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1、(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201410594580.1(22)申请日 2014.10.29H01L 27/32(2006.01)H01L 51/52(2006.01)(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人沈武林 李延钊 崔剑(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司 11243代理人许静 黄灿(54) 发明名称显示基板及其显示装置、制作方法(57) 摘要本发明提供一种显示基板及其OLED显示装置、制作方法。该显示基板，包括多个位于基板上的像素单元，所述显示基板还包括：滤波功能单元，与像素单元对应设。
2、置，所述滤波功能单元包括至少三个微腔结构，且沿垂直所述基板的方向，三个所述微腔结构的腔长不同，不同腔长的所述微腔结构只能透过特定波长的光，所述像素单元的同类子像素单元对应的所述微腔结构的腔长相同。本发明无需采用有机彩膜制成显示器，因此解决现有技术OLED显示器存在材料费用高等的问题。(51)Int.Cl.(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书2页 说明书7页 附图2页(10)申请公布号 CN 104409468 A(43)申请公布日 2015.03.11CN 104409468 A1/2页21.一种显示基板，包括多个位于基板上的像素单元，其特征在于，所述显示基板还包。
3、括：滤波功能单元，与像素单元对应设置，所述滤波功能单元包括至少三个微腔结构，且沿垂直所述基板的方向，三个所述微腔结构的腔长不同，不同腔长的所述微腔结构只能透过特定波长的光，所述像素单元的同类子像素单元对应的所述微腔结构的腔长相同。2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：用于发出白光的发光单元，所述白光沿第一方向出射；反射结构，设置于所述发光单元的出光相反侧，所述反射结构能够将与第一方向相反方向的光朝第一方向反射。3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述微腔结构设置于所述发光单元的出光侧，三个不同腔长的所述微腔结构包括不同厚度的隔离层，所述隔离层与所述发光单元之间。
4、具有间隔空间，所述微腔结构的腔长等于所述隔离层靠近所述发光单元的一侧表面到所述反射结构之间的距离。4.如权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，所述微腔结构的腔长与所透过光的波长具有对应关系，满足法布里-珀罗Fabry-Perot谐振方程。5.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述隔离层包括Al材料层、SiOx材料层或间隔设置的Al材料层和SiOx材料层。6.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元包括阴极、阳极和设置于所述阴极与所述阳极之间的有机发光功能层。7.如权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述阴极较所述阳极设置于所述有机发光功能层远离所述微腔结构的一侧，。
5、且所述阴极形成为所述反射结构。8.如权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括用于驱动所述发光单元发光的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括从所述基板依次朝所述发光单元方向排列的栅极、绝缘层、半导体层、源/漏极和保护层。9.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，三个不同腔长的所述微腔结构分别与像素单元的蓝色像素子单元、红色像素子单元和绿色像素子单元相对应。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的显示基板。11.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在基板上形成构成滤波功能单元的图形；其中，所述滤波功能单元与像素单元对应设置，包括至少三个的微腔结构，且沿垂直。
6、所述基板的方向，所述微腔结构的腔长不同，不同腔长的所述微腔结构只能透过特定波长的光，所述像素单元的同类子像素单元对应的所述微腔结构的腔长相同。12.如权利要求11所述的制备方法，其特征在于，在形成所述滤波功能单元的图形的基础上形成构成发光单元的图形；所述发光单元用于发出白光；形成构成所述发光单元的图形的步骤包括依次形成阳极、有机发光功能层和阴极的步骤。13.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括在构成所述滤波功能单元的图形之前，在基板上形成用于驱动所述发光单元发光的薄膜晶体管的步骤。14.如权利要求11所述的制备方法，其特征在于，形成构成滤波功能单元的图形的步权 利 要 。
7、求 书CN 104409468 A2/2页3骤包括：对应三个不同腔长的所述微腔结构形成不同厚度的隔离层的步骤，其中第一个微腔结构的所述隔离层包括三层Al材料层和二层SiOx材料层，其中Al材料层和SiOx材料层间隔设置；第二个微腔结构的所述隔离层包括二层、Al材料层和一层SiOx材料层，其中Al材料层和SiOx材料层间隔设置；第三个微腔结构的所述隔离层包括一层Al材料层。15.如权利要求14所述的制备方法，其特征在于，形在不同厚度的所述隔离层的步骤包括：将第一个微腔结构所对应隔离层的结构沉积于整个所述滤波功能单元的对应区域；将光刻胶涂覆在所形成的所述隔离层上，并进一步将第三个微腔结构所对应的光。
8、刻胶全部灰化，将第二个微腔结构所对应的光刻胶灰化二分之一的高度；对第三个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层进行刻蚀，并进一步对第三个微腔结构所对应所述隔离层的SiOx材料层进行刻蚀，同时将第二个微腔结构所对应的光刻胶刻蚀掉，第一个微腔结构所对应的光刻胶刻蚀掉厚度的一部分；将第三个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层刻蚀掉，同时将第二个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层刻蚀掉；将第三个微腔结构和第二个微腔结构所对应所述隔离层的SiOx材料层刻蚀掉；剥离第一个微腔结构上的光刻胶。权 利 要 求 书CN 104409468 A1/7页4显示基板及其显示装置、 制作方法技术领域0001 本发明涉及。
9、显示技术领域，尤其是指一种阵列基板及其显示装置、制作方法。背景技术0002 基于OLED显示器的结构简单、优质动态画面等优点，OLED显示器正逐渐向量产化迈进，在显示领域里受到越来越多的平板显示器厂商的关注，已成为显示器产业的关注的重点。0003 目前，有机发光二极管显示器是通过在阵列基板上沉积有机彩膜的结构方式实现彩色图案显示，然而采用有机彩膜制作显示器存在材料费用高、制程工艺多、设备昂贵、精细化困难、颗粒较多等缺点。发明内容0004 鉴于此，本发明技术方案的目的是提供一种阵列基板及其显示装置、制作方法，无需采用有机彩膜制成显示器，因此解决现有技术OLED显示器存在材料费用高等的问题。000。
10、5 本发明提供一种显示基板，包括多个位于基板上的像素单元，其中所述显示基板还包括：0006 滤波功能单元，与像素单元对应设置，所述滤波功能单元包括至少三个微腔结构，且沿垂直所述基板的方向，三个所述微腔结构的腔长不同，不同腔长的所述微腔结构只能透过特定波长的光，所述像素单元的同类子像素单元对应的所述微腔结构的腔长相同。0007 优选地，上述所述的显示基板，所述显示基板还包括：0008 用于发出白光的发光单元，所述白光沿第一方向出射；0009 反射结构，设置于所述发光单元的出光相反侧，所述反射结构能够将与第一方向相反方向的光朝第一方向反射。0010 优选地，上述所述的显示基板，所述微腔结构设置于所。
11、述发光单元的出光侧，三个不同腔长的所述微腔结构包括不同厚度的隔离层，所述隔离层与所述发光单元之间具有间隔空间，所述微腔结构的腔长等于所述隔离层靠近所述发光单元的一侧表面到所述反射结构之间的距离。0011 优选地，上述所述的显示基板，所述微腔结构的腔长与所透过光的波长具有对应关系，满足法布里-珀罗Fabry-Perot谐振方程。0012 优选地，上述所述的显示基板，所述隔离层包括Al材料层、SiOx材料层或间隔设置的Al材料层和SiOx材料层。0013 优选地，上述所述的显示基板，所述发光单元包括阴极、阳极和设置于所述阴极与所述阳极之间的有机发光功能层。0014 优选地，上述所述的显示基板，所述。
12、阴极较所述阳极设置于所述有机发光功能层远离所述微腔结构的一侧，且所述阴极形成为所述反射结构。0015 优选地，上述所述的显示基板，所述显示基板还包括用于驱动所述发光单元发光说 明 书CN 104409468 A2/7页5的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括从所述基板依次朝所述发光单元方向排列的栅极、绝缘层、半导体层、源/漏极和保护层。0016 优选地，上述所述的显示基板，三个不同腔长的所述微腔结构分别与像素单元的蓝色像素子单元、红色像素子单元和绿色像素子单元相对应。0017 本发明还提供一种显示装置，包括如上一项所述的显示基板。0018 本发明还提供一种显示基板的制备方法，包括：0019 在基板上。
13、形成构成滤波功能单元的图形；0020 其中，所述滤波功能单元与像素单元对应设置，包括至少三个的微腔结构，且沿垂直所述基板的方向，所述微腔结构的腔长不同，不同腔长的所述微腔结构只能透过特定波长的光，所述像素单元的同类子像素单元对应的所述微腔结构的腔长相同。0021 优选地，上述所述的制备方法，在形成所述滤波功能单元的图形的基础上形成构成发光单元的图形；所述发光单元用于发出白光；0022 形成构成所述发光单元的图形的步骤包括依次形成阳极、有机发光功能层和阴极的步骤。0023 优选地，上述所述的制备方法，所述制备方法还包括在构成所述滤波功能单元的图形之前，在基板上形成用于驱动所述发光单元发光的薄膜晶。
14、体管的步骤。0024 优选地，上述所述的制备方法，形成构成滤波功能单元的图形的步骤包括：对应三个不同腔长的所述微腔结构形成不同厚度的隔离层的步骤，其中第一个微腔结构的所述隔离层包括三层Al材料层和二层SiOx材料层，其中Al材料层和SiOx材料层间隔设置；第二个微腔结构的所述隔离层包括二层、Al材料层和一层SiOx材料层，其中Al材料层和SiOx材料层间隔设置；第三个微腔结构的所述隔离层包括一层Al材料层。0025 优选地，上述所述的制备方法，形在不同厚度的所述隔离层的步骤包括：0026 将第一个微腔结构所对应隔离层的结构沉积于整个所述滤波功能单元的对应区域；0027 将光刻胶涂覆在所形成的所。
15、述隔离层上，并进一步将第三个微腔结构所对应的光刻胶全部灰化，将第二个微腔结构所对应的光刻胶灰化二分之一的高度；0028 对第三个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层进行刻蚀，并进一步对第三个微腔结构所对应所述隔离层的SiOx材料层进行刻蚀，同时将第二个微腔结构所对应的光刻胶刻蚀掉，第一个微腔结构所对应的光刻胶刻蚀掉厚度的一部分；0029 将第三个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层刻蚀掉，同时将第二个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层刻蚀掉；0030 将第三个微腔结构和第二个微腔结构所对应所述隔离层的SiOx材料层刻蚀掉；0031 剥离第一个微腔结构上的光刻胶。0032 本发明具体实施例上述。
16、技术方案中的至少一个具有以下有益效果：0033 通过制作滤波功能单元，利用滤波功能单元的微腔结构的腔长与光波长之间的对应关系，使得一个微腔结构只有一种颜色的光透过，将白色光转换为有颜色光，从而实现显示器的RGB颜色显示。采用本发明实施例所显示基板，无需制作有机彩膜即能够实现彩色图像显示，因此不仅可以制作高分辨率的显示器，而且可以减少显示器制作时的工艺步骤，达到降低生产成本的目的。说 明 书CN 104409468 A3/7页6附图说明0034 图1表示本发明具体实施例所述阵列基板的结构示意图；0035 图2表示所述滤波功能单元的结构示意图；0036 图3a至图3e为所述滤波功能单元中空间隔离层。
17、的制作工艺过程示意图。具体实施方式0037 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例对本发明进行详细描述。0038 本发明具体实施例所述显示基板，包括多个位于基板上的像素单元，其中所述显示基板还包括：0039 滤波功能单元，与像素单元对应设置，所述滤波功能单元包括至少三个微腔结构，且沿垂直所述基板的方向，所述微腔结构的腔长不同，不同腔长的所述微腔结构只能透过特定波长的光，所述像素单元的同类子像素单元对应的所述微腔结构的腔长相同。0040 具体的，像素单元的同类子像素单元是指所需要呈现相同颜色的子像素单元，如为蓝色像素子单元、红色像素子单元或绿色像素子单元。0041 。
18、所述显示基板通过制作滤波功能单元，利用滤波功能单元的微腔结构的腔长与光波长之间的对应关系，使得一个微腔结构只有一种颜色(特定波长)的光透过，将白色光转换为有颜色光，从而实现显示器的RGB颜色显示。采用本发明实施例所显示基板，无需制作有机彩膜即能够实现彩色图像显示，因此不仅可以制作高分辨率的显示器，而且可以减少显示器制作时的工艺步骤，达到降低生产成本的目的。0042 所述显示基板可以为一只具备上述滤波功能单元的基板，与包括薄膜晶体管的阵列基板组合构成为一显示装置；另外，所述显示基板也可以直接形成为包括薄膜晶体管的阵列基板。0043 本发明所述显示基板可以应用于利用发光单元所发出白光作为光源进行显。
19、示的显示装置中，也可以应用于利用自然光作为光源的显示装置中。当应用于利用发光单元所发出白光作为光源进行显示的显示装置中时，所述显示基板还包括：0044 用于发出白光的发光单元，所述白光沿第一方向出射；0045 反射结构，设置于所述发光单元的出光相反侧，所述反射结构能够将与第一方向相反方向的光朝第一方向反射。0046 具体地，所述微腔结构设置于所述发光单元的出光侧，三个不同腔长的所述微腔结构包括不同厚度的隔离层，所述隔离层与所述发光单元之间具有间隔空间，所述微腔结构的腔长等于所述隔离层靠近所述发光单元的一侧表面到所述反射结构之间的距离。0047 如图1为本发明具体实施例所述显示基板的结构示意图。。
20、参阅图1所示，本发明实施例所述显示基板包括：0048 基板1；0049 设置于基板1上、由下至上依次排列的栅极21、绝缘层22、半导体层23、保护层24、源/漏极层25和保护层26，该些层叠加组合为显示基板的薄膜晶体管；0050 设置于薄膜晶体管上的滤波功能单元，其中该滤波功能单元包括至少三个微腔结说 明 书CN 104409468 A4/7页7构；0051 设置于滤波功能单元上的有机发光二极管，包括阳极31、发光功能层32和阴极33，该有机发光二极管部分的结构为通常OLED显示器的构成，本领域技术人员可以理解，发光功能层32包括空穴传输层、发光层和电子传输层。0052 上述结构的显示基板，有。
21、机发光二极管部分用于发出白光，通过栅极21、绝缘层22、半导体层23、保护层24、源/漏极层25和保护层26叠加形成的薄膜晶体管控制发光二极管部分的电压和电流的输出，通过滤波功能单元部分使透过的白光形成R、G、B至少三种波长的光。0053 进一步，上述滤波功能单元中，还包括一空间隔离层42，如图2所示滤波功能单元的结构示意图，沿所述有机发光二极管所发出白光的方向，用于对应形成不同颜色光微腔结构中的空间隔离层42的厚度不同。参阅图2，形成蓝色光的微腔结构所对应空间隔离层的厚度为A1，形成绿色光的微腔结构所对应空间隔离层的厚度为A2，形成红色光的微腔结构所对应空间隔离层的厚度为A2，其中A1A2A。
22、3。0054 基于上述空间隔离层42的设置，微腔结构的腔长等于空间隔离层远离基板1的表面到阴极之间的距离，如图2所示，形成蓝色光微腔结构的腔长长度为L1，形成绿色光微腔结构的腔长长度为L2，形成红色光微腔结构的腔长长度为L3。0055 本领域技术人员所熟知的，红光的波长处于630nm-700nm之间，绿光的波长处于490nm至560nm之间，蓝光的波长处于450nm至490nm之间，本发明所述显示基板中，微腔结构的腔长与所形成的颜色光的波长成正比，也即L3L2L1。0056 具体地，所述微腔结构的腔长与光的波长之间的对应关系满足法布里-珀罗Fabry-Perot谐振方程。0057 根据法布里-。
23、珀罗Fabry-Perot谐振腔的原理，由两块平行、且具备高反射率的玻璃板相对构成的谐振腔，当入射光在谐振腔内的频率满足该谐振腔的共振条件时，透射频谱会出现很高的峰值，对应着很高的透射率，因此预定特性的谐振腔能够使相对应的波长光透过，而谐振腔的腔长影响光在腔内部的传输特性，因此法布里-珀罗Fabry-Perot谐振腔(对应本发明的微腔结构)的腔长与光的波长之间具有对应关系，所述微腔结构的腔长不同时，不同腔长的所述微腔结构只能透过特定波长的光。0058 法布里-珀罗Fabry-Perot谐振方程的具体公式为：0059 0060 其中：ni和di分别表示腔内各层薄膜的折射率和厚度，nidi表示腔内。
24、各层薄膜的总光学厚度，和表示两个反射镜即布拉格反射镜与阴极的反射相移，m为模式级数，为波长。0061 因此，根据以上公式，微腔结构的腔长与所透过光的波长成正比，所需要透过光的波长值越大，微腔结构的腔长值越大。0062 本发明实施例中，如图2所示，可以通过滤波功能单元中所述空间隔离层42的厚度调节微腔结构的腔长。结合图2，所述滤波功能单元的空间隔离层42包括Al材料层、SiOx材料层或间隔设置的Al材料层和SiOx材料层。其中，Al材料层起到光反射作用以及制作过程中的刻蚀阻挡作用，通过Al材料层使微腔结构内的光多次反射，具有一定振动频说 明 书CN 104409468 A5/7页8率；SiOx起。
25、到调节相间隔Al材料层之间距离的作用。0063 具体地，形成蓝色光微腔结构的空间隔离层从上至下依次形成有：Al材料层、SiOx材料层、Al材料层、SiOx材料层和Al材料层；形成绿色光微腔结构的空间隔离层从上至上依次形成有Al材料层、Si材料层和Al材料层，形成红色光微腔结构的空间隔离层只形成有Al材料层。也即蓝色光微腔结构和绿色光微腔结构分别由依次间隔设置的Al材料层和SiOx材料层构成。0064 通过上述各材料层的相互叠加，使微腔结构的腔长厚度与所需要透过光的波长对应，使微腔结构所对应的像素区只能够透过各自波段的光。0065 进一步地，本发明实施例中，滤波功能单元为薄膜晶体管的保护层26与。
26、有机发光二极管的阴极33之间的部分，其中阴极33由具有高反射率的材料制成，用于将有机发光二极管所发出的光朝滤波功能单元反射，形成为本发明所述显示基板的反射结构。0066 此外，上述结构显示基板的制作中，对于薄膜晶体管：0067 栅极21和源/漏极层25可以由Cu、Al、Mo、Nd、Ag或Ti等金属制成，或者由该些金属的合金材料制成；绝缘层22和保护层22由Si的氧化物、氮化物或氮氧化物制成；半导体层23可以由a-Si、p-Si或氧化物半导体制成，其中氧化物半导体可以由In、Ga、Zn、Sn、Tl等元素单一的氧化物或者氮氧化物制成，也可以由该几种元素任意组合的氧化物或者氮氧化物材料制成。0068。
27、 对于滤波功能单元的制作，可以采用Half Tone工艺，以下对本发明所述显示基板中滤波功能单元的制作过程进行说明。0069 结合图3a至图3c，制成滤波功能单元的步骤包括：0070 步骤一，将所述空间隔离层沉积于构成所述薄膜晶体管的图形上，并将光刻胶涂覆在上述步骤一所形成的所述空间隔离层上；0071 具体地，如图2所示，用于形成蓝色光的微腔结构(蓝色子像素)所对应空间隔离层的厚度最大，则将形成蓝色光的微腔结构所对应空间隔离层的材料沉积于构成薄膜晶体管形上；本实施例中，依次将Al材料层、SiOx材料层、Al材料层、SiOx材料层和Al材料层沉积于构成薄膜晶体管的保护层26上；0072 步骤二，。
28、结合图3b，进一步将所述红色子像素单元所对应的光刻胶全部灰化，将绿色子像素单元所对应的光刻胶灰化二分之一的高度；0073 步骤三，结合图3c，对红色子像素单元所对应所述空间隔离层的Al材料层进行湿刻，并进一步对红色子像素单元所对应所述空间隔离层的SiOx材料层进行干刻，同时将绿色子像素单元所对应的光刻胶刻蚀掉，蓝色子像素单元所对应的光刻胶刻蚀掉厚度的一部分；0074 步骤四，结合图3d，将红色子像素单元所对应所述空间隔离层的Al材料层刻蚀掉，同时将绿色子像素单元所对应所述空间隔离层的Al材料层刻蚀掉；其中该步骤采用干刻的方式；0075 步骤五，将红色子像素单元和绿色子像素单元所对应所述空间隔离。
29、层的SiOx材料层刻蚀掉；其中该步骤采用湿刻的方式。0076 步骤六，剥离蓝色子像素单元上的光刻胶，获得图3e所示结构。0077 经过上述的制作步骤，红色子像素单元、蓝色子像素单元和绿色子像素单元所对说 明 书CN 104409468 A6/7页9应的隔离功能层的厚度均不相同，其中红色子像素单元所对应空间隔离层的叠层最少，蓝色子像素单元所对应空间隔离层的叠层最多。0078 在制成上述的空间隔离层之后，在该空间隔离层上，沉积平坦化层41，如图1所示，形成薄膜晶体管与有机发光二极管之间的滤波功能单元。0079 对于有机发光二极管的制作，包括依次在平坦化层41上形成阳极31、发光功能层32和阴极33。
30、的步骤，其中所述阳极31由ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)等透明导电材料制成，阴极33由具有高反射率的材料制成。0080 本发明具体实施例上述结构的显示基板，通过在阵列背板上制作具有滤波功能的微腔结构替代传统的彩膜结构，无需制作有机彩膜，也可以实现彩色图像显示，不仅可以制作更高分辨率的显示器，而且可以达到减少工艺步骤，降低生产成本的目的。0081 本发明实施例的另一方面提供一种如上结构所述显示基板的制备方法，该制备方法包括：0082 在基板上形成构成薄膜晶体管的图形；0083 其中，所述滤波功能单元与像素单元对应设置，包括至少三个不同腔长的微腔结构，且沿垂直所述基板的方向，所述微腔结构的。
31、腔长不同，不同腔长的所述微腔结构只能透过特定波长的光，所述像素单元的同类子像素单元对应的所述微腔结构的腔长相同。0084 进一步地，所述制备方法还包括：0085 在形成所述滤波功能单元的图形的基础上形成构成发光单元的图形；所述发光单元用于发出白光；0086 形成构成所述发光单元的图形的步骤包括依次形成阳极、有机发光功能层和阴极的步骤。0087 所述制备方法还包括在构成所述滤波功能单元的图形之前，在基板上形成用于驱动所述发光单元发光的薄膜晶体管的步骤。0088 进一步地，形成构成滤波功能单元的图形的步骤包括：对应三个不同腔长的所述微腔结构形成不同厚度的隔离层的步骤，其中第一个微腔结构的所述隔离层。
32、包括三层Al材料层和二层SiOx材料层，其中Al材料层和SiOx材料层间隔设置；第二个微腔结构的所述隔离层包括二层、Al材料层和一层SiOx材料层，其中Al材料层和SiOx材料层间隔设置；第三个微腔结构的所述隔离层包括一层Al材料层。0089 其中形在不同厚度的所述隔离层的步骤包括：0090 将第一个微腔结构所对应隔离层的结构沉积于整个所述滤波功能单元的对应区域；0091 将光刻胶涂覆在所形成的所述隔离层上，并进一步将第三个微腔结构所对应的光刻胶全部灰化，将第二个微腔结构所对应的光刻胶灰化二分之一的高度；0092 对第三个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层进行刻蚀，并进一步对第三个微腔结构所。
33、对应所述隔离层的SiOx材料层进行刻蚀，同时将第二个微腔结构所对应的光刻胶刻蚀掉，第一个微腔结构所对应的光刻胶刻蚀掉厚度的一部分；0093 将第三个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层刻蚀掉，同时将第二个微腔结构所对应所述隔离层的Al材料层刻蚀掉；0094 将第三个微腔结构和第二个微腔结构所对应所述隔离层的SiOx材料层刻蚀掉；说 明 书CN 104409468 A7/7页100095 剥离第一个微腔结构上的光刻胶。0096 依据图2，本发明实施例中，形成蓝色光微腔结构的空间隔离层从上至下依次形成有：Al材料层、SiOx材料层、Al材料层、SiOx材料层和Al材料层；形成绿色光微腔结构的空间隔。
34、离层从上至上依次形成有Al材料层、Si材料层和Al材料层，形成红色光微腔结构的空间隔离层只形成有Al材料层。0097 具体地，参阅图3a至图3e，形成构成所述滤波功能单元上所述空间隔离层的步骤包括：0098 将蓝色像素子单元所对应所述空间隔离层的结构沉积于构成所述薄膜晶体管的图形上，其中蓝色像素子单元所对应所述空间隔离层包括间隔设置的Al材料层和SiOx材料层；0099 将光刻胶涂覆在所述空间隔离层上，并进一步将所述红色子像素单元所对应的光刻胶全部灰化，将绿色子像素单元所对应的光刻胶灰化二分之一的高度；0100 对红色子像素单元所对应所述空间隔离层的Al材料层进行湿刻，并进一步对红色子像素单元。
35、所对应所述空间隔离层的SiOx材料层进行干刻，同时将绿色子像素单元所对应的光刻胶刻蚀掉，蓝色子像素单元所对应的光刻胶刻蚀掉厚度的一部分；0101 将红色子像素单元所对应所述空间隔离层的Al材料层刻蚀掉，同时将绿色子像素单元所对应所述空间隔离层的Al材料层刻蚀掉；0102 将红色子像素单元和绿色子像素单元所对应所述空间隔离层的SiOx材料层刻蚀掉；0103 剥离蓝色子像素单元上的光刻胶。0104 进一步，形成构成所述滤波功能单元的图形的步骤还包括：0105 在形成所述空间隔离层的基础上，沉积平坦化层。0106 本发明具体实施例另一方面还提供一种具有上述结构显示基板的显示装置，所述显示装置可以为一有机发光二极管显示装置，也可以为一液晶显示装置，本领域技术人员应该能够理解具有该显示基板的发光二极管显示装置或液晶显示装置的结构，在此不再赘述。0107 本领域技术人员可以理解，本发明实施例的显示基板和显示装置，不仅能够应用于RGB像素的制作，还能够应用于RGBW像素的制作。0108 以上所述的是本发明的优选实施方式，应当指出对于本技术领域的普通人员来说，在不脱离本发明所述的原理前提下还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也在本发明的保护范围内。说 明 书CN 104409468 A10。