一种离子束水平聚焦装置的冷却机构.pdf

一种离子束水平聚焦装置的冷却机构，离子束水平聚焦装置主要用于低能大束流离子注入环节中的离子水平聚焦，其在使用时产生的热量需要该机构来冷却。该装置包括透镜磁芯(1)，铜管(2)，直通接头(3)；其特征在于，其中用铜管(2)作水冷管路具有良好的导热性能，铜管具有较好的防锈能力，确保该机构不污染去离子水系统。本机构整体结构上紧凑，便于加工实现；用铜管走冷却水相对其他方案冷却效果较好，同时不污染去离子水系统。

权利要求书1.  一种离子束水平聚焦装置的冷却机构，离子束水平聚焦装置主要用于低能大束流离子注入环节中的离子水平聚焦，其在使用时产生的热量需要该机构来冷却。该装置包括透镜磁芯(1)，铜管(2)，直通接头(3)。2.  权利要求1的离子束水平聚焦的装置，其中磁芯(1)开孔尺寸公差需严格确定以保证与铜管有一定的间隙，磁芯(1)与铜管(2)之间涂覆高质量的导热脂。3.  权利要求1的离子束水平聚焦的装置，其中磁芯(1)的一侧有20mm深的豁口以便安装铜管。

说明书一种离子束水平聚焦装置的冷却机构
技术领域
本发明涉及一种半导体器件制造控制系统，尤其涉及一种离子束水平聚焦装置的冷却机构，离子注入机的水冷系统是去离子水系统，其中每个冷却环节要严格的防锈防止污染去离子水。
背景技术
现有半导体集成电路制造技术中，随着半导体集成电路技术的发展，集成度越来越高，电路规模越来越大，电路中单元器件尺寸越来越小，对各半导体工艺设备提出了更高的要求。随着芯片生产工艺发展对低能大束流的离子注入设备需求旺盛，45nm低能大束流离子注入机在IC工艺中应用非常广泛，已成为离子注入关键工艺设备。
水平聚焦装置和垂直聚焦透镜分别调节分析后束流的水平和垂直聚焦状态，提高分析后束流的传输效率，并更好地适应后续光路的传输，是低能大束流离子注入机必不可少的关键装置，其中磁铁的冷却是水平聚焦装置必不可少的环节，在离子注入机的高压环境中，冷却水需要极高的水阻值以防止高压击穿，一般采用去离子水系统，因此冷却水系统的每一个环节都要有极好的防锈能力防止带入离子影响水阻值。铁芯用DT4材质极易生锈，本机构就是在这样的背景下产生的。
发明内容
本发明公开了一种离子束水平聚焦装置的冷却机构，该机构可有良好的水冷却效果，同时可以保证不污染去离子水系统。本发明通过以下方案实现：
该装置包括透镜磁芯(1)，铜管(2)，直通接头(3)。
该装置主要优点是采用铜管水冷管道，冷却效果好同时不影响去离子水系统。
附图说明
图1是本发明的总体结构示意图。
图2是本发明的实施图。
具体实施方式
下面结合附图的具体实施例对本发明作进一步介绍，应该理解，这些描述都是说明性的，本发明不限于此。本发明的范围仅由所附权利要求的范围所限定。
摘要附图为本装置的总体结构示意图，磁芯(1)内开两个长孔，一段开深20mm豁口，详见图(1)；磁芯内孔需要严格控制尺寸保证与铜管有0.05mm到0.1mm的间隙，这样方面安装，同时冷却效果也较好。具体实施时，可将磁芯磁芯(1)切成两块半芯轴，两半芯轴通过销定位，通过螺钉固定在一起，磁芯(1)与铜管(2)之间涂覆高质量的导热脂，详见图2，这样可方面铜管的安装及导热脂的涂覆。
本发明专利的特定实施例已对本发明专利的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言，在不背离本发明专利精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，都构成对本发明专利的侵犯，将承担相应的法律责任。