在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201410439926.0

申请日:

2014.09.01

公开号:

CN104178737A

公开日:

2014.12.03

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/32申请日:20140901|||公开

IPC分类号:

C23C14/32; C23C14/54

主分类号:

C23C14/32

申请人:

苏州安洁科技股份有限公司

发明人:

王春生

地址:

215159 江苏省苏州市吴中区光福镇福锦路8号

优先权:

专利代理机构:

北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350

代理人:

汤东凤

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内容摘要

本发明公开了在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其用于在第一金属材料的表面通过改变气体达到改变第一金属材料表面的颜色,膜层堆积方法包括以下步骤:在180度的温度下把第一金属材料放入镀膜机内,镀膜机内设置有第二金属材料,第二金属材料作为靶材,靶材在磁场以及氩Ar离子轰击的作用下离子化,第二金属材料的金属离子因扩散而沉积在第一金属材料的表面,从而使第一金属材料的表面产生一种带颜色的薄膜,薄膜附着在第一金属材料的表面,镀膜机的镀膜时间为50-65分钟。根据本发明方法实现的薄膜,具有膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐腐蚀性、产品表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性。

权利要求书

1.  一种在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积方法,其特征在于:其用于在第一金属材料的表面通过改变气体达到改变所述第一金属材料表面的颜色,所述膜层堆积方法包括以下步骤:
在180度的温度下把所述第一金属材料放入镀膜机内,所述镀膜机内设置有第二金属材料,所述第二金属材料作为靶材,所述靶材在磁场以及氩Ar离子轰击的作用下离子化,所述第二金属材料的金属离子因扩散而沉积在所述第一金属材料的表面,从而使所述第一金属材料的表面产生一种带颜色的薄膜,所述薄膜附着在所述第一金属材料的表面,所述镀膜机的镀膜时间为50-65分钟。

2.
  如权利要求1所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于:所述第二金属材料为铬Cr。

3.
  如权利要求1所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于:在将所述第一金属材料放入所述镀膜机内前,先将所述第一金属材料进行清洗作业。

4.
  如权利要求3所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于:清洗作业时,将所述第一金属材料放置于清洗槽内,使用清洗药水将所述第一金属材料表面残留物清洗。

5.
  如权利要求3所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于:将清洗后的若干所述第一金属材料挂上镀膜治具,并确保任何两个所述第一金属材料之间没有重叠。

6.
  如权利要求5所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于:将放置好的所述镀膜治具放入所述镀膜机的炉体内,使炉体旋转测试,并确保任何两个所述第一金属材料之间在旋转时不会相互碰撞。

7.
  如权利要求1所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于:所述第一金属材料的镀膜要求为:L,82.42;a,0.09;b, 0.42;DE94<1.0,其中,L值代表颜色的白黑,L值越高代表越白,越低代表越黑;a值代表颜色的红绿,a值越高代表越红,越低代表越绿;b值代表颜色的黄蓝,b值越高代表越黄,越低代表越蓝;DE94代表色宽容度方程;针对所述第一金属材料的镀膜要求,所述镀膜参数为镀膜温度:127℃,Ar:380sccm,N2:10sccm,C2H2:29sccm,偏压:100V,50%,中频:35A;启动所述镀膜机,所述镀膜机开始升温,升温至设定温度127℃后,开启偏压100V,中频35A,通入Ar380sccm,N210sccm,C2H229sccm,并持续5分钟,5分钟后镀膜结束。

8.
  如权利要求1所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于:所述镀膜机的镀膜时间为60分钟。

说明书

在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法
技术领域
本发明涉及膜层堆积方法,特别涉及一种在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积方法。
背景技术
能源、信息和生物科技被称为现代社会的三大支柱,而材料科学又是能源、信息和生物科技的基础。自上世纪30年代氟化镁(MgF2)增透膜层被发明以来,特别近20年来,由于材料科学与薄膜技术的结合,薄膜技术对材料新功能的不断需求,使光学薄膜材料的品种、应用范围以及使用数量惊人的速度增加。因此,镀膜技术的发展,时刻伴随并强有力的推动着。镀膜材料的发展和完善,薄膜材料与薄膜技术形成了密不可分的相辅相成关系。
目前,光学镀膜材料常用品种已达60余种,而且其品种、应用功能还在不断被开发。如在光学装置中一种非常重要的透明导电薄膜,除化合物膜品种(SnO2或SnO2+InO3)混合薄膜外,今年已发展道路金属膜系,当金、银、铜和铝的厚度为7-20um时,其对可见光的透射率为50%,而对红外光透射率小于10%,这种薄膜已成功地应用于阿波罗宇宙飞船的面板,拥有透过部分可见光,而反射几乎全部的红外光加以热控制。
从用途和用量看,近年来,由于人们生活质量的提高,使加膜眼镜片、冷光镜、和日常色彩装饰业的工业化进程加快,最常见的三种化物膜料MgF2、ZnS和SiO2的用量达出人预料的程度,救目前掌握情况来看,2005年国内MgF2消耗量达到14.5,SiO2达8t,而且有了供不应求的态势。可以预计大批量、低成本的镀膜材料的制备工艺将会有力的促进光学薄膜材料的品种、用途及生产规模的飞跃。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其通过一系列离子层层堆积,具有膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐腐蚀性、产品表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性。
本发明是这样实现的,一种在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其用于在第一金属材料的表面通过改变气体达到改变所述第一金属材料表面的颜色,所述膜层堆积方法包括以下步骤:
在180度的温度下把所述第一金属材料放入镀膜机内,所述镀膜机内设置有第二金属材料,所述第二金属材料作为靶材,所述靶材在磁场以及氩Ar离子轰击的作用下离子化,所述第二金属材料的金属离子因扩散而沉积在所述第一金属材料的表面,从而使所述第一金属材料的表面产生一种带颜色的薄膜,所述薄膜附着在所述第一金属材料的表面,所述镀膜机的镀膜时间为50-65分钟。
作为上述方案的进一步改进,所述第二金属材料为铬Cr。
作为上述方案的进一步改进,在将所述第一金属材料放入所述镀膜机内前,先将所述第一金属材料进行清洗作业。优选地,清洗作业时,将所述第一金属材料放置于清洗槽内,使用清洗药水将所述第一金属材料表面残留物清洗。
优选地,将清洗后的若干所述第一金属材料挂上镀膜治具,并确保任何两个所述第一金属材料之间没有重叠。进一步地,将放置好的所述镀膜治具放入所述镀膜机的炉体内,使炉体旋转测试,并确保任何两个所述第一金属材料之间在旋转时不会相互碰撞。
作为上述方案的进一步改进,所述第一金属材料的镀膜要求为:L,82.42;a,0.09;b,0.42;DE94<1.0,其中,L值代表颜色的白黑,L值越高代表越白,越低代表越黑;a值代表颜色的红绿,a值越高代表越红,越低代表越绿;b值代表颜色的黄蓝,b值越高代表越黄,越低代表越蓝;DE94代表色宽容度方程;针对所述第一金属材料的镀膜要求,所述镀膜参数为镀膜温度:127℃,Ar: 380sccm,N2:10sccm,C2H2:29sccm,偏压:100V,50%,中频:35A;启动所述镀膜机,所述镀膜机开始升温,升温至设定温度127℃后,开启偏压100V,中频35A,通入Ar380sccm,N210sccm,C2H229sccm,并持续5分钟,5分钟后镀膜结束。
作为上述方案的进一步改进,所述镀膜机的镀膜时间为60分钟。
本发明将金属材料置于镀膜机内进行加工,经过一系列离子与气体的反应以及离子层层堆积,使金属表面的颜色发生变化,金属膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐腐蚀性、产品表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性满足了当代人电子产品的需求。
本发明与现有技术相比具有下列优点:
1.表面附着力增强;
2.膜厚稳定性更强;
3.产品(指所述第一金属材料)表面光泽度高;
4.耐腐蚀性增强;
5.产品表面防指纹、耐脏污;
6.通过改变气体的流量以及气体的种类,可以改变产品表面颜色。
附图说明
图1为应用本发明较佳实施方式提供的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法的膜层堆积方式图。
图2为图1中金属表面薄膜的颜色值示意图。
图3为图1中金属表面薄膜的厚度与镀膜时间的关系曲线图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅 用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其用于在第一金属材料的表面通过改变气体达到改变所述第一金属材料表面的颜色。本发明根据离子扩散的机理来改变有机材料的表面组成,在一定的温度、时间下把金属材料放入镀膜机内,靶材在磁场以及Ar离子轰击的作用下离子化,金属离子因扩散而沉积在另一种金属材料表面,从而使金属材料表面产生一种带颜色以及附着力好的薄膜。
关于温度、时间是本案的关键,本发明在180度的温度下把所述第一金属材料放入镀膜机内,所述镀膜机内设置有第二金属材料,所述第二金属材料作为靶材,所述靶材在磁场以及氩Ar离子轰击的作用下离子化,所述第二金属材料的金属离子因扩散而沉积在所述第一金属材料的表面,从而使所述第一金属材料的表面产生一种带颜色的薄膜,所述薄膜附着在所述第一金属材料的表面,所述镀膜机的制程时间为一个小时。
如图1所示,从A-B-C-D整个膜层堆积方式,在靶材通电(负极),通入氩气,氩离子在靶材后方所放置磁铁磁场的作用下,氩离子撞击靶材后将Cr靶材(也就是说第二金属材料为铬Cr),产生Cr离子。然后再通入气体附着与Cr离子表面,产生CrC、Cr离子附着与产品表面。由于各个离子层的颜色不一样,通过各层颜色的叠加产生颜色的变化,从而达到所需的效果。在膜层叠加过程中,也需考虑到膜层的致密性,膜层致密性越好则后续的功能性越佳。
温度180度,时间1h并不是随便得到的,由于本产品即所述第一金属材料存在功能性要求,如膜厚、百格、色差、耐磨性、化学品等测试,因此,常规的其它温度与时间将无法满足所需要的功能性测试。温度:由于产品在高温下会存在放气现象,放气量会影响真空度从而影响最终产品的颜色。所以,当改变温度时,颜色将随之改变。时间:产品即所述第一金属材料的表面膜层厚度有严格管控,而影响膜层厚度的最主要因素就是时间。结合温度与时间的这些影响因素,设定温度180度、时间1h的条件,事实证明,经过测试,在温度 180度的条件下镀膜时间在50-65分钟时,膜厚均在所管控的范围。结合各种公差,建议镀膜时间60分钟最佳。
在实施时,所述在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法可以包括以下步骤:
1.产品进行清洗作业,将产品放置于清洗槽内,使用清洗药水将产品表面残留的油、蜡、脏污清洗。确保镀膜前产品表面不存在任何脏污,防止影响后续镀膜效果,避免脱膜、脏污、色差等现象的产生。
2.将清洗后的产品挂上镀膜治具,放置时避免产生指纹。确保产品与产品之间没有重叠。防止镀膜时重叠区域无法产生膜层或者产生色差。
3.将放置好的镀膜治具放入炉内,使炉体旋转测试,确保产品与产品之间在旋转时不会相互碰撞。
4.镀膜要求,如图2及图3所示,L:82.42,a:0.09,b:0.42,DE94<1.0,其中,L值代表颜色的白黑,L值越高代表越白,越低代表越黑;a值代表颜色的红绿,a值越高代表越红,越低代表越绿;b值代表颜色的黄蓝,b值越高代表越黄,越低代表越蓝;DE94代表色宽容度方程。根据此镀膜要求调定镀膜参数,温度:127℃,Ar:380sccm,N2:10sccm,C2H2:29sccm,偏压:100V,50%,中频:35A。启动镀膜机,镀膜机开始升温,升温至设定温度127℃后,开启,偏压100V,中频35A,通入Ar380sccm,N210sccm,C2H229sccm,并持续5分钟。
5.5分钟后,镀膜结束。将产品取出测量。
本发明将金属材料置于镀膜机内进行加工,经过一系列离子与气体的反应以及离子层层堆积,使金属表面的颜色发生变化,金属膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐腐蚀性、产品表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性满足了当代人电子产品的需求。
本发明与现有技术相比具有下列优点:
1.表面附着力增强;
2.膜厚稳定性更强;
3.产品(指所述第一金属材料)表面光泽度高;
4.耐腐蚀性增强;
5.产品表面防指纹、耐脏污;
6.通过改变气体的流量以及气体的种类,可以改变产品表面颜色。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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1、10申请公布号CN104178737A43申请公布日20141203CN104178737A21申请号201410439926022申请日20140901C23C14/32200601C23C14/5420060171申请人苏州安洁科技股份有限公司地址215159江苏省苏州市吴中区光福镇福锦路8号72发明人王春生74专利代理机构北京科亿知识产权代理事务所普通合伙11350代理人汤东凤54发明名称在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法57摘要本发明公开了在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其用于在第一金属材料的表面通过改变气体达到改变第一金属材料表面的颜色,膜层堆积方。

2、法包括以下步骤在180度的温度下把第一金属材料放入镀膜机内,镀膜机内设置有第二金属材料,第二金属材料作为靶材,靶材在磁场以及氩AR离子轰击的作用下离子化,第二金属材料的金属离子因扩散而沉积在第一金属材料的表面,从而使第一金属材料的表面产生一种带颜色的薄膜,薄膜附着在第一金属材料的表面,镀膜机的镀膜时间为5065分钟。根据本发明方法实现的薄膜,具有膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐腐蚀性、产品表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性。51INTCL权利要求书1页说明书4页附图3页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书4页附图3页10申请公布号CN104178737ACN1。

3、04178737A1/1页21一种在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积方法,其特征在于其用于在第一金属材料的表面通过改变气体达到改变所述第一金属材料表面的颜色,所述膜层堆积方法包括以下步骤在180度的温度下把所述第一金属材料放入镀膜机内,所述镀膜机内设置有第二金属材料,所述第二金属材料作为靶材,所述靶材在磁场以及氩AR离子轰击的作用下离子化,所述第二金属材料的金属离子因扩散而沉积在所述第一金属材料的表面,从而使所述第一金属材料的表面产生一种带颜色的薄膜,所述薄膜附着在所述第一金属材料的表面,所述镀膜机的镀膜时间为5065分钟。2如权利要求1所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层。

4、堆积的方法,其特征在于所述第二金属材料为铬CR。3如权利要求1所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于在将所述第一金属材料放入所述镀膜机内前,先将所述第一金属材料进行清洗作业。4如权利要求3所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于清洗作业时,将所述第一金属材料放置于清洗槽内,使用清洗药水将所述第一金属材料表面残留物清洗。5如权利要求3所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于将清洗后的若干所述第一金属材料挂上镀膜治具,并确保任何两个所述第一金属材料之间没有重叠。6如权利要求5所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜。

5、色的膜层堆积的方法,其特征在于将放置好的所述镀膜治具放入所述镀膜机的炉体内,使炉体旋转测试,并确保任何两个所述第一金属材料之间在旋转时不会相互碰撞。7如权利要求1所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于所述第一金属材料的镀膜要求为L,8242;A,009;B,042;DE9410,其中,L值代表颜色的白黑,L值越高代表越白,越低代表越黑;A值代表颜色的红绿,A值越高代表越红,越低代表越绿;B值代表颜色的黄蓝,B值越高代表越黄,越低代表越蓝;DE94代表色宽容度方程;针对所述第一金属材料的镀膜要求,所述镀膜参数为镀膜温度127,AR380SCCM,N210SCCM,C。

6、2H229SCCM,偏压100V,50,中频35A;启动所述镀膜机,所述镀膜机开始升温,升温至设定温度127后,开启偏压100V,中频35A,通入AR380SCCM,N210SCCM,C2H229SCCM,并持续5分钟,5分钟后镀膜结束。8如权利要求1所述的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其特征在于所述镀膜机的镀膜时间为60分钟。权利要求书CN104178737A1/4页3在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法技术领域0001本发明涉及膜层堆积方法,特别涉及一种在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积方法。背景技术0002能源、信息和生物科技被称为现代社会的。

7、三大支柱,而材料科学又是能源、信息和生物科技的基础。自上世纪30年代氟化镁MGF2增透膜层被发明以来,特别近20年来,由于材料科学与薄膜技术的结合,薄膜技术对材料新功能的不断需求,使光学薄膜材料的品种、应用范围以及使用数量惊人的速度增加。因此,镀膜技术的发展,时刻伴随并强有力的推动着。镀膜材料的发展和完善,薄膜材料与薄膜技术形成了密不可分的相辅相成关系。0003目前,光学镀膜材料常用品种已达60余种,而且其品种、应用功能还在不断被开发。如在光学装置中一种非常重要的透明导电薄膜,除化合物膜品种SNO2或SNO2INO3混合薄膜外,今年已发展道路金属膜系,当金、银、铜和铝的厚度为720UM时,其对。

8、可见光的透射率为50,而对红外光透射率小于10,这种薄膜已成功地应用于阿波罗宇宙飞船的面板,拥有透过部分可见光,而反射几乎全部的红外光加以热控制。0004从用途和用量看,近年来,由于人们生活质量的提高,使加膜眼镜片、冷光镜、和日常色彩装饰业的工业化进程加快,最常见的三种化物膜料MGF2、ZNS和SIO2的用量达出人预料的程度,救目前掌握情况来看,2005年国内MGF2消耗量达到145,SIO2达8T,而且有了供不应求的态势。可以预计大批量、低成本的镀膜材料的制备工艺将会有力的促进光学薄膜材料的品种、用途及生产规模的飞跃。发明内容0005有鉴于此,本发明提供一种在金属表面通过改变气体达到改变颜色。

9、的膜层堆积的方法,其通过一系列离子层层堆积,具有膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐腐蚀性、产品表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性。0006本发明是这样实现的,一种在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其用于在第一金属材料的表面通过改变气体达到改变所述第一金属材料表面的颜色,所述膜层堆积方法包括以下步骤0007在180度的温度下把所述第一金属材料放入镀膜机内,所述镀膜机内设置有第二金属材料,所述第二金属材料作为靶材,所述靶材在磁场以及氩AR离子轰击的作用下离子化,所述第二金属材料的金属离子因扩散而沉积在所述第一金属材料的表面,从而使所述第一金属材料的表面产生一种带颜色的薄膜,所述薄。

10、膜附着在所述第一金属材料的表面,所述镀膜机的镀膜时间为5065分钟。0008作为上述方案的进一步改进,所述第二金属材料为铬CR。0009作为上述方案的进一步改进,在将所述第一金属材料放入所述镀膜机内前,先将所述第一金属材料进行清洗作业。优选地,清洗作业时,将所述第一金属材料放置于清洗槽说明书CN104178737A2/4页4内,使用清洗药水将所述第一金属材料表面残留物清洗。0010优选地,将清洗后的若干所述第一金属材料挂上镀膜治具,并确保任何两个所述第一金属材料之间没有重叠。进一步地,将放置好的所述镀膜治具放入所述镀膜机的炉体内,使炉体旋转测试,并确保任何两个所述第一金属材料之间在旋转时不会相。

11、互碰撞。0011作为上述方案的进一步改进,所述第一金属材料的镀膜要求为L,8242;A,009;B,042;DE9410,其中,L值代表颜色的白黑,L值越高代表越白,越低代表越黑;A值代表颜色的红绿,A值越高代表越红,越低代表越绿;B值代表颜色的黄蓝,B值越高代表越黄,越低代表越蓝;DE94代表色宽容度方程;针对所述第一金属材料的镀膜要求,所述镀膜参数为镀膜温度127,AR380SCCM,N210SCCM,C2H229SCCM,偏压100V,50,中频35A;启动所述镀膜机,所述镀膜机开始升温,升温至设定温度127后,开启偏压100V,中频35A,通入AR380SCCM,N210SCCM,C2。

12、H229SCCM,并持续5分钟,5分钟后镀膜结束。0012作为上述方案的进一步改进,所述镀膜机的镀膜时间为60分钟。0013本发明将金属材料置于镀膜机内进行加工,经过一系列离子与气体的反应以及离子层层堆积,使金属表面的颜色发生变化,金属膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐腐蚀性、产品表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性满足了当代人电子产品的需求。0014本发明与现有技术相比具有下列优点00151表面附着力增强;00162膜厚稳定性更强;00173产品指所述第一金属材料表面光泽度高;00184耐腐蚀性增强;00195产品表面防指纹、耐脏污;00206通过改变气体的流量以及气体的种类,可以改变产品表面。

13、颜色。附图说明0021图1为应用本发明较佳实施方式提供的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法的膜层堆积方式图。0022图2为图1中金属表面薄膜的颜色值示意图。0023图3为图1中金属表面薄膜的厚度与镀膜时间的关系曲线图。具体实施方式0024为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。0025本发明的在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法,其用于在第一金属材料的表面通过改变气体达到改变所述第一金属材料表面的颜色。本发明根据离子扩散的机理来改变有机材。

14、料的表面组成,在一定的温度、时间下把金属材料放入镀膜机内,靶材在磁场以及AR离子轰击的作用下离子化,金属离子因扩散而沉积在另一种金属材料表面,从而使金属材料表面产生一种带颜色以及附着力好的薄膜。0026关于温度、时间是本案的关键,本发明在180度的温度下把所述第一金属材料放说明书CN104178737A3/4页5入镀膜机内,所述镀膜机内设置有第二金属材料,所述第二金属材料作为靶材,所述靶材在磁场以及氩AR离子轰击的作用下离子化,所述第二金属材料的金属离子因扩散而沉积在所述第一金属材料的表面,从而使所述第一金属材料的表面产生一种带颜色的薄膜,所述薄膜附着在所述第一金属材料的表面,所述镀膜机的制程。

15、时间为一个小时。0027如图1所示,从ABCD整个膜层堆积方式,在靶材通电负极,通入氩气,氩离子在靶材后方所放置磁铁磁场的作用下,氩离子撞击靶材后将CR靶材也就是说第二金属材料为铬CR,产生CR离子。然后再通入气体附着与CR离子表面,产生CRC、CR离子附着与产品表面。由于各个离子层的颜色不一样,通过各层颜色的叠加产生颜色的变化,从而达到所需的效果。在膜层叠加过程中,也需考虑到膜层的致密性,膜层致密性越好则后续的功能性越佳。0028温度180度,时间1H并不是随便得到的,由于本产品即所述第一金属材料存在功能性要求,如膜厚、百格、色差、耐磨性、化学品等测试,因此,常规的其它温度与时间将无法满足所。

16、需要的功能性测试。温度由于产品在高温下会存在放气现象,放气量会影响真空度从而影响最终产品的颜色。所以,当改变温度时,颜色将随之改变。时间产品即所述第一金属材料的表面膜层厚度有严格管控,而影响膜层厚度的最主要因素就是时间。结合温度与时间的这些影响因素,设定温度180度、时间1H的条件,事实证明,经过测试,在温度180度的条件下镀膜时间在5065分钟时,膜厚均在所管控的范围。结合各种公差,建议镀膜时间60分钟最佳。0029在实施时,所述在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法可以包括以下步骤00301产品进行清洗作业,将产品放置于清洗槽内,使用清洗药水将产品表面残留的油、蜡、脏污清洗。确。

17、保镀膜前产品表面不存在任何脏污,防止影响后续镀膜效果,避免脱膜、脏污、色差等现象的产生。00312将清洗后的产品挂上镀膜治具,放置时避免产生指纹。确保产品与产品之间没有重叠。防止镀膜时重叠区域无法产生膜层或者产生色差。00323将放置好的镀膜治具放入炉内,使炉体旋转测试,确保产品与产品之间在旋转时不会相互碰撞。00334镀膜要求,如图2及图3所示,L8242,A009,B042,DE9410,其中,L值代表颜色的白黑,L值越高代表越白,越低代表越黑;A值代表颜色的红绿,A值越高代表越红,越低代表越绿;B值代表颜色的黄蓝,B值越高代表越黄,越低代表越蓝;DE94代表色宽容度方程。根据此镀膜要求调。

18、定镀膜参数,温度127,AR380SCCM,N210SCCM,C2H229SCCM,偏压100V,50,中频35A。启动镀膜机,镀膜机开始升温,升温至设定温度127后,开启,偏压100V,中频35A,通入AR380SCCM,N210SCCM,C2H229SCCM,并持续5分钟。003455分钟后,镀膜结束。将产品取出测量。0035本发明将金属材料置于镀膜机内进行加工,经过一系列离子与气体的反应以及离子层层堆积,使金属表面的颜色发生变化,金属膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐腐蚀性、产品表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性满足了当代人电子产品的需求。0036本发明与现有技术相比具有下列优点00371表面附着力增强;说明书CN104178737A4/4页600382膜厚稳定性更强;00393产品指所述第一金属材料表面光泽度高;00404耐腐蚀性增强;00415产品表面防指纹、耐脏污;00426通过改变气体的流量以及气体的种类,可以改变产品表面颜色。0043以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。说明书CN104178737A1/3页7图1说明书附图CN104178737A2/3页8图2说明书附图CN104178737A3/3页9图3说明书附图CN104178737A。

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