绘图方法以及绘图装置.pdf

本发明只使用沿着DMD(50)的扫描方向的768列的微镜中的192列，且将该192列分割成5个区域(区域1～5)，顺次从区域1向区域5传送控制信号，同时从传送结束了的区域开始顺次进行微镜的复位，从而能够在使具有排列有多列根据所输入的控制信号调制入射光的微镜的空间光调制器件的曝光头，沿着曝光面在扫描方向上相对移动而进行曝光的曝光装置中，缩短空间光调制器件的更新时间。

1.  一种绘图方法，使具有配置有多列在每一列中配置有多个根据所输入的控制信号调制入射光的绘图器件的绘图器件列的空间光调制器件、且使受该空间光调制器件调制的光成像在绘图面上的绘图头，沿着上述绘图面向着给定的扫描方向相对移动从而进行绘图，其特征在于：
将上述多个绘图器件列以一个或多个绘图器件列为单位进行分割，顺次向该所分割的多个分割区域输出上述控制信号，从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制。

2.  如权利要求1所述的绘图方法，其特征在于：
仅向上述绘图器件列中的一部分的多个绘图器件列输出上述控制信号，同时将该一部分的多个绘图器件列分割成多个绘图器件列，顺次向该所分割的多个分割区域输出上述控制信号，从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制。

3.  如权利要求1或权利要求2所述的绘图方法，其特征在于：
上述空间光调制器件的上述分割区域的数目(d)的大小满足下面的公式：
d≥t/(t-u)
其中，t为向全体上述分割区域输入上述控制信号所需要的时间，u为上述一个分割区域中的绘图器件进行上述调制所必需的时间。

4.  如权利要求1至权利要求3中所述的任何一个绘图方法，其特征在于：
上述多个分割区域中的至少一个分割区域中所具有的上述绘图器件列的数目，和该至少一个分割区域之外的分割区域中所具有的上述绘图器件列的数目不同。

5.  如权利要求1至权利要求4中所述的任何一个绘图方法，其特征在于：
将上述空间光调制器件所绘制的绘图点，在每一上述分割区域中在上述扫描方向上以给定的间隔错开，而进行绘图。

6.  如权利要求5中所述的绘图方法，其特征在于：
根据上述绘图面的相对移动速度以及在上述每个分割区域中的上述错位，由表示在上述绘图面上所绘制的图像的图像数据，形成分别和上述绘图点相对应的绘图数据，根据该绘图数据形成上述控制信号。

7.  如权利要求5或权利要求6所述的绘图方法，其特征在于：
通过N重绘图对上述绘图面进行绘图，其中，N为大于或等于2的自然数。

8.  如权利要求7所述的绘图方法，其特征在于：
上述分割区域的数目和上述N重绘图的N的大小相同。

9.  如权利要求5至权利要求8中所述的任何一个绘图方法，其特征在于：
使上述空间光调制器件所使用的绘图器件所出射的绘图光在上述绘图面上的投影点的排列方向相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。

10.  如权利要求9所述的绘图方法，其特征在于：
将上述空间光调制器件设置成，使该空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。

11.  如权利要求9所述的绘图方法，其特征在于：
将上述空间光调制器件中的绘图器件排列成，使该空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。

12.  如权利要求1至权利要求11中所述的任何一个绘图方法，其特征在于：
根据上述绘图面的相对移动速度，调整向上述各分割区域的上述控制信号的输出时序。

13.  如权利要求12所述的绘图方法，其特征在于：
按照上述绘图面中所绘制的绘图点的所期望的配置，调整向上述各分割区域的上述控制信号的输出时序。

14.  如权利要求1至权利要求13中所述的任何一个绘图方法，其特征在于：
从上述扫描方向的下游的上述分割区域开始顺次输出上述控制信号。

15.  如权利要求1至权利要求14中所述的任何一个绘图方法，其特征在于：
根据上述绘图面的相对移动速度，生成向上述各个绘图器件所输出的控制信号。

16.  一种绘图装置，具有配置有多列的在一列上配置有多个根据所输入的控制信号调制入射光的绘图器件的绘图器件列的空间光调制器件，并将该空间光调制器件所调制的光成像在绘图面上，同时沿着上述绘图面向着给定的扫描方向相对移动的绘图头，其特征在于：
包括一控制单元，其顺次向将上述多个绘图器件列以一个或多个绘图器件列为单位而进行分割所得到的多个分割区域的每一个，输出上述控制信号，并从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制。

17.  如权利要求16所述的绘图装置，其特征在于：
上述控制单元，仅向上述绘图器件列中的一部分的多个绘图器件列输出上述控制信号，同时顺次向将上述多个绘图器件列以一个或多个绘图器件列为单位进行分割所得到的多个分割区域的每一个，输出上述控制信号，并从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制。

18.  如权利要求16或权利要求17所述的绘图装置，其特征在于：
上述空间光调制器件的上述分割区域的数目(d)的大小满足下面的公式：
d≥t/(t-u)
其中，t为向全体上述分割区域输入上述控制信号所需要的时间，u为上述一个分割区域中的绘图器件进行上述调制所必需的时间。

19.  如权利要求16至权利要求18中所述的任何一个绘图装置，其特征在于：
上述多个分割区域中的至少一个分割区域中所具有的上述绘图器件列的数目，和该至少一个分割区域之外的分割区域中所具有的上述绘图器件列的数目不同。

20.  如权利要求16至权利要求19中所述的任何一个绘图装置，其特征在于：
上述控制单元输出上述控制信号，使得由上述空间光调制器件所绘制的绘图点在每一上述分割区域中在上述扫描方向上以给定的间隔错开。

21.  如权利要求20中所述的绘图装置，其特征在于：
上述控制单元，根据上述绘图面的相对移动速度以及在上述每个分割区域中的上述错位，由表示在上述绘图面上所绘制的图像的图像数据，形成分别和上述绘图点相对应的绘图数据，根据该绘图数据形成上述控制信号。

22.  如权利要求20或权利要求21所述的绘图装置，其特征在于：
上述绘图头，通过N重绘图对上述绘图面进行绘图，其中，N为大于等于2的自然数。

23.  如权利要求22所述的绘图装置，其特征在于：
上述控制单元，使上述分割区域的数目和上述N重绘图的N的大小相同。

24.  如权利要求21至权利要求23中所述的任何一个绘图装置，其特征在于：
使上述空间光调制器件所使用的绘图器件所出射的绘图光在上述绘图面上的投影点的排列方向相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。

25.  如权利要求24所述的绘图装置，其特征在于：
将上述空间光调制器件设置成，使该空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。

26.  如权利要求24所述的绘图装置，其特征在于：
将上述空间光调制器件的绘图器件排列成，使该空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。

27.  如权利要求16至权利要求26中所述的任何一个绘图装置，其特征在于：
上述空间光调制器件，是将能够对应于上述控制信号而变更反射面的角度的多个微镜作为上述绘图器件而排列的微镜器件。

28.  如权利要求16至权利要求26中所述的任何一个绘图装置，其特征在于：
上述空间光调制器件，是将能够对应于上述控制信号而遮断透过光的多个液晶单元作为上述绘图器件而排列的液晶光闸阵列。

29.  如权利要求16至权利要求28中所述的任何一个绘图方法，其特征在于：
上述控制单元，根据上述绘图面的相对移动速度，调整向上述各分割区域的上述控制信号的输出时序。

30.  如权利要求29所述的绘图方法，其特征在于：
上述控制单元，按照上述绘图面中所绘制的绘图点的所期望的配置，调整向上述各分割区域的上述控制信号的输出时序。

31.  如权利要求16至权利要求30中所述的任何一个绘图装置，其特征在于：
上述控制单元，从上述扫描方向的下游的上述分割区域开始顺次输出上述控制信号。

32.  如权利要求16至权利要求31中所述的任何一个绘图装置，其特征在于：
上述控制单元，根据上述绘图面的相对移动速度生成向上述各个绘图器件所输出的控制信号。

绘图方法以及绘图装置
技术领域
本发明涉及一种使具有多列配置在一列上配置有多个根据所输入的控制信号调制入射光的绘图器件的绘图器件列所得到的空间光调制器件的绘图头，沿着绘图面向着给定的扫描方向相对移动从而进行绘图的方法以及装置。
背景技术
以前，作为绘图装置的一个例子，利用数字微镜器件(DMD)等，根据图像数据由被调制了的光束进行图像曝光的曝光装置已经被提案了多种。DMD是通过在硅等半导体基板上的存储单元(SRAM单元)中，将微小的微镜排列成L行×M列的2维状而构成的，对应于控制信号，通过存储单元中所积蓄的电荷来控制静电力，使微镜倾斜而使其反射面的角度变化。这样，通过使该DMD沿着曝光面向着一定的方向扫描来进行实际的曝光。
在该DMD中，能够在SRAM中写入有图像数据的状态下，通过复位各个微镜，按照SRAM中的数据的内容(“0”或“1”)使微镜向给定的角度(“ON”或“OFF”)倾斜，从而改变光的反射方向。
然而，为了完成所有的微镜的复位，必须进行向SRAM的数据的传送，以及传送之后的微镜的倾斜角度的变更，因此在完成复位之前必须要较长的时间。
与此相反，专利文献1中，公布了一种将空间光调制器(SML)分组区分，并且和不同的复位线相连接的视频显示系统。该视频显示系统中，一个复位组被加载了之后，在加载下一个复位组时能够使已经加载了的复位组开始显示视频。
【专利文献1】
特开平9-198008号公报
【专利文献2】
美国专利第6,493,867号说明书
然而，专利文献1中所述的方法，是应用在视频显示系统中的，而不是设想为应用在光刻等的绘图装置中的。
另外，例如在专利文献2中，提出了一种通过使感光材料相对DMD移动，而使得使相邻的微镜所反射的光束的照射范围部分重叠，从而实现锯齿较少的曝光的曝光方法。
然而，由于微镜的更新速度成为了瓶颈，使得提高扫描速度极为困难。另外，维持既有的扫描速度，而提高扫描方向的分辨率也是很困难的。
发明内容
本发明以上述事实为鉴，目的是提供一种能够缩短空间光调制器件的更新时间的扫描方法以及扫描装置。
本发明的另一个目的是提供一种保持扫描速度不变，而能够提高扫描方向的分辨率的扫描方法以及扫描装置。
本发明的一种绘图方法的特征在于，是一种使具有多列配置在一列上配置有多个根据所输入的控制信号调制入射光的绘图器件的绘图器件列所得到的空间光调制器件，且将该空间光调制器件所调制的光成像在绘图面上的绘图头，沿着绘图面向着给定的扫描方向相对移动从而进行绘图的方法，将上述多个绘图器件列每一个或多个绘图器件列而分割，顺次向该所分割的多个分割区域输出上述控制信号，从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制。
另外，上述绘图方法中，能够仅向绘图器件列中的一部分的多个绘图器件列输出上述控制信号，同时将该一部分的多个绘图器件列分割成多个绘图器件列，顺次向该所分割的多个分割区域输出控制信号，从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制。
另外，可以使空间光调制器件的上述分割区域的数目d地大小满足下面的公式：
d≥t/(t-u)
且t为向全体分割区域输入控制信号所需要的时间，u为一个分割区域中的绘图器件进行上述调制所必需的时间。
另外，可以使多个分割区域中的至少一个分割区域中所具有的绘图器件列的数目，和该至少一个分割区域之外的分割区域中所具有的绘图器件列的数目不同。
另外，可以将空间光调制器件所绘制的绘图点在上述扫描方向上每分割区域以给定的间隔错开而进行绘图。
另外，可以根据绘图面的相对移动速度以及在每个分割区域上的上述错位，在表示在上述绘图面上所绘制的图像的图像数据中，形成分别和绘图点相对应的绘图数据，根据该绘图数据形成控制信号。
另外，可以通过N重绘图(N为大于2的自然数)对绘图面进行绘图。
另外，最好使分割区域的数目和N重绘图的N的大小相同。
另外，可以使空间光调制器件所使用的绘图器件所出射的绘图光在绘图面上的投影点的排列方向相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。
另外，可以设置空间光调制器件而使该空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。
另外，可以使该空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度而排列空间光调制器件中的绘图器件。
另外，可以根据绘图面的相对移动速度调整向各个分割区域的控制信号的输出时序。
另外，可以按照绘图面中所绘制的绘图点的所期望的配置调整向各个区域的控制信号的输出时序。
另外，可以从给定的扫描方向的下游的分割区域开始顺次输出控制信号。
另外，可以根据绘图面的相对移动速度生成向各个绘图器件所输出的的控制信号。
本发明的绘图装置的特征在于，在这种包括具有多列配置在一列上配置有多个根据所输入的控制信号调制入射光的绘图器件的绘图器件列所得到的空间光调制器件，将该空间光调制器件所调制的光成像在绘图面上，同时沿着绘图面向着给定的扫描方向相对移动的绘图头的绘图装置中，包括顺次向将上述多个绘图器件列以一个或多个绘图器件列为单位进行分割所得到的多个分割区域输出上述控制信号，从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制的控制单元。
另外，上述绘图装置中，控制单元，能够仅向上述绘图器件列中的一部分的多个绘图器件列输出上述控制信号，同时顺次向将上述多个绘图器件列以一个或多个绘图器件列为单位进行分割所得到的多个分割区域输出上述控制信号，从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制。
另外，可以使空间光调制器件的分割区域的数目d的大小满足下面的公式：
d≥t/(t-u)
且t为向全体分割区域输入控制信号所需要的时间，u为一个分割区域中的绘图器件进行上述调制所必需的时间。
另外，可以使多个分割区域中的至少一个分割区域中所具有的绘图器件列的数目，和该至少一个分割区域之外的分割区域中所具有的绘图器件列的数目不同。
另外，可以使控制单元，将空间光调制器件所绘制的绘图点在上述扫描方向上每分割区域上以给定的间隔错开而进行绘图。
另外，可以使控制单元，根据绘图面的相对移动速度以及在每个分割区域上的错位，在表示在绘图面上所绘制的图像的图像数据中，形成分别和绘图点相对应的绘图数据，根据该绘图数据形成控制信号。
另外，可以使绘图头，通过N重绘图(N为大于等于2的自然数)对绘图面进行绘图。
另外，控制单元，最好使分割区域的数目和N重绘图的N的大小相同。
另外，可以使空间光调制器件所使用的绘图器件所出射的绘图光在绘图面上的投影点的排列方向相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。
另外，可以设置空间光调制器件而使空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。
另外，可以排列空间光调制器件中的绘图器件，使该空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度。
另外，可以使空间光调制器件，是一种将能够对应于上述控制信号而变更反射面的角度的多个微镜作为上述绘图器件而排列的微镜器件。
另外，可以使空间光调制器件，是一种将能够对应于上述控制信号而遮断透过光的多个液晶单元作为上述绘图器件而排列的液晶光闸阵列。
另外，可以使控制单元，根据绘图面的相对移动速度调整向各个分割区域的控制信号的输出时序。
另外，可以使述控制单元，按照绘图面中所绘制的绘图点的所期望的配置调整向各分割区域的控制信号的输出时序。
另外，可以使控制单元，从扫描方向的下游的分割区域开始顺次输出控制信号。
另外，可以使控制单元，根据绘图面的相对移动速度生成向各个绘图器件所输出的的上述控制信号。
这里，上述“绘图器件列”是指，在二维状排列的绘图器件的2个排列方向中的相对上述扫描方向的倾斜角度较大的一方的排列方向上所排列成一列的绘图器件群。
另外，上述“调制”是指，使绘图器件动作并作用于入射光。
另外，上述“绘图器件行”是指，在二维状排列的绘图器件的2个排列方向中的相对上述扫描方向的倾斜角度较小的一方的排列方向上所排列成一列的绘图器件群。
另外，上述“N重绘图”是指，通过N个绘图器件扫描同一个扫描线而进行的绘图处理。另外，下面的说明中，“多重”和“N重”的意思一样。
另外，上述“使用绘图器件”是指，在空间光调制器件的绘图器件中，对绘图面进行绘图时所实际使用的绘图器件。
另外，上述“投影点的排列方向”是指，在二维状排列的投影点的2个排列方向中的相对上述扫描方向的倾斜角度较小的一方的排列方向。
本发明的绘图方法以及装置中，将上述多个绘图器件列每一个或多个绘图器件列而分割，顺次向该所分割的多个分割区域输出上述控制信号，从上述控制信号的输入已完成的分割区域的绘图器件开始顺次进行上述调制，因此，能够在向特定的分割区域传送控制信号的时间内，在调制信号以及传送结束了的其他的特定区域中更新绘图器件，从而能够缩短更新时间。
另外，上述绘图方法以及装置中，在只向绘图器件列中的一部分的多个绘图器件列输出控制信号的情况下，和控制全体绘图器件列相比，所控制的绘图器件的个数较少，能够进一步缩短空间光调制器件的更新时间。
另外，上述绘图方法以及装置中，在空间光调制器件的分割区域的数目d的大小满足下面的公式的情况下，通过设定分割区域数d的下限，能够更有效的缩短空间光调制器件的更新时间。
d≥t/(t-u)
且t为向全体上述分割区域输入上述控制信号所需要的时间，u为上述一个分割区域中的绘图器件进行上述调制所必需的时间。
另外，在多个分割区域中的至少一个分割区域中所具有的绘图器件列的数目，和该至少一个分割区域之外的分割区域中所具有的绘图器件列的数目不同的情况下，由于能够减少所控制的分割区域的数目，能够使该分控制简单化。
另外，在绘图头中设置空间光调制器件而使空间光调制器件中的绘图器件行相对上述扫描方向具有给定的倾斜角度，由该绘图头通过N重绘图(N为大于等于2的自然数)而进行绘图，同时使空间光调制器件的绘图器件所绘制的绘图点在上述扫描方向上每分割区域以给定的间隔错开而进行绘图的情况下，能够不降低扫描速度而提高扫描方向上的分辨率。另外，该扫描方向上的分辨率的提高将在后面进行详细说明。
附图说明
图1为说明使用本发明的绘图装置的一个实施方式的曝光装置的外观的立体图。
图2为说明图1中所示的曝光装置的扫描仪的构成的立体图。
图3(A)为说明感光材料层上所形成的曝光完成区域的平面图，(B)为说明被各个曝光头所曝光的区域的排列的示意图。
图4为说明图2中所示的曝光头概要构成的立体图。
图5(A)为说明图4中所示的曝光头的构成沿着光轴方向的副扫描方向的截面图，(B)为(A)的侧面图。
图6为说明图4中所示的曝光头中的微镜器件(DMD)的构成的部分放大图。
图7为用来说明图6中所示的DMD的动作的示意图。
图8为说明DMD的分割区域的示意图。
图9(A)为说明在进行分割复位驱动的情况下向DMD传送图像数据的传送时间以及微镜的复位时间的时序图，(B)为说明在不进行分割复位驱动的情况下向DMD传送图像数据的传送时间以及微镜的复位时间的时序图。
图10(A)为说明光纤阵列光源的构成的立体图，(B)为(A)的部分放大图，(C)、(D)为说明激光出射部的发光点的排列的平面图。
图11为说明图1中所示的曝光装置中的合波激光光源的构成的平面图。
图12为说明图1中所示的激光模块的构成的平面图。
图13为图12中所示的激光模块的侧面图。
图14为图12中所示的激光模块的部分侧面图。
图15为说明在进行分割复位驱动时的和图9(A)不同的情况的时序图。
图16为说明在进行分割复位驱动时的和图9(A)以及图15不同的情况的时序图。
图17为在使分割区域1、2的微镜列为96列，使分割区域3的微镜列为48列的情况下的时序图。
图18(A)为说明在使DMD相对扫描方向倾斜的情况下，形成在感光材料上的曝光完成区域的平面图，(B)为说明被各个曝光头所曝光的区域的排列的示意图。
图19为说明DMD的其他实施方式的示意图。
图20为说明在不进行分割复位驱动而只进行多重曝光的情况下的曝光区域的示意图。
图21为说明在进行分割复位驱动且进行多重曝光的情况下的曝光区域的示意图。
图22为说明在分割复位驱动中，向感光材料曝光的所期望的图像与DMD所输入的控制信号之间的关系的示意图。
图23为用来说明通过扫描仪进行一次扫描而使感光材料曝光的曝光方式的平面图。
图24为用来说明通过扫描仪进行多次扫描而使感光材料曝光的曝光方式的平面图。
图中：LD1～LD7...GaN族半导体激光器件，10...加热单元，11～17...准直透镜，20...聚光透镜，30...多状态光纤，50...DMD(digital micromirrordevice，空间光调制器件)，53...反射光像(曝光光束)，54、58...透镜系统(光学系统)，56...扫描面(被曝光面)，64...激光模块，66...光纤阵列光源，68...激光出射部，150...感光材料，152...平台(移动单元)，162...扫描仪，166...曝光头，168...曝光区域，170...曝光完成区域
具体实施方式
下面对照附图说明本发明的具体实施方式。在下面的说明中，为了说明的方便而举出了具体的数值，当然本发明是并不仅限于这些数值的。
本发明的实施方式的相关绘图装置，是所谓的平板型的曝光装置，如图1所示，设有在表面上吸着保持有薄片状感光材料150的平板状的平台152。在由4个脚154所支撑的厚板状的设置台156上面，设置有沿着平台的移动方向而延伸的2根导轨158。平台152的长边方向沿着平台的移动方向而配置，被导轨158所支持并能够往返移动。另外，该曝光装置中，还设有用来沿着导轨158的方向驱动平台152的图中所未显示的驱动装置，该驱动装置在后面将要说明，被图中所未显示的控制器所驱动控制，沿着扫描方向使其具有对应于所期望的倍率的移动速度(扫描速度)。
在设置台156的中央部上，设置有横跨平台152的移动路线的“コ”字形的门160。“コ”字状的门160的两端分别被固定在设置台156的两侧。该门160的一侧上设置有扫描仪162，另一侧上设置有用来检测感光材料150的前端以及后端的多个(例如2个)检测传感器164。扫描仪162以及检测传感器164被分别安装于门160上，且被固定在平台152的移动路线的上方。另外扫描仪162以及检测传感器164，与图中所未显示的对其进行控制的控制器相连接，后面将要说明，在通过曝光头166进行曝光时，被控制为以给定的时序进行曝光。
扫描仪162如图2以及图3(B)所示，设有被排列成m行n列(例如3行5列)的略矩阵状的多个曝光头166，该多个曝光头被配置有多个，从而构成了曝光头单元165。特别是在本实施方式中，至少在与扫描方向垂直的方向上配置有多个曝光头166(下面将与扫描方向垂直的方向称为“曝光头排列方向”)。该例中，由于感光材料150的宽度的关系，仅在第1行以及第2行配置了5个，在第3行配置了4个曝光头166，一共是14个。另外，在说明配置在第m行第n列的各个曝光头时，用曝光头166mn来表示。
曝光头166的曝光区域168，在图2中为以扫描方向为短边方向的矩形。伴随着平台152的移动，在感光材料150中形成了对应于每个曝光头的带状的曝光完成区域170。另外，在说明配置在第m行第n列的各个曝光头的曝光区域时，用曝光区域168mn来表示。
另外，如图3(A)以及(B)所示，为了使带状的曝光完成区域170分别和相邻的曝光完成区域170相邻，将线状排列的各行的曝光头中的各个曝光头，在曝光头排列方向上以给定的间隔错开而配置。这样，在第1行的曝光区域168₁₁以及曝光区168₁₂之间的无法被曝光的部分，能够被第2行的曝光区域168₂₁以及第3行的曝光区168₃₁所曝光。
曝光头166₁₁～166mn分别如图4、图5(A)以及(B)所示，作为对应于图像数据而在每个像素上对入射光束进行调制的空间光调制器件，设置有数字微镜器件(DMD)50。该DMD50和图中所未显示的具有数据处理部以及透镜驱动控制部的控制器相连接。控制器的数据处理部中，根据所输入的图像数据，生成驱动控制每个曝光头166的DMD50的控制区域内的各个微镜的控制信号。这里，控制器具有使列方向上的分辨率比原图像更高的图像数据变换功能。通过这样提高分辨率，能够在相当高的精度下进行图像数据的各种处理以及校正。
另外，透镜驱动控制部中，根据数据处理部所生成的控制信号，来控制每个曝光头166的DMD50的各微镜50的反射面的角度。
DMD50的光入射侧，按顺序配置有具有使光纤的出射端部(发光点)沿着和曝光区域168的长边方向相对应的方向而配置为一列的激光出射部的光纤阵列光源66，对光纤阵列光源66所发出的激光进行校正并聚光在DMD上的透镜系统67，以及将透镜系统67所透过的激光反射给DMD50的微镜69。
透镜系统67，由使光纤阵列光源66所出射的激光平行光化的1对组合透镜71，对被平行光化的激光进行校正而使其光量分布均匀的1对组合透镜73，以及将光量分布被校正了的激光聚光在DMD上聚光的聚光透镜75构成。组合透镜73，具有在激光出射端的排列方向上，使得接近透镜的光轴的部分的光束扩散，使远离光轴的部分的光束聚拢，并且在和该排列方向垂直的方向上使光原样通过的功能，从而能够校正激光使其光量分布均匀。
另外，DMD50的光反射侧，配置有将DMD50所反射的激光成像在感光材料150的扫描面(被曝光面)56上的透镜系统54、58。透镜系统54、58，和DMD50以及被曝光面56共同进行工作。
DMD50如图6所示，在SRAM单元(存储单元)60上，微镜62被支柱等支持而配置，是格子状排列构成像素的多个(例如，间距13.68μm，1024×768个)微镜而构成的微镜器件。各个像素中，最上部设置有被支柱所支持的微镜62，微镜62的表面上蒸镀有铝等反射率高的材料。另外，微镜的反射率为90％以上。另外，微镜62的正下方，通过含有铰链以及轭的支柱，配置有由通常的半导体存储装置的生产线所制造出来的硅栅的CMOS的SRAM单元60，全体构成一个单片(一体化)。
向DMD50的SRAM单元60写入数字信号之后，使被支柱所支撑的DMD50的SRAM单元60，以对角线为中心，相对配置有DMD50的基板侧在±α度(例如±10度)的范围内倾斜。图7(A)中显示了作为微镜62的ON状态的倾斜了+α度的状态，图7(B)中显示了作为微镜62的OFF状态的倾斜了-α度的状态。因此，通过对应于图像信号，如图6所示的那样控制DMD50的各个像素中的微镜62的倾斜，入射到DMD50中的光分别被反射向各个微镜62的倾斜方向。
另外，图6中，显示了将DMD50的一部分放大，微镜62被控制为+α度或-α度方向的状态的一个例子。各个微镜62的ON/OFF控制，是由和DMD50相连接的图中所未显示的控制器来进行的。在OFF状态下的微镜62反射光束的方向上，配置有吸光物(图中未显示)。
作为本实施方式的一个例子，如图8所示，控制器进行驱动控制，使得沿着扫描方向的768列的微镜62中，只有大约中央的192被使用(下面，将这样将DMD50的全部像素(微镜62)中所使用的像素限制为一部分而进行的驱动称作“部分驱动”)。
一般来说，DMD50的数据处理速度有一定的界限，根据所使用的像素数目决定了每一列像素的更新时间。也即，为了更新微镜62，向DMD50的SRAM单元60传送并写入数字信号时间，以及根据所写入的信号，复位各个微镜62的时间都是必要的，在使用所有的微镜62的情况下，向其所对应的所有的SRAM单元62的信号传送时间是必须的。与此相对，如果像本实施方式这样进行部分驱动，仅使用一部分微镜，所使用的微镜62越少，向SRAM单元60的数字信号的传送时间就越短，因此像素更新时间就越短。
所使用的微镜列数，最好为10个以上且为240个以下。相当于一个像素的微镜每个的面积，本实施方式中为15μm×15μm，如果换算为DMD50的使用区域，最好为12×150μm以上且为12mm×3.6mm以下。
所使用的微镜列的数目如果为上述范围，如图5(A)以及(B)所示，光纤阵列光源66所出射的激光被透镜系统67略平行光化，能够照射到DMD50。最好使对DMD50的激光照射区域，和DMD50的使用区域相一致。因为如果照射区域比使用区域大就会降低激光的利用效率。
另外，为了这样进行部分驱动，可以使用配置在DMD50的扫描方向的中央部位上的微镜列，也可以使用配置在DMD50的扫描方向的两端部位上的微镜列。另外，在一部分的微镜62中产生了缺陷的情况下，可以使用没有产生了缺陷的微镜列，或者根据状况适当的变更所使用的微镜列。另外，使用预先使扫描方向上的列数在上述范围内而制造出来的DMD也能够得到和上述的部分驱动相同的效果。
另外，本实施方式中，从图8可以得知，将部分驱动所使用的1024个×192个微镜62，在沿着和扫描方向垂直的方向上分割为5个区域(区域1～5)。这样，按照从区域1到区域5的顺序向SRAM单元60传送数字信号，并且，按顺序对传送完成了的区域进行微镜62的复位(下面，将这样分割DMD50的像素(微镜62)，按区域顺次进行图像数据的传送以及复位，称作“分割复位驱动”)。这样进行分割复位驱动，能够同时并行进行向SRAM单元60的数字信号的传送以及微镜62的复位，实质上将复位时间隐藏在了信号传送时间之内，因此能够缩短DMD50的像素更新时间。另外，区域1到区域3各自都由38列的微镜列构成，区域4到区域5各自都由39列的微镜列构成。
图9(A)中，显示了对上述区域1～5进行分割复位驱动情况下的时序图的一例。另外，图9(B)中为了进行比较，显示了不进行分割驱动的情况下的时序图。图9(B)中，各个区域都需要5μs的数字信号传送时间。另外，微镜62的复位中(不管是否进行了区域分割)还需要20μs。因此，在不进行分割复位驱动的情况下，由于将数字信号传送给SRAM单元60需要25μs(5μs×5)，之后再复位微镜62，因此像素的更新总共需要45μs(参照下述的表1)。与此相对，如果像本实施方式这样进行分割复位驱动，从图9(A)可以得知，进行向区域1的SRAM单元60的数字信号的传送，该传送完成后，继续进行向区域2的SRAM单元60的数字信号的传送，同时并行进行区域1的微镜62的复位。向各区域的SRAM60的数字信号的传送时间(5μs)，比微镜62的复位时间(20μs)短，进行从区域2向区域3-＞4-＞5的SRAM60的数字信号的传送，由于该传送时间和微镜62的复位时间重叠，从而能够缩短DMD50的像素更新时间。
本实施方式中，通过这样并用部分驱动和分割复位，和二者单独使用的情况相比，能够显著的缩短DMD50的像素更新时间。表1中，显示了进行以及不进行部分驱动以及分割复位驱动的情况下的DMD50的像素更新时间的一个例子。
表1
该表中，在括弧内，显示了以部分驱动以及分割复位驱动二者都不进行的情况为100％，与其进行比较所得到的图像更新时间的百分比。从该表可以得知，只进行分割复位驱动时的图像更新时间大约缩短为83％，只进行部分驱动时的图像更新时间大约缩短为38％，本实施方式中，具有组合二者所得到的相乘结果，也即缩短到了20％。
另外，图9(A)中所示的例子中，区域1中的像素更新的完成(向SRAM单元60的数字信号的传送以及微镜62的复位)所需要的时间，以及向全体区域的SRAM单元60的数字信号的传送时间都和25μs相一致，然而并不一定要一致。
一般来说，设全体区域的SRAM单元60中的数字信号的传送所需要的时间为t，一个区域的微镜62的复位时间为u，分割区域数为d，那么全体区域中的像素更新完成时间(调制时间)便为t或t/d+u中的较大的一方。例如在图15所示的例子中，向区域1～5的全体区域的SRAM单元60传送数字信号的时间t，比特定的区域(例如区域1)中的像素更新完成所需要的时间t/d+u长。与此相对，图16所示的例子中，特定的区域(例如区域1)中的像素更新完成所需要的时间t/d+u，比向区域1～5的全体区域的SRAM单元60传送数字信号的时间t长。而二者相一致便是图9(A)中所示的例子。
但是，图16中所示的例子中，不管向全体区域的SRAM单元60的数字信号传送是否完成，如果例如区域1中的微镜62的复位没有完成，便不能够向区域1的SRAM单元60写入下一个数字信号。为了解决这个问题，当t＞u时，可以增加分割数d使得满足：
d≥t/(t-u)
例如在图9(A)的例子中，由于t＝25μs，u＝20μs，因此使得d≥25/(25-20)。也即，如果使得分割数为5以上，能够将各个区域中的微镜62的复位时间完全隐藏在向全体区域的SRAM单元60的数字信号传送时间内，从而能够不产生无效时间并缩短DMD50的像素更新时间。
另外，最好使向SRAM单元60的数字信号传送时间t1，比一个像素(微镜62)的像素更新时间(调制时间)t2更短，也即满足t1≤t2。这里，设曝光头166的扫描速度为v，像素被更新了之前在扫描方向的距离(曝光间距)为r，那么一个像素的调制时间t2便为r/v。另外，在使用排列在扫描方向上的M列的像素中的m列的情况下，设向全体(M列)的数字信号传送时间为T，那么向SRAM60的数字信号传送时间t1便为T×(m/M)。因此，最好满足：
T×(m/M)≤r/v
也即
m≤Mr/vT
例如当M＝768，v＝80mm/s，r＝2μm，T＝100μs时，
Mr/vT＝192
上述例子中，这样来确定使用列数m。此时的传送时间为，T×(m/M)＝100×192/768＝25μ。
图10(A)中显示了光纤阵列光源66的构成。光纤阵列电源66中，设有多个(例如6个)激光模块64，各个激光模块64上结合有多状态光纤30的一端。多状态光纤30的另一端上，内芯半径与多状态光纤30相同且包层半径比多状态光纤30小的光纤31被结合起来，如图10(C)所示，使光纤31的出射端部(发光点)沿着和副扫描方向垂直的主扫描方向而排列成一列从而构成激光出射部68。另外，如图10(D)所示，也可以将发光点沿着主扫描方向而配置两列。
光纤31的出射部端，如图10(B)所示，被表面平坦的2根支持板65所夹持而固定。另外，光纤31的光出射侧，为了保护光纤31的端面，配置有玻璃等透明保护板63。保护板63既可以和光纤31的端面密切接触而设置，也可以将光纤31的断面密封起来。光纤31的出射端部，由于光密度高，较易集尘且容易恶化，通过设置保护板63能够防止尘埃附着在端面上，同时能够延迟恶化。
多状态光纤30以及光纤31，可以是突变型光纤、渐变型光纤以及复合型光纤中的任何一种，例如，可以采用三菱电线工业株式会社所出品的突变型光纤。
激光模块64，由图11中所示的合波激光光源(光纤光源)构成。该合波激光光源，由固定在加热单元10上的多个(例如7个)芯片状的多状态或单状态的GaN族半导体激光器件LD1、LD2、LD3、LD4、LD5、LD6以及LD7，和GaN族半导体激光器件LD1～LD7分别相对应的而设置的准直透镜11、12、13、14、15、16以及17，一个聚光透镜20，以及一根多状态光纤30而构成。另外，半导体激光器件的个数并不仅限于7个。
GaN族半导体激光器件LD1～LD7的振荡波长都是共通的(例如405nm)，最大输出也都是共通的(例如多状态激光器件为100mW，单状态激光器件为30mW)。另外，GaN族半导体激光器件LD1～LD7，可以采用具有350nm～450nm的波长范围内的，除了上述的405nm之外的振荡波长的激光器件。
上述合波激光光源，如图12以及图13所示，和其他的光学要素一起被收纳在上方有开口的箱状的壳体40中。壳体40设置有能够关闭该开口的壳盖41，通过抽气处理之后导入密封气体，并用壳盖41盖上壳体40，将上述合波激光光源气密封在由壳体40和壳盖41所构成的闭空间(密封空间)。
壳体40的底面上固定有基板42，该基板42上面，安装有上述加热单元10、保持聚光透镜20的聚光透镜固定器45以及保持多状态光纤30的入射端部的光纤固定器46。多状态光纤30的出射端部，从形成在壳体40的壁面上的开口中被引出到壳体外。
另外，加热单元10的侧面上安装有准直透镜固定器44，用来保持准直透镜11～17。壳体40的横壁面上形成有开口，通过该开口将用来给GaN族半导体激光器件LD1～LD7提供驱动电流的配线47引出到壳体外。
另外，图13中，为了避免图的复杂化，仅标注了多个GaN族半导体激光器件中的GaN族半导体激光器件LD7，以及多个准直透镜中的准直透镜17的编号。
图14中显示了上述准直透镜11～17的安装部分的正面形状。准直透镜11～17分别形成为在平行的平面上切取包括非球面的圆形透镜的光轴的区域而成的细长形状。该细长形状的准直透镜，可以通过对树脂或光学玻璃进行模塑成形而形成。准直透镜11～17的长边方向和GaN族半导体激光器件LD1～LD7的发光点的排列方向(图14的左右方向)垂直，且和上述发光点的排列方向密切接触。
另外，GaN族半导体激光器件LD1～LD7，可以采用具有发光幅度为2m的活性层，且在和活性层平行的方向、垂直的方向上的扩张角度例如为10°、30°的状态下发射各个激光光束的B1～B7的激光器件。在平行于活性层的方向上使发光点排列成一列而配置这些GaN族半导体激光器件LD1～LD7。
因此，使各个发光点所发射的激光束B1～B7，在其扩张角度大的方向和上述细长形状的各个准直透镜11～17的长边方向一致，且其扩张角度小的方向和宽度方向(和长边方向垂直的方向)一致的状态下而入射到细长形状的各个准直透镜11～17中。
聚光透镜20，在平行的平面上从非球面的圆形透镜的光轴的区域上切取细长形状，而形成为在准直透镜11～17的排列方向，也即水平方向上较长，在与其垂直的方向上较短的形状。该聚光透镜20，例如可以采用焦距f2＝23mm，NA＝0.2的透镜。另外该聚光透镜20，可以通过例如模塑成形树脂或光学玻璃而制成。
下面对上述曝光装置的动作进行说明。
扫描仪162的各个曝光头166中，分别从构成光纤阵列光源66的合波激光光源的GaN族半导体激光器件LD1～LD7以发散光状态所出射的激光束B1、B2、B3、B4、B5、B6以及B7，分别被对应的准直透镜11～17平行光化。被平行光化的激光束B1～B7被聚光透镜20聚光在多状态光纤30的内芯30a的入射端面上。
本实施方式中，由准直透镜11～17以及聚光透镜20构成聚光光学系统，由该聚光光学系统和多状态光纤30构成合波光学系统。也即，被聚光透镜20所聚光的上述激光束B1～B7，入射到该多状态光纤30的内芯30a上并在光纤内被传输，被合波成一束激光束B而从在多状态光纤30的出射端部被结合了的光纤31出射。
光纤阵列光源66的激光出射部68中，高辉度的发光点被沿着主扫描方向排列成一列。由于这种来自单个半导体激光器件的激光被一根光纤所结合的以前的光纤光源是低输出的，如果不多数列排列就不能够得到想要的输出，而本实施方式中所使用的合波激光光源是高输出的，因此，只需要少数列，例如1列就能够得到想要的输出。
对应于曝光图形的图像数据，被输入到图中所未显示的和DMD50相连接的控制器中，并被暂存在控制器内的帧存储装置中。该图像数据，是用两个值(圆点记录的有无)来表示构成图像的各个像素的浓度的。
表面设有感光材料150的平台152，被图中所未显示的驱动装置驱动，沿着导轨158以一定的速度从门160的上游移动到下游。当平台152从门160下通过时，由安装在门160上的检测传感器164检测出感光材料150的前端后，以多条线顺次读出存储在帧存储装置中的图像数据，在数据处理部中根据所读出的图像数据生成控制每个曝光头166的控制信号。接着，由微镜驱动控制部根据所生成的控制信号，控制每个曝光头166的DMD50的微镜各自的ON/OFF。
从光纤阵列光源66向DMD50照射激光之后，当DMD50的微镜为ON状态时，所反射的激光被透镜系统54、58成像在感光材料150的被曝光面56上。这样，从光纤阵列光源66所出射的激光在每个像素上ON/OFF，以和DMD50所使用的像素大概相同的像素单位(曝光区域168)曝光感光材料150。
这里，本实施方式中，对于DMD50并用部分驱动以及分割复位，和单独使用部分驱动或分割复位的情况相比，像素更新时间被显著缩短了。因此，能够进行高速的曝光。
通过使感光材料150和平台152共同以一定的速度移动，感光材料150被扫描仪162以和平台的移动方向相反的方向扫描，形成了每个曝光头166的带状的曝光完成区域170。
这样，当完成了扫描仪162对感光材料150的扫描，检测传感器164检测到感光材料150的末端后，平台152被图中所未显示的驱动装置驱动，沿着导轨158回归到位于门160的最上游的原点上，又再次沿着导轨158以一定的速度从门160的上游向下游移动。
另外，上述实施方式中，是使各个分割区域所具有的微镜列的数目大致相同而进行分割复位驱动的，然而各个分割区域所具有的微镜列的数目并不一定要都相同，可以使至少1个分割区域所具有的微镜列的数目和其他分割区域所具有的微镜列的数目不一样。例如，在使用240列的微镜列进行部分驱动时，在向全体分割区域传送控制信号所需要的时间t为32μs，一个分割区域的微镜62的复位时间u为18μs的情况下，根据下面的公式最好时d为3、4或5。
d≥t/(t-u)＝32/(32-18)＝2.29
因此，当d＝3时，例如可以使区域1、2＝96列，区域3＝48列，或者使区域1、3＝96列，区域2＝48列，或者区域1＝48列，区域2、3＝96列。
另外，当d＝4时，例如可以使区域1＝96列，区域2、3、4＝48列，或者使区域1、3、4＝48列，区域2＝96列，或者区域1、2、4＝48列，区域3＝96列，或者区域1、2、3＝48列，区域4＝96列。
另外，当d＝5时，可以和上述实施方式1一样，使所有的区域都为48列。
另外，如上所述使各个分割区域所具有的微镜列数不一样，也能够得到和全体区域都有相同的列数的情况下同样的效果。例如，区域1、2＝96列，区域3＝48列的情况下的时序图如图17所示。另外，由于通过像上述那样确定分割区域能够减少传输次数，因此能够进行相当简单的驱动控制。
另外，本实施方式中，从图2以及图3可以得知，DMD50的曝光区域相对扫描方向并不倾斜，然而也可以使DMD50相对扫描方向稍微倾斜，如图18所示的那样，使曝光区域168mn稍微倾斜，而使扫描线的间隔较密。另外，图18中显示的是在第1行以及第2行上，在曝光头排列方向上以一定的间隔5个5个的排列曝光头166的情况下的曝光完成区域。另外，也可以像上述那样使DMD50相对扫描方向稍微倾斜，通过多个微镜62扫描同一个扫描线，构成所谓的多重曝光系统。另外，也可以不像上述那样使DMD50稍微倾斜，而使DMD50中的微镜62的排列自身，像图19所示的那样相对扫描方向稍微倾斜。另外，并不仅限于上述构成，如果能够使DMD50的微镜62所出射的激光在感光材料150面上的投影点如图19所示的那样配置的话，采用其他的构成以及方向也可以。例如，可以采用具有排列成矩阵形状的微镜62的DMD50，仅使用图19中所示的范围内的微镜62而进行曝光。
另外，本实施方式中，如果采用多个微镜扫描同一个扫描线，即所谓的多重曝光系统，由于进行分割复位驱动，因此能够不降低扫描速度而提高扫描方向上的分辨率。具体的说，通过和上述一样，使DMD50相对扫描方向稍微倾斜，由多个微镜扫描同一个扫描线，同时也和上述一样进行分割复位驱动，能够在每个分割区域中在不同的位置上曝光曝光点群，因此能够不降低扫描速度而提高扫描方向上的分辨率。
这里，为了说明上述的提高分辨率的效果，首先，对不进行分割复位驱动而只进行多重曝光的情况下的曝光区域进行说明。图20中，显示了3重曝光，也即3个不同的微镜扫描一个扫描线的情况下的曝光区域。图20中纵线表示扫描线，图20(A)为说明DMD50中的部分驱动区域与扫描线之间的位置关系的示意图。
如上所述不进行分割复位驱动而进行3重曝光的情况，如图20(B)所示，通过斜线圆圈部分微镜、白色圆圈部分微镜以及黑色圆圈部分微镜分别曝光一条线，同时将该3条线重叠曝光，最终得到如图20(C)所示的曝光线。
与此相对，图21中显示了进行分割复位驱动且进行3重曝光的情况下的曝光区域。另外，图21中，使分割复位驱动的分割数和多重数一样都为3。在进行分割复位驱动且进行3重曝光的情况下，假设，被斜线圆圈部分的微镜所曝光的曝光点，由于分割复位驱动的控制信号的输入时序的错位而没有成为一条线，分割区域的曝光点在扫描方向上错位了ΔY/3而被曝光。另外，白色圆圈部分微镜以及黑色圆圈部分微镜所曝光的曝光点也和上述一样被曝光，这样，最终，斜线圆圈部分微镜、白色圆圈部分微镜以及黑色圆圈部分微镜所曝光的曝光点群被组合而曝光，如图21(C)所示，一条线分别被各个分割区域中的微镜所曝光。设图20(C)中的线间距为ΔY，则图21(C)中的线间距便为ΔY/3，从而能够提高扫描方向上的分辨率。另外，上述说明中分割复位驱动的分割数和多重数是一样的，然而并不仅限于此，也可以使二者为不同的数。
另外，像上述这样进行分割复位驱动的情况，通过对应于感光材料150的移动而控制向分割区域的控制信号的输出时序，能够控制被曝光的点的位置。例如可以使点的位置较分散。因此，通过控制向分割区域的控制信号的输出时序，使得感光材料150上被曝光的点成为所期望的配置，能够得到所期望的分辨率的曝光图像。通过上述控制，能够不降低感光材料150的移动速度而提高扫描方向上的分辨率。
另外，进行上述分割复位驱动的情况下，最好能够考虑感光材料150的移动以及向各分割区域的控制信号的输入时序的错位而生成控制信号。也即，最好考虑感光材料150的移动以及向各分割区域的控制信号的输入时序的错位，从表示希望曝光的图像的图像数据生成各点所对应的绘图数据，将该绘图数据反映在对空间光调制器件的控制信号中。图22中，显示了说明希望被曝光在感光材料150上的图像与输入到DMD50中的控制信号之间的关系的示意图。另外，图22中，由斜线方块所表示的L字的部分为所期望的图像，白色圆圈以及黑色圆圈所表示的部分用来模式表示输入到DMD50中的控制信号。白色圆圈表示OFF信号，黑色圆圈表示ON信号。图22中，从最左端的图向右顺次表示感光材料150的曝光逐次前进的状态。另外，图22中显示了分割为2个分割区域I、II的情况下的控制信号的模式图。
图22(A)模式说明了不考虑感光材料150的移动以及向各分割区域的控制信号的输入时序的错位而生成的控制信号。在进行分割复位驱动的情况下，由于在向各分割区域I、II的控制信号的输入时序的错位中移动感光材料150，输入如图22(A)所示的控制信号，实际上使得感光材料150上所曝光的图像和所期望的图像之间有一定的错位。与此相对，如图22(B)所示，如果考虑到在向各分割区域I、II的控制信号的输入时序的错位中的感光材料150的移动，若生成并输入使分割区域I和分割区域II之间稍紧凑的曝光的控制信号，实际上就能够曝光更接近所期望的图像的图像。另外，根据所要求的分辨率，可以选择上述图22(A)以及(B)中所示的方法的任何一个，不管哪个方法都是能够采用的。
另外，上面对作为空间光调制器件的具有DMD的曝光头进行了说明，然而除了这样的反射型空间光调制器件之外，还可以使用透过型空间光调制器件(LCD)。例如能够使用MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)型的空间光调制器件(SLM；Special Light Modulator)，或者除了MEMS型之外的通过电光学效果调制透过光的光学器件(PLZT器件)以及液晶光闸(FLC)等液晶光闸阵列之类的空间光调制器件。另外，MEMS是指通过以IC制造方法为基础的微加工技术将微型的传感器、执行器件以及控制电路集成化而得到的微系统的总称，MEMS型空间光调制器件是指被利用静电力的电机动作所驱动的空间光调制器件。另外还可以使用将GratingLight Value(GLV)多个排列而构成的二维状器件。使用这些反射型空间光调制器件(GLV)或透过型空间光调制器件(LCD)的构成，除了上述的激光之外还可以使用灯等光源。
另外，上述实施方式中，对使用具有多个合波激光光源的光纤阵列光源的例子进行了说明，然而激光装置并不仅限于将合波激光光源阵列化而成的光纤阵列光源。例如，使设置有出射来自具有一个发光点的单个的半导体激光器件所入射的激光的一根光纤的光纤光源阵列化所得到的光纤阵列光源也可以使用。
另外，还可以使用多个发光点被二维排列的光源(例如LD阵列、有机EL阵列等)。使用这些光源的构成中，通过使发光点分别对应像素，还能够省略上述的空间调制装置。
上述的实施方式中，如图23所示，对通过扫描仪162向着X方向的一次扫描使得感光材料150的全表面曝光的例子进行了说明，还可以如图24(A)以及(B)所示的那样，在扫描仪162在X方向上扫描了感光材料150之后，将扫描仪162在Y方向上移动一步，再继续进行X方向上的扫描，这样反复进行扫描和移动，通过多次扫描来使感光材料150的全表面曝光。
另外，上述的实施方式中，将所谓的前端型曝光装置作为例子而举出来，然而作为本发明的曝光装置，还可以设有将感光材料卷起来的滚筒，也即是所谓的外滚筒型曝光装置。
上述的曝光装置，能够用于例如印刷线路板(PWB；Printed WiringBoard)的制造工序中的干膜保护层(DFR；Dry Film Resist)的曝光、液晶显示装置(LCD)的制造工序中的彩色滤光片的形成、TFT的制造工序中的DFR的曝光、等离子显示面板(PDP)的制造工序中的DFR的曝光等用途中。
另外，上述曝光装置中，既可以使用通过曝光直接记录信息的光子模式感光材料，又可以使用通过曝光所产生的热量来记录信息的热模式感光材料。使用光子模式感光材料时，激光装置使用GaN族半导体激光器件以及波长变换固体激光器件等，使用热模式感光材料时，激光装置使用AlGaAs族半导体激光(红外激光)器件以及固体激光器件。
另外，本发明中的分割复位驱动，还可以使用于喷墨式等的打印机中的绘图控制中。例如，能够用和本发明相同的方法来控制通过墨水的喷出所得到的绘图点。也即，能够将本发明中的绘图器件替换成通过喷墨来形成绘图点的器件。
                         表1