吸音隔声装置及光刻设备.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201310670312.9

申请日:

2013.12.10

公开号:

CN104698763A

公开日:

2015.06.10

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||著录事项变更 IPC(主分类):G03F 7/20变更事项:申请人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东新区张东路1525号|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20131210|||公开

IPC分类号:

G03F7/20

主分类号:

G03F7/20

申请人:

上海微电子装备有限公司

发明人:

钟亮; 王璟; 季采云

地址:

201203上海市浦东新区张东路1525号

优先权:

专利代理机构:

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237

代理人:

屈蘅; 李时云

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内容摘要

本发明提出了一种吸音隔声装置及光刻设备,采用中空板进行隔音,且对中空板内抽真空,降低空气密度可以获得极佳的隔声效果,并且吸声材料具有良好的吸声性能,能够进一步的起到隔音效果;进一步的,本发明提出的梯形结构可以增加中空板的吸声能力,将其应用在光刻设备内部,可以增加光刻设备内的总体吸声面积,降低混响噪声,梯形结构顶层的微穿孔可以扩展结构吸声频段和吸声能力,同时,提出的光刻设备采用上述吸音隔声装置,由于吸音隔声装置具有宽频隔声吸声能力,降低噪声对光刻设备整机动态性能的影响,保证了物镜系统的曝光精确度和调平调焦系统的准确性,进而提高了光刻工艺的精度。

权利要求书

权利要求书
1.  一种吸音隔声装置,用于消除噪声源产生的噪声,所述装置包括:
中空板,所述中空板内部中空,并将中空板内部抽成真空;
吸声材料,所述吸声材料粘附于所述中空板的表面。

2.  一种吸音隔声装置,其特征在于,包括:
中空板,所述中空板内部中空,并将中空板内部抽成真空;
梯形结构,粘附于所述中空板的表面;
吸声材料,粘附于所述梯形结构的表面。

3.  如权利要求2所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述梯形结构的厚度 小于1mm。

4.  如权利要求2所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述梯形结构上设有 若干微穿孔;所述吸声材料设置在所述梯形结构的内表面。

5.  如权利要求4所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述梯形结构顶层设 有若干微穿孔;所述顶层内表面黏附有吸声材料。

6.  如权利要求5所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述微穿孔的孔径小 于1mm。

7.  如权利要求6所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述微穿孔在所述梯 形结构顶层的穿孔率范围是1%~5%。

8.  如权利要求1或2所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述吸音隔声装 置还包括分叉结构,所述分叉结构设于所述中空板的外侧壁。

9.  如权利要求8所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述分叉结构为Y型 或者T型。

10.  如权利要求8所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述分叉结构表面 粘附有吸声材料。

11.  如权利要求1或2所述的吸音隔声装置,其特征在于,所述吸声材料 的材质为泡沫铝。

12.  一种光刻设备,内部设有如权利要求1至11中任意一种吸音隔声装置, 所述设备包括:
基础框架,所述基础框架采用吸音隔声装置组成的吸音隔声壁,设于所述 基础框架内部的掩膜台,设于所述基础框架内的减振器,与所述减振器相固定 的主基板,与所述主基板相固定的物镜,与所述主基板相固定的测量装置,设 于所述基础框架的工件台以及设于所述基础框架内部的吸音隔声装置,所述吸 音隔声装置位于所述物镜与所述掩膜台之间。

13.  如权利要求12所述的光刻设备,其特征在于,所述吸音隔声装置还位 于所述物镜与所述工件台之间。

14.  如权利要求12所述的光刻设备,其特征在于,所述光刻设备还包括透 光材料,所述透光材料位于所述物镜与所述掩膜台之间,以及所述物镜与所述 工件台之间。

15.  如权利要求14所述的光刻设备,其特征在于,所述掩膜台为磁悬浮式, 所述掩膜台分为掩膜台粗动台与掩膜台微动台,所述透光材料位于所述掩膜台 粗动台与掩膜台微动台之间。

16.  如权利要求14所述的光刻设备,其特征在于,所述工件台为磁悬浮式, 所述工件台分为工件台粗动台与工件台微动台,所述透光材料位于所述工件台 粗动台与工件台微动台之间。

17.  如权利要求14所述的光刻设备,其特征在于,所述透光材料为透光膜 或者透光玻璃。

18.  如权利要求14所述的光刻设备,其特征在于,所述透光材料为单层或 多层。

19.  如权利要求14所述的光刻设备,其特征在于,对所述透光材料施加张 拉预应力,以提高所述透光材料法向刚度。

说明书

说明书吸音隔声装置及光刻设备
技术领域
本发明涉及集成电路制造领域,尤其涉及一种吸音隔声装置及光刻设备。
背景技术
在集成电路(IC)的制造过程中,通常需要用到光刻设备。光刻设备是一 种将所需图案应用到硅片上的设备。
光刻设备可以将掩模的图案对应形成于硅片的表面,作为单层的电路图案。 具体的,由照明装置提供光线,光线经过掩模,并将掩模的图案经过物镜照射 至硅片的表面,并与硅片表面的化学物(例如光阻)进行反应,形成图案。
由于高精度和高分辨率作为光刻技术当前追求的目标,光刻设备的各部件之 间的相互定位需要十分精确,例如保持图案形成装置(例如掩模)的掩模台、 投影系统和承载硅片的工件台。除了掩模台和工件台的定位外,投影系统也面 临定位精准的需求。在当前光刻设备中的投影系统包括承载结构和光学元件, 承载结构例如是透镜座架(用于检测透射光的情形)或反射镜框架(用于检测 反射光的情形),光学元件例如是物镜等。
在光刻设备中,噪声会对光刻设备内部环境产生影响,例如影响物镜以及主 基板等。噪声主要包括环境噪声、电气噪声、掩模台以及工件台的运动噪声。 声噪载荷(Acoustics Load)定义为空气的压力随时间的变化作用在物镜和主基 板等内部环境上的效应。若想要提高光刻设备的光刻精度以及分辨率,就必须 将声噪载荷降低甚至消除。
那么如何对光刻设备内部环境进行降噪处理便成为本领域技术人员急需解 决的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种吸音隔声装置及光刻设备,能够降低光刻设备 内部环境的噪音。
为了实现上述目的,本发明提出了一种吸音隔声装置,用于消除噪声源产 生的噪声,所述装置包括:
中空板,所述中空板内部中空,并将中空板内部抽成真空;
吸声材料,所述吸声材料粘附于所述中空板的表面。
进一步的,本发明还提出了一种吸音隔声装置,包括:
中空板,所述中空板内部中空,并将中空板内部抽成真空;
梯形结构,粘附于所述中空板的表面;
吸声材料,粘附于所述梯形结构的表面。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述梯形结构的厚度小于1mm。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述梯形结构上设有若干微穿孔; 所述吸声材料设置在所述梯形结构的内表面。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述梯形结构顶层设有若干微穿孔; 所述顶层内表面黏附有吸声材料。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述微穿孔的孔径小于1mm。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述微穿孔在所述梯形结构顶层的 穿孔率范围是1%~5%。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述吸音隔声装置还包括分叉结构, 所述分叉结构设于所述中空板的外侧壁。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述分叉结构为Y型或者T型。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述分叉结构表面粘附有吸声材料。
进一步的,在所述的吸音隔声装置中,所述吸声材料的材质为泡沫铝。
进一步的,本发明还提出了一种光刻设备,内部设有如上文中任意一种吸 音隔声装置,所述设备包括:
基础框架,所述基础框架采用吸音隔声装置组成的吸音隔声壁,设于所述 基础框架内部的掩膜台,设于所述基础框架内的减振器,与所述减振器相固定 的主基板,与所述主基板相固定的物镜,与所述主基板相固定的测量装置,设 于所述基础框架的工件台以及设于所述基础框架内部的吸音隔声装置,所述吸 音隔声装置位于所述物镜与所述掩膜台之间。
进一步的,在所述的光刻设备中,所述吸音隔声装置还位于所述物镜与所 述工件台之间。
进一步的,在所述的光刻设备中,所述光刻设备还包括透光材料,所述透 光材料位于所述物镜与所述掩膜台之间,以及所述物镜与所述工件台之间。
进一步的,在所述的光刻设备中,所述掩膜台为磁悬浮式,所述掩膜台分 为掩膜台粗动台与掩膜台微动台,所述透光材料位于所述掩膜台粗动台与掩膜 台微动台之间。
进一步的,在所述的光刻设备中,所述工件台为磁悬浮式,所述工件台分 为工件台粗动台与工件台微动台,所述透光材料位于所述工件台粗动台与工件 台微动台之间。
进一步的,在所述的光刻设备中,所述透光材料为透光膜或者透光玻璃。
进一步的,在所述的光刻设备中,所述透光材料为单层或多层。
进一步的,在所述的光刻设备中,对所述透光材料施加张拉预应力,以提 高所述透光材料法向刚度。
与现有技术相比本发明的有益效果主要体现在:中空板比实心板隔声效果 好,重量轻,且对中空板内抽真空,降低空气密度后,可以获得极佳的隔声效 果,并且吸声材料具有良好的吸声性能,能够进一步的起到隔音效果。
进一步的,本发明提出的梯形结构可以增加中空板的吸声能力,将其应用 在光刻设备内部,可以增加光刻设备内的总体吸声面积,降低混响噪声,梯形 结构顶层的微穿孔可以扩展结构吸声频段和吸声能力,同时,提出的光刻设备 采用上述吸音隔声装置,由于吸音隔声装置具有宽频隔声吸声能力,降低噪声 对光刻设备整机动态性能的影响,保证了物镜系统的曝光精确度和调平调焦系 统的准确性,进而提高了光刻工艺的精度。
附图说明
图1为本发明实施例一中吸音隔声装置的结构示意图;
图2为本发明实施例二中吸音隔声装置的结构示意图;
图3为本发明实施例二中吸音隔声装置的俯视图;
图4为本发明实施例三中吸音隔声装置的结构示意图;
图5-图7为本发明实施例三中光刻设备内采用吸音隔声装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合示意图对本发明的吸音隔声装置及光刻设备进行更详细的描 述,其中表示了本发明的优选实施例,应该理解本领域技术人员可以修改在此 描述的本发明,而仍然实现本发明的有利效果。因此,下列描述应当被理解为 对于本领域技术人员的广泛知道,而并不作为对本发明的限制。
为了清楚,不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中,不详细描述公 知的功能和结构,因为它们会使本发明由于不必要的细节而混乱。应当认为在 任何实际实施例的开发中,必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标, 例如按照有关系统或有关商业的限制,由一个实施例改变为另一个实施例。另 外,应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的,但是对于本领域技术人 员来说仅仅是常规工作。
在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和 权利要求书,本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简 化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例 的目的。
实施例一
请参考图1,在本实施例中,提出了一种吸音隔声装置,用于消除噪声源产 生的噪声,所述装置包括:
中空板11,所述中空板11内部中空,并将所述中空板11内部抽成真空; 吸声材料12,所述吸声材料12粘附于所述中空板11的表面,在本实施例中, 所述吸声材料12为泡沫铝,泡沫铝具有良好的吸声性能,并可进行表面喷涂。
所述中空板11较实心板的隔声效果好,重量轻,将所述中空板11内抽真空, 降低空气密度后,可以获得较好的隔声效果,并且在所述中空板11的表面喷涂 泡沫铝之后能进一步的提高吸音性能,得到极佳的隔音效果。
实施例二
请参考图2,在本实施例中提出的吸音隔声装置相比于实施例一中的吸音隔 声装置多了梯形结构,所述吸音隔声装置包括:中空板21、吸声材料22以及梯 形结构23,其中所述中空板21和吸声材料22均与实施例一中的相同,具体请 参考实施例一,在此不再赘述。
在本实施例中,所述梯形结构23粘附于所述中空板21的表面,可以是一 个表面也可以是多个表面,优选的,梯形结构23粘附于所述中空板21相对的 两个表面,所述吸声材料22与所述梯形结构23紧贴;梯形结构23上可设置微 穿孔,优选的,所述梯形结构23顶层设有若干微穿孔24(请参考图2以及图3), 所述微穿孔24在所述梯形结构23顶层的穿孔率范围是1%~5%,例如是2%, 所述微穿孔24的孔径小于1mm,所述梯形结构23的厚度L小于1mm,需要指 出的是,所述梯形结构23顶层设有所述微穿孔24的内壁贴有吸附材料22,所 述梯形结构23的其他表面上贴有吸附材料22。
本实施例提出的吸音隔声装置带有梯形结构,所述梯形结构可以增加吸音 隔声装置的吸声能力,并且可以增加总体吸声面积,降低混响噪声,喷涂吸声 材料后,具有较强的吸声能力,梯形结构可以使声波多次反射,可以更快地衰 减声能;梯形结构顶层设有微穿孔,且在微穿孔板下端设置吸声材料,可以扩 展结构吸声频段和吸声能力,具有微穿孔的梯形结构具有吸声系数高、吸收频 带宽等优点,可以广泛应用于噪声控制的各个领域。
实施例三
请参考图4,在本实施例中,提出的吸音隔声装置还包括分叉结构,所述吸 音隔声装置包括:中空板31、吸声材料32以及梯形结构33,其中所述中空板 31、吸声材料32以及梯形结构33均与实施例二中的相同,具体请参考实施例 二,在此不再赘述。
其中,所述分叉结构35设于所述中空板31的侧壁,可以为一侧壁,也可 以为两侧壁,所述分叉结构35为Y型(如图4所示)或者T型,所述分叉结构 35的表面粘附有吸声材料32。
在中空板的侧壁增加分叉结构,能够使声波在分叉结构表面衍射扩散,并 被吸收,进一步加强装置的吸声隔声能力,可以很大程度的阻隔和吸收声波, 进一步的提高吸音效果。
在本实施例中,还提出了一种光刻设备,其内部设有如实施例一、实施例 二或者本实施例中提出的吸音隔声装置,请参考图5-图7,所述设备包括:
基础框架51,所述基础框架51采用吸音隔声装置组成的吸音隔声壁52, 可以采用如实施例一中的介绍到的,也可以采用如实施例二中介绍到的,在本 实施例中优选采用实施例二中介绍到的;设于所述基础框架51内部的掩膜台53, 所述掩膜台53可以为气吹浮动式,也可以为磁悬浮式;设于所述基础框架51 内的减振器57,与所述减振器57相固定的主基板55,与所述主基板55相固定 的物镜54,与所述主基板55相固定的测量装置56,设于所述基础框架51的工 件台58以及设于所述基础框架51内部的吸音隔声装置31,所述吸音隔声装置 31位于所述物镜54与所述掩膜台53之间。
在本实施例中,位于所述物镜54与所述掩膜台53之间的吸音隔声装置31 优选为本实施例中的吸音隔声装置31,位于所述物镜54与所述工件台58之间 的所述吸音隔声装置31优选为实施例二中的吸音隔声装置,即不包括分叉结构, 由于所述物镜54会透过光线至所述工件台58上,因此不应该在此处增加分叉 结构干扰光路,优选的,可以在此处增加透光材料59,方便光线透过,并能够 起到隔音作用,如图5所示。
同样的,可以将本实施例中提出的光刻设备中位于所述物镜54与所述工件 台58之间的所述吸音隔声装置全部替换成透光材料59,其他不做改动,如图6 所示,同样能够起到相同的技术效果。
若在本实施例提出的光刻设备中,所述掩膜台分为掩膜台粗动台53与掩膜 台微动台53’,且为磁悬浮式,还可以添加所述透光材料59位于所述掩膜台粗 动53台与掩膜台微动台53’之间,同样的,所述工件台分为工件台粗动台58 与工件台微动台58’,还可以增加所述透光材料59位于所述工件台粗动台58 与工件台微动台之间58’,一方面不会干扰光路,另一方面能够进一步的提高 吸音效果,如图7所示。
其中,所述透光材料59为透光膜或者透光玻璃,其可以为单层或者为多层, 并且可以对所述透光材料59施加张拉预应力,以提高所述透光材料59的法向 刚度。
综上,在本发明实施例提供的吸音隔声装置及光刻设备中,中空板比实心 板隔声效果好,重量轻,且对中空板内抽真空,降低空气密度后,可以获得极 佳的隔声效果,并且吸声材料具有良好的吸声性能,能够进一步的起到隔音效 果;进一步的,本发明提出的梯形结构可以增加中空板的吸声能力,将其应用 在光刻设备内部,可以增加光刻设备内的总体吸声面积,降低混响噪声,梯形 结构顶层的微穿孔可以扩展结构吸声频段和吸声能力,同时,提出的光刻设备 采用上述吸音隔声装置,由于吸音隔声装置具有宽频隔声吸声能力,降低噪声 对光刻设备整机动态性能的影响,保证了物镜系统的曝光精确度和调平调焦系 统的准确性,进而提高了光刻工艺的精度。
上述仅为本发明的优选实施例而已,并不对本发明起到任何限制作用。任 何所属技术领域的技术人员,在不脱离本发明的技术方案的范围内,对本发明 揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动,均属未脱离 本发明的技术方案的内容,仍属于本发明的保护范围之内。

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本发明提出了一种吸音隔声装置及光刻设备,采用中空板进行隔音,且对中空板内抽真空,降低空气密度可以获得极佳的隔声效果,并且吸声材料具有良好的吸声性能,能够进一步的起到隔音效果;进一步的,本发明提出的梯形结构可以增加中空板的吸声能力,将其应用在光刻设备内部,可以增加光刻设备内的总体吸声面积,降低混响噪声,梯形结构顶层的微穿孔可以扩展结构吸声频段和吸声能力,同时,提出的光刻设备采用上述吸音隔声装置,由于。

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