,使所述。
7、基板与所述透明基板重叠,将所述突出部与所述凸部接合的接 合工序; 对所述基部进行图案化,来形成支承所述突出部的基部以及与所述基部连接的轴部的 图案化工序; 通过留下所述凸部地对所述透明基板进行薄壁化,来形成光透过部的薄壁化工序;以 及 对所述光透过部形成使光反射降低的光反射降低部的光反射降低部形成工序。 14.根据权利要求13所述的光扫描仪的制造方法,其特征在于, 具有在所述薄壁化工序之前对所述基板与所述透明基板的缝隙填充密封材料的填充 工序, 在所述薄壁化工序中,通过湿式蚀刻进行所述透明基板的薄壁化。 15.一种光扫描仪,其特征在于,具备: 基部; 轴部,其将所述基部支承为能够绕第1轴摆动;。
8、以及 光学部,其包括被所述基部支承并具有透光性的第1光学部以及设置在所述第1光学 部上并具有比所述第1光学部的透光率高的透光率的第2光学部, 光入射至所述第2光学部。 权 利 要 求 书CN 103969827 A 1/14页 4 光扫描仪及其制造方法、 图像显示装置、 头戴式显示器 技术领域 0001 本发明涉及光扫描仪及光扫描仪的制造方法、图像显示装置、头戴式显示器。 背景技术 0002 例如,作为用于使屏幕显示图像的图像显示装置,已知有一种具有光源、和对来自 光源的光进行二维扫描的光扫描仪的构成(例如,参照专利文献1)。专利文献1所记载的 图像显示装置具有3个激光光源、将来自3个激光光源。
9、的激光合成的合成部、和对由合成部 合成后的激光进行二维扫描的光扫描仪。此处,由于从激光光源射出的激光的强度较强,并 且,激光几乎全部被光扫描仪反射,所以存在被显示于屏幕的图像变得过亮而得不到较高 的对比度这一问题。其中,使激光光源的输出(激光的强度)降低存在限度,例如,即使使输 出降至最低限度,也难以充分提高对比度。 0003 专利文献1:日本特开平2011154344号公报 发明内容 0004 本发明的目的在于,提供一种能够降低反射光的亮度来提高通过反射光的扫描描 绘的图像的对比度的光扫描仪、图像显示装置、头戴式显示器以及光扫描仪的制造方法。 0005 这样的目的通过下述的应用例来实现。 0。
10、006 本应用例的光扫描仪的特征在于,具备:基部;轴部,其将上述基部支承为能够绕 第1轴摆动;以及光学部,其包括被上述基部支承并具有透光性的光透过部以及设置在上 述光透过部上并降低光反射的第1光反射降低部,光入射至上述第1光反射降低部。 0007 由此,可获得能够降低反射光的亮度来提高通过反射光的扫描而描绘的图像的对 比度的光扫描仪。 0008 在本应用例的光扫描仪中,优选上述光学部的光反射率小于4。 0009 由此,可获得能够显示更高对比度的图像的光扫描仪。 0010 在本应用例的光扫描仪中,优选上述光学部的透光率为92以上。 0011 由此,能够在光透过光透过部时,抑制被光透过部吸收的光的。
11、量,可抑制光透过部 发热(升温)。通过抑制光透过部发热,能够抑制光扫描仪的热应变,能够维持光扫描仪的光 扫描特性。 0012 在本应用例的光扫描仪中,优选在上述光透过部的与设有上述第1光反射降低部 的表面相反一侧设置有使透过了上述第1光反射降低部以及上述光透过部的光的反射率 降低的第2光反射降低部。 0013 由此,能够抑制杂光。 0014 在本应用例的光扫描仪中,优选上述光学部包括第3光反射降低部,该第3光反射 降低部被设置在上述光透过部的与设有上述第1光反射降低部的表面相反一侧的表面,并 降低光反射。 0015 由此,能够抑制杂光。 说 明 书CN 103969827 A 2/14页 5 。
12、0016 在本应用例的光扫描仪中,优选上述基部具有贯通孔,透过了上述光学部的光的 至少一部分通过上述贯通孔。 0017 由此,能够抑制由于透过了光透过部的光照射基部而引起的基部的发热。通过抑 制基部的发热,能够抑制光扫描仪的热应变,可维持光扫描仪的光扫描特性。 0018 在本应用例的光扫描仪中,优选上述光透过部被设置成覆盖上述贯通孔的一侧的 开口。 0019 由此,光扫描仪的构成成为简单的构成。 0020 在本应用例的光扫描仪中,优选上述光透过部被设置在上述贯通孔内。 0021 由此,能够实现光扫描仪的小型化。 0022 在本应用例的光扫描仪中,优选在上述贯通孔的轴向的中途形成有阶梯部, 00。
13、23 上述光透过部与上述阶梯部抵接。 0024 由此,能够准确地控制光反射层的配置。 0025 在本应用例的光扫描仪中,优选上述光透过部被设置成与上述轴部在上述第1光 反射降低部的厚度方向分离,并且从上述厚度方向观察时与上述轴部的至少一部分重叠。 0026 由此,即使增大光反射层的板面的面积,也能够实现光扫描仪的小型化。 0027 本应用例的图像显示装置的特征在于,包括能够绕第1轴摆动的可动部、和将上 述可动部支承为能够绕上述第1轴摆动的轴部, 0028 上述可动部包括与上述轴部连接的基部、被上述基部支承的具有透光性的光透过 部、和设于上述光透过部并降低光反射的第1光反射降低部。 0029 由。
14、此,可获得能够显示较高对比度的图像的图像显示装置。 0030 本应用例的头戴式显示器的特征在于,是具备佩戴于观察者的头部的框架、和设 于上述框架的光扫描仪的头戴式显示器, 0031 上述光扫描仪具备:基部;轴部,其将上述基部支承为能够绕第1轴摆动;以及光 学部,其包括被上述基部支承并具有透光性的光透过部以及设置在上述光透过部上并降低 光反射的第1光反射降低部,光入射至上述第1光反射降低部。 0032 由此,可获得能够显示较高对比度的图像的头戴式显示器。 0033 本应用例的光扫描仪的制造方法的特征在于,具有:准备具有板状的基部以及向 上述基部的一面侧突出的突出部的基板、和在一面侧形成有凸部的透。
15、明基板,使上述基板 与上述透明基板重叠,将上述突出部与上述凸部接合的接合工序;对上述基部进行图案化, 来形成支承上述突出部的基部以及与上述基部连接的轴部的图案化工序;通过留下上述凸 部地对上述透明基板进行薄壁化,来形成光透过部的薄壁化工序;以及对上述光透过部形 成使光反射降低的光反射降低部的光反射降低部形成工序。 0034 由此,能够精确地制造可降低反射光的亮度来提高通过反射光的扫描而描绘的图 像的对比度的光扫描仪。 0035 在本应用例的光扫描仪的制造方法中,优选具有在上述薄壁化工序之前对上述基 板与上述透明基板的缝隙填充密封材料的填充工序, 0036 在上述薄壁化工序中,通过湿式蚀刻来进行。
16、上述透明基板的薄壁化。 0037 由此,能够防止蚀刻液对基板的损伤,并且能够精确地进行透明基板的薄壁化。 0038 本应用例的光扫描仪的特征在于,具备:基部;轴部,其将上述基部支承为能够绕 说 明 书CN 103969827 A 3/14页 6 第1轴摆动;以及光学部,其包括被上述基部支承并具有透光性的第1光学部以及设置在上 述第1光学部上并具有比上述第1光学部的透光率高的透光率的第2光学部,光入射至上 述第2光学部。 0039 由此,可获得能够将反射光的亮度来提高通过反射光的扫描而描绘的图像的对比 度的光扫描仪。 附图说明 0040 图1是表示本发明的图像显示装置的第1实施方式的简要结构图。。
17、 0041 图2是图1所示的图像显示装置所具备的光扫描仪的俯视图。 0042 图3是图2中的AA线剖视图。 0043 图4是图2所示的光扫描仪所具有的电压施加单元的框图。 0044 图5是表示图4所示的第1电压产生部以及第2电压产生部中的产生电压的一个 例子的图。 0045 图6是本发明的第2实施方式所涉及的图像显示装置所具备的光扫描仪的俯视 图。 0046 图7是图6中的BB线剖视图。 0047 图8是本发明的第3实施方式所涉及的图像显示装置所具备的光扫描仪的俯视 图。 0048 图9是图8中的CC线剖视图。 0049 图10是说明本发明的光扫描仪的制造方法的剖视图。 0050 图11是说明。
18、本发明的光扫描仪的制造方法的剖视图。 0051 图12是说明本发明的光扫描仪的制造方法的剖视图。 0052 图13是说明本发明的光扫描仪的制造方法的剖视图。 0053 图14是表示应用了本发明的图像显示装置的平视显示器(head up display)的 立体图。 0054 图15是表示本发明的头戴式显示器的立体图。 具体实施方式 0055 以下,参照附图,对光扫描仪、图像显示装置、头戴式显示器以及光扫描仪的制造 方法的优选实施方式进行说明。 0056 1.图像显示装置 0057 0058 图1是表示本发明的图像显示装置的第1实施方式的简要结构图,图2是图1所 示的图像显示装置所具备的光扫描仪。
19、的俯视图,图3是图2中的AA线剖视图,图4是图 2所示的光扫描仪所具有的电压施加单元的框图,图5是表示图4所示的第1电压产生部以 及第2电压产生部中的产生电压的一个例子的图。其中,以下为了便于说明,将图3中的上 侧称为“上”,将下侧称为“下”。 0059 图1所示的图像显示装置1是通过在屏幕、墙面等对象物10对描绘用激光LL进 行二维扫描来显示图像的装置。 说 明 书CN 103969827 A 4/14页 7 0060 如图1以及图4所示,图像显示装置1具有射出描绘用激光LL的描绘用光源单元 2、对描绘用激光LL进行扫描的光扫描仪(本发明的光扫描仪)4、使被光扫描仪4扫描的描 绘用激光LL反。
20、射的反射镜11、和对描绘用光源单元2以及光扫描仪4的工作进行控制的控 制部6。其中,反射镜11只要根据需要设置即可,也可以省略。 0061 描绘用光源单元 0062 如图1所示,描绘用光源单元2具备红色、绿色、蓝色各色的激光光源(光源部) 21R、21G、21B、与激光光源21R、21G、21B对应设置的准直透镜22R、22G、22B以及二向色镜 23R、23G、23B。 0063 激光光源21R、21G、21B分别具有未图示的光源和驱动电路。而且,激光光源21R射 出红色的激光RR,激光光源21G射出绿色的激光GG,激光光源21B射出蓝色的激光BB。激 光RR、GG、BB分别与从控制部6发送。
21、的驱动信号对应地被射出,并通过准直透镜22R、22G、 22B成为平行光或者大致平行光。作为激光光源21R、21G、21B,可使用例如端面发光半导体 激光器、面发光半导体激光器等半导体激光器。通过使用半导体激光器,能够实现激光光源 21R、21G、21B的小型化。 0064 仿照这样的激光光源21R、21G、21B的配置,配置有二向色镜23R、二向色镜23B、二 向色镜23G。二向色镜23R具有反射激光RR的特性。二向色镜23B具有反射激光BB并且 使激光RR透过的特性。二向色镜23G具有反射激光GG并且使激光RR、BB透过的特性。通 过这些二向色镜23R、23G、23B来合成各色的激光RR、。
22、GG、BB而成为描绘用激光LL。 0065 光扫描仪 0066 光扫描仪4具有从描绘用光源单元2对描绘用激光LL进行二维扫描的功能。如 图2以及图3所示,光扫描仪4具备结构体40、永磁铁46、线圈47、磁芯48、和电压施加部 49。另外,结构体40具有可动部41、一对第1轴部421、422、框体部43、一对第2轴部441、 442、和支承部45。 0067 这些中的可动部41、第1轴部421、422构成以第1轴部421、422为轴绕第1轴J1 摆动(往复转动)的第1振动系统。另外,可动部41、第1轴部421、422、框体部43、第2轴 部441、442以及永磁铁46构成绕第2轴J2摆动(往复转。
23、动)的第2振动系统。另外,永磁 铁46、线圈47、磁芯48以及电压施加部49构成驱动前述的第1振动系统以及第2振动系 统的驱动单元。 0068 可动部41具有基部411、设于基部411的光透过部412、和设于光透过部412的第 1光反射降低部413。对这样的可动部41入射描绘用激光LL,入射的描绘用激光LL的一 部分被第1光反射降低部413的表面(光反射面413a)反射,其他的描绘用激光LL透过(通 过)光透过部412以及基部411,或者被光透过部412吸收。 0069 基部411呈环状,在中央部形成有贯通孔411a。基部411具有支承光透过部412 的功能。贯通孔411a是透过了光透过部41。
24、2的描绘用激光LL通过的孔。优选贯通孔411a 在能够维持基部411的机械强度的情况下尽量大。换言之,只要能够维持基部411的机械 强度即可,优选将基部411薄壁化。通过具有这样的贯通孔411a,能够抑制由于透过了光透 过部412的描绘用激光LL照射到基部411而引起的基部411发热。通过抑制基部411发 热,能够抑制光扫描仪4的热应变,可维持光扫描仪4的光扫描特性。 0070 此外,作为基部411的构成,并不限定为本实施方式的构成,例如,基部411的一部 说 明 书CN 103969827 A 5/14页 8 分也可以缺欠。即,贯通孔411a也可以在基部411的侧面的一部分开放。由此,由于能。
25、够 进一步减小基部411的上表面的面积,所以能够更有效地抑制基部411的上表面的描绘用 激光LL的反射。 0071 在这样的基部411的上表面侧(描绘用激光LL入射一侧)以覆盖贯通孔411a的上 部开口的方式设有光透过部(第1光学部)412。通过使光透过部412成为这样的配置,光扫 描仪4的构成成为简单的构成。光透过部412呈板状,其上表面由平坦面构成。光透过部 412相对描绘用激光LL具有较高的光透过性。 0072 另外,在光透过部412的上表面设有降低光反射的第1光反射降低部(第2光学部) 413,在下表面设有降低光反射的第3光反射降低部414。由此,由于从描绘用光源单元2射 出的描绘用激。
26、光LL只有一点点被光反射面413a反射,所以显示于对象物10的图像的亮度 被抑制。而且,能够显示与亮度被抑制对应地提高了对比度的图像。 0073 特别是通过设置第3光反射降低部414,能够获得更优异的图像显示特性。具体而 言,由于光透过部412的下表面与光反射面413a接近且平行,所以被光透过部412的下表 面反射的描绘用激光LL和被光反射面413a反射的描绘用激光LL的光轴稍微偏离且平行。 因此,若描绘用激光LL被光透过部412的下表面反射,则导致由被光反射面413a反射的描 绘用激光LL的描绘的本来的图像、和由被光透过部412的下表面反射的描绘用激光LL描 绘的图像错移重叠而显示(产生所谓。
27、的重影),有可能引起轮廓模糊等图像质量的降低。因 此,通过在光透过部412的下表面设置第3光反射降低部414来抑制重影的产生,可获得更 优异的图像显示特性。 0074 由光透过部412、第1光反射降低部413以及第3光反射降低部414构成的光学部 415的透光率(描绘用激光LL的透过率)越高越优选。具体而言,优选是92以上,更优选 是99以上。由此,能够在描绘用激光LL透过光学部415时,抑制被光学部415吸收的描 绘用激光LL的量,可抑制光学部415发热(升温)。通过抑制光学部415发热,能够抑制光 扫描仪4的热应变,可维持光扫描仪4的光扫描特性。另外,比光透过部412的透光率高地 设定第1。
28、光反射降低部413的透光率。由此,由于从描绘用光源单元2射出的描绘用激光 LL只有一点点被光反射面413a反射,所以显示于对象物10的图像的亮度被抑制。而且,能 够显示与亮度被抑制对应地提高了对比度的图像。 0075 另外,光学部415的光反射率(描绘用激光LL的反射率)只要不是0则越低越优 选。具体而言,优选小于4,更优选小于1。由此,由于从描绘用光源单元2射出的描绘 用激光LL只有一点点被光反射面413a反射,所以显示于对象物10的图像的亮度被抑制。 而且,能够显示与亮度被抑制对应地提高了对比度的图像。 0076 此处,光学部415的透光率以及光反射率有时因光透过部412、第1、第3光反射。
29、降 低部413、414的材料而具有波长依存性。该情况下,优选在激光RR、GG、BB全部的光中光反 射率为92以上,透光率小于4,但也可以在激光RR、GG、BB的至少一个光中,光反射率为 92以上,透光率小于4。 0077 作为光透过部412的构成材料,只要相对描绘用激光LL具有较高的透光性即可, 不特别限定,但实际上优选使用无色透明的材料。作为无色透明的材料,例如可举出石英玻 璃、派热克斯(Pyrex)玻璃(“派热克斯”为注册商标)、TEMPAX玻璃等玻璃材料、或水晶等。 并且,在它们中也优选使用具有与基部411的构成材料的热膨胀系数更接近的热膨胀系数 说 明 书CN 103969827 A 。
30、6/14页 9 的材料。 0078 作为光透过部412的厚度,并未特别限定,但只要能够维持光透过部412所需要的 机械强度,则优选尽量薄。具体而言,优选为30m以上200m以下左右。由此,能够在描 绘用激光LL通过光透过部412时,抑制被光透过部412吸收的描绘用激光LL的量,可抑制 光透过部412发热。通过抑制光透过部412发热,能够抑制光扫描仪4的热应变,可维持光 扫描仪4的光扫描特性。 0079 作为第1、第3光反射降低部413、414,只要能够降低反射即可,不特别限定,例如 可使用公知的各种防反射膜(AR涂层)。即,第1光反射降低部413可由例如交替层叠多个高 折射率层和低折射率层而成。
31、的电介质多层膜构成。作为构成上述高折射率层的材料,只要 是能够获得第1光反射降低部413所需的光学特性的材料即可,不特别限定,可列举Ti 2 O、 Ta 2 O 5 、氧化铌等。另一方面,作为构成低折射率层的材料,只要是能够获得第1光反射降低 部413所需的光学特性的材料即可,不特别限定,可列举例如MgF 2 、SiO 2 等。 0080 以上,对可动部41进行了说明。在本实施方式中,基部411以及光透过部412在 俯视时分别呈圆形,但基部411以及光透过部412的俯视形状并不局限于此,例如也可以是 椭圆形、三角形、四边形等多边形。 0081 框体部43呈框状,被设置成包围可动部41的基部41。
32、1。换言之,可动部41的基 部411被设置在呈框状的框体部43的内侧。可动部41的基部411经由一对第1轴部421、 422被支承在框体部43。另外,框体部43经由一对第2轴部441、442被支承在支承部45。 0082 另外,框体部43的沿着第1轴J1的方向上的长度比沿着第2轴J2的方向上的长 度长。即,在将沿着第1轴J1的方向上的框体部43的长度设为a、将沿着第2轴J2的方向 上的框体部43的长度设为b时,满足ab的关系。由此,能够在确保第1轴部421、422 所需的长度的同时抑制沿着第2轴J2的方向上的光扫描仪4的长度。 0083 另外,框体部43在俯视时呈沿着由基部411以及一对第1轴。
33、部421、422构成的结 构体的外形的形状。由此,能够允许由可动部41、一对第1轴部421、422构成的第1振动系 统的振动、即可动部41绕第1轴J1的摆动,并且实现框体部43的小型化。此外,只要框体 部43的形状是框状即可,并不限定为图示的形状。 0084 第1轴部421、422以及第2轴部441、442分别能够弹性变形。而且,第1轴部421、 422以能够使可动部41绕第1轴J1摆动的方式将可动部41和框体部43连结。另外,第2 轴部441、442以能够使框体部43绕与第1轴J1正交的第2轴J2摆动的方式将框体部43 与支承部45连结。 0085 第1轴部421、422被配置成隔着可动部4。
34、1的基部411相互对置。另外,第1轴部 421、422分别呈现向沿着第1轴J1的方向延伸的长条形状。而且,第1轴部421、422分别 一端部与基部411连接,另一端部与框体部43连接。另外,第1轴部421、422分别被配置 成中心轴与第1轴J1一致。这样的第1轴部421、422分别伴随着可动部41绕第1轴J1 的摆动而扭转变形。 0086 第2轴部441、442被配置成隔着框体部43相互对置。另外,第2轴部441、442分 别呈现向沿着第2轴J2的方向延伸的长条形状。而且,第2轴部441、442分别一端部与框 体部43连接,另一端部与支承部45连接。另外,第2轴部441、442分别被配置成中心。
35、轴与 第2轴J2一致。这样的第2轴部441、442伴随着框体部43绕第2轴J2的摆动而扭转变 说 明 书CN 103969827 A 7/14页 10 形。 0087 这样,通过使可动部41能够绕第1轴J1摆动,并且使框体部43能够绕第2轴J2 摆动,由此可使可动部41(光反射面413a)绕相互正交的第1、第2轴J1、J2这两个轴摆动。 0088 此外,第1轴部421、422以及第2轴部441、442的形状分别并不限定于前述的形 状,例如也可以在中途至少1处具有屈曲或者弯曲的部分、分支的部分。另外,也可以将各 轴部421、422、441、442分割为2根轴部。 0089 以上,对结构体40进行。
36、了说明。在本实施方式中,俯视时在结构体40的位于光反 射面413a的下侧以及外侧的区域,换言之,在透过第1光反射降低部413、光透过部412并 通过了贯通孔411a的描绘用激光LL以及照射到光反射面413a的周围的描绘用激光LL可 照射的区域设有防反射膜(反射降低部)5。具体而言,在基部411、第1轴部421、422、框体 部43、第2轴部441、442、支承部45的各上表面,并且在光透过部412的下表面设有防反射 膜5。防反射膜5具有使入射至结构体40的位于光反射面413a的下侧以及外侧的区域的 描绘用激光LL的反射率降低(优选为零)的功能。由此,由于能够防止不要的描绘用激光LL 成为杂光,。
37、所以可获得优异的光扫描特性。此外,防反射膜5还可以设置于基部411的内外 周面、框体部43的内外周面以及支承部45的内周面,该情况下会进一步提高上述效果。 0090 此外,也可以代替防反射膜5而进行粗面化处理、黑色处理等。据此,也能够获得 与防反射膜5相同的效果。 0091 另外,在结构体40与线圈47之间(光透过部412的与设有第1光反射降低部413 的表面相反侧)设有被支承在基座71的第2光反射降低部7。第2光反射降低部7具有使 透过了光学部415的描绘用激光LL的反射率降低(优选为零)的功能。由于第2光反射降 低部7被配置成与可动部41(光透过部412)、基部411和框体部43的缝隙以及。
38、框体部43 和支承部45的缝隙分别对置,所以能够防止透过了光学部415的不要的描绘用激光LL、通 过了上述缝隙的不要的描绘用激光LL成为杂光,可获得优异的光扫描特性。第2光反射降 低部7可成为与前述的第1光反射降低部413相同的构成(防反射膜)。此外,只要第2光 反射降低部7能够降低反射率即可,也可以是对基座71的表面进行了粗面化处理、黑色处 理等的构成。 0092 基部411、第1轴部421、422、框体部43、第2轴部441、442以及支承部45一体形 成。在本实施方式中,基部411、第1轴部421、422、框体部43、第2轴部441、442以及支承部 45通过对以第一Si层(器件层)、S。
39、iO 2 层(衬垫层(box layer)、第二Si层(处理层(handle layer)的顺序层叠而成的SOI基板进行蚀刻而形成。由此,能够使第1振动系统以及第2 振动系统的振动特性优异。另外,由于SOI基板可通过蚀刻进行微细的加工,所以通过使用 SOI基板来形成基部411、第1轴部421、422、框体部43、第2轴部441、442以及支承部45, 能够使它们的尺寸精度优异,另外,能够实现光扫描仪4的小型化。 0093 基部411、第1轴部421、422以及第2轴部441、442分别由SOI基板的第一Si层 构成。由此,能够使第1轴部421、422以及第2轴部441、442的弹性优异。另外,。
40、能够在基 部411绕第1轴J1转动时防止与框体部43接触。另外,框体部43以及支承部45分别由 层叠体构成,该层叠体由SOI基板的第一Si层、SiO 2 层以及第二Si层构成。由此,能够使 框体部43以及支承部45的刚性优异。另外,框体部43的SiO 2 层以及第二Si层除了作为 提高框体部43的刚性的加强筋的功能,还具有防止可动部41与永磁铁46接触的功能。 说 明 书CN 103969827 A 10 8/14页 11 0094 永磁铁46与前述的框体部43的下表面接合。作为永磁铁46与框体部43的接合 方法并未特别限定,可采用例如使用了粘合剂的接合方法。永磁铁46俯视下在相对于第1、 第。
41、2轴J1、J2倾斜的方向被磁化。 0095 在本实施方式中,永磁铁46呈现沿相对于第1、第2轴J1、J2两个轴倾斜的方向 延伸的长条形状(棒状)。而且,永磁铁46在该长边方向被磁化。即,永磁铁46以将一端部 作为S极、将另一端部作为N极的方式被磁化。另外,永磁铁46被设置成俯视时以第1轴 J1与第2轴J2的交点为中心对称。 0096 永磁铁46的磁化的方向(延伸方向)相对于第2轴J2的倾斜角并未特别限定, 但优选是30以上60以下,更优选是45以上60以下,进而优选是45。通过这样设 置永磁铁46,能够顺畅且可靠地使可动部41(光反射面413a)绕第2轴J2摆动。 0097 作为这样的永磁铁4。
42、6,能够适当地使用例如钕磁铁、铁氧体磁铁、钐钴磁铁、铝镍 钴磁铁、粘结磁铁等。这样的永磁铁46是对硬磁性体进行了磁化的永磁铁,例如通过将磁 化前的硬磁性体设置在框体部43之后再进行磁化而形成。这是因为若将已经进行了磁化 的永磁铁46设置于框体部43,则存在因外部或其它部件的磁场的影响而不能将永磁铁46 设置在所希望的位置的情况。 0098 在永磁铁46的正下面设有线圈47。由此,能够使从线圈47产生的磁场高效地作 用于永磁铁46。由此,能够实现光扫描仪4的节约电力化以及小型化。线圈47被设置成卷 绕于磁芯48。由此,能够使由线圈47产生的磁场高效地作用于永磁铁46。此外,磁芯48 也可以省略。。
43、 0099 这样的线圈47与电压施加部49电连接。而且,通过由电压施加部49对线圈47 施加电压,从线圈47产生具有与第1、第2轴J1、J2正交的磁通的磁场。 0100 电压施加部49如图4所示,具备产生用于使可动部41绕第1轴J1转动的第1电 压V1的第1电压产生部491、产生用于使可动部41绕第2轴J2转动的第2电压V2的第2 电压产生部492、以及使第1电压V1与第2电压V2叠加的电压叠加部493,将通过电压叠 加部493叠加后的电压施加给线圈47。 0101 第1电压产生部491如图5(a)所示,产生以周期T1周期性变化的第1电压V1 (主扫描用电压)。第1电压V1呈现如正弦波那样的波。
44、形。优选第1电压V1的频率(1 T1)例如是1040kHz。在本实施方式中,第1电压V1的频率被设定成与由可动部41、一 对轴部421、422构成的第1振动系统的扭转共振频率(f1)相等。由此,能够增大可动部41 绕第1轴J1的转动角。 0102 另一方面,第2电压产生部492如图5(b)所示,产生以与周期T1不同的周期T2 周期性变化的第2电压V2(副扫描用电压)。第2电压V2呈现如锯齿波那样的波形。第2 电压V2的频率(1T2)只要与第1电压V1的频率(1T1)不同即可,优选例如是30 120Hz(60Hz左右)。在本实施方式中,第2电压V2的频率被调整为成为与由可动部41、一 对第1轴部。
45、421、422、框体部43、一对第2轴部441、442以及永磁铁46构成的第2振动系 统的扭转共振频率(共振频率)不同的频率。 0103 优选这样的第2电压V2的频率小于第1电压V1的频率。由此,能够更可靠地且 更顺畅地使可动部41以第1电压V1的频率绕第1轴J1摆动,并且以第2电压V2的频率 绕第2轴J2摆动。 说 明 书CN 103969827 A 11 9/14页 12 0104 另外,在将第1振动系统的扭转共振频率设为f1Hz、将第2振动系统的扭转共 振频率设为f2Hz时,优选f1与f2满足f2f1的关系,更优选满足10f2f1的关系。 由此,能够更顺畅地使可动部41以第1电压V1的频。
46、率绕第1轴J1转动,并且以第2电压 V2的频率绕第2轴J2转动。与此相对,在f1f2的情况下,有可能发生因第2电压V2的 频率引起的第1振动系统的振动。 0105 这样的第1电压产生部491以及第2电压产生部492分别与控制部6连接,基于 来自该控制部6的信号进行驱动。电压叠加部493与这样的第1电压产生部491以及第2 电压产生部492连接。 0106 电压叠加部493具备用于对线圈47施加电压的加法器493a。加法器493a从第1 电压产生部491接受第1电压V1,并且从第2电压产生部492接受第2电压V2,将这些电 压叠加而施加给线圈47。 0107 接下来,对光扫描仪4的驱动方法进行说。
47、明。其中,第1电压V1的频率被设定为 与第1振动系统的扭转共振频率相等,第2电压V2的频率被设定为与第2振动系统的扭转 共振频率不同的值且比第1电压V1的频率小(例如,第1电压V1的频率被设定成18kHz,第 2电压V2的频率被设定成60Hz)。 0108 例如,利用电压叠加部493将图5(a)所示的第1电压V1和图5(b)所示的第2 电压V2叠加,并将叠加后的电压施加给线圈47。于是,通过第1电压V1,交替地切换将永 磁铁46的一端部(N极)吸引至线圈47并且使永磁铁46的另一端部(S极)与线圈47分离 的磁场(将该磁场称为“磁场A1”)、和使永磁铁46的一端部(N极)与线圈47分离并且将永。
48、 磁铁46的另一端部(S极)吸引至线圈47的磁场(将该磁场称为“磁场A2”)。 0109 通过这样交替地切换磁场A1和磁场A2,在框体部43中激发具有绕第1轴J1的扭 转振动成分的振动,伴随着该振动,使第1轴部421、422扭转变形,并且可动部41以第1电 压V1的频率绕第1轴J1摆动。其中,由于第1电压V1的频率与第1振动系统的扭转共振 频率相等,所以通过共振振动,能够使可动部41大幅摆动。 0110 另一方面,通过第2电压V2,交替地切换将永磁铁46的一端部(N极)吸引至线圈 47并且使永磁铁46的另一端部(S极)与线圈47分离的磁场(将该磁场称为“磁场B1”)、和 使永磁铁46的一端部(。
49、N极)与线圈47分离并且将永磁铁46的另一端部(S极)吸引至线 圈47的磁场(将该磁场称为“磁场B2”)。 0111 通过这样交替地切换磁场B1和磁场B2,使第2轴部441、442扭转变形,并且框体 部43与可动部41一起以第2电压V2的频率绕第2轴J2摆动。其中,由于如前所述,与第 1电压V1的频率相比极低地设定第2电压V2的频率,比第1振动系统的扭转共振频率低 地设计第2振动系统的扭转共振频率,所以能够防止可动部41以第2电压V2的频率绕第 1轴J1转动。 0112 这样,在光扫描仪4中,通过将第1电压V1与第2电压V2叠加后的电压施加给线 圈47,能够使可动部41以第1电压V1的频率绕第1轴J1转动,并且以第2电压的V2的频 率绕第2轴J2。