《红外线反射基板的制造方法.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《红外线反射基板的制造方法.pdf（18页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。
1、10申请公布号CN104136945A43申请公布日20141105CN104136945A21申请号201380009741X22申请日20130215201203174920120216JP201302579920130213JPG02B5/26200601B05D3/06200601B32B27/1620060171申请人日东电工株式会社地址日本大阪府72发明人藤泽润一河崎元子大森裕74专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所普通合伙11277代理人刘新宇李茂家54发明名称红外线反射基板的制造方法57摘要本发明提供一种红外线反射基板的制造方法，其为层叠有反射层与保护层的红外线反射基板的制。
2、造方法，该方法具备如下步骤将前述反射层与含有通过照射电子射线而交联的高分子的前述保护层层叠的步骤、以及对前述保护层照射电子射线的步骤。30优先权数据85PCT国际申请进入国家阶段日2014081586PCT国际申请的申请数据PCT/JP2013/0537472013021587PCT国际申请的公布数据WO2013/122227JA2013082251INTCL权利要求书1页说明书15页附图1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书15页附图1页10申请公布号CN104136945ACN104136945A1/1页21一种红外线反射基板的制造方法，其为层叠有反射层与。
3、保护层的红外线反射基板的制造方法，该方法具备如下步骤将所述反射层与含有高分子的所述保护层层叠的步骤，以及对所述保护层照射电子射线的步骤。2根据权利要求1所述的红外线反射基板的制造方法，其中，所述红外线反射板具有所述反射层和所述保护层，以及基材，将所述反射层与所述保护层层叠的步骤具备在所述基材的一个面形成所述反射层的步骤，以及将使所述高分子溶解在溶剂中得到的高分子组合物溶液涂布在所述反射层上，接着使溶液干燥并形成所述保护层的步骤。3根据权利要求1所述的红外线反射基板的制造方法，其中，所述红外线反射板具有所述反射层和所述保护层，以及基材，将所述反射层与所述保护层层叠的步骤具备在所述基材的一个面上形。
4、成所述反射层的步骤，以及使用具有所述高分子的薄膜作为所述保护层，并将该保护层与所述反射层贴合的步骤。4根据权利要求1所述的红外线反射基板的制造方法，其中，所述保护层的每15M厚度的远红外线的透过率为65以上。5根据权利要求1所述的红外线反射基板的制造方法，其中，所述高分子为通过照射所述电子射线而表现交联型的反应行为的物质。6根据权利要求1所述的红外线反射基板的制造方法，其中，所述高分子为烯烃系高分子或环烯烃系高分子。7根据权利要求1所述的红外线反射基板的制造方法，所述高分子包含下述化学式I的重复单元A、B和C之中至少任意两种以上的重复单元，化学式I其中，R1为H或甲基，R2R5为H、碳数为14。
5、的烷基或烯基。8根据权利要求7所述的红外线反射基板的制造方法，其中，照射所述电子射线前的保护层还包含相对于所述高分子100重量份为1重量份20重量份的自由基聚合性单体。9根据权利要求1所述的红外线反射基板的制造方法，其中，照射所述电子射线后的所述保护层的凝胶率为70以上。10根据权利要求1所述的红外线反射基板的制造方法，其中，所述保护层侧表面的法向发射率为040以下。权利要求书CN104136945A1/15页3红外线反射基板的制造方法技术领域0001本发明涉及在可见光区域中具有高透过性且在红外线区域具有高反射性的红外线反射基板的制造方法。背景技术0002红外线反射基板主要用于抑制发射的太阳光。
6、的热影响。例如，通过在建筑物、汽车等的窗玻璃上粘贴红外线反射基板来遮蔽透过窗玻璃入射到室内的红外线尤其是近红外线，抑制室内的温度上升，由此，能够抑制冷气设备的功耗、谋求节能化。0003红外线的反射使用基于金属、金属氧化物的层叠结构的红外线反射层。然而，金属、金属氧化物的耐擦伤性低。因此，在红外线反射基板中，通常在红外线反射层上设置保护层。例如，专利文献1中公开了将聚丙烯腈PAN用作保护层的材料。聚丙烯腈之类的高分子的红外线吸收率低，能够遮蔽从室内透过透光性部件而出射到外部的远红外线，因此，在冬季、室外温度降低的夜间也能够谋求由绝热效果带来的节能化。0004将聚丙烯腈之类的高分子用作保护层的材料。
7、时，保护层通过如下顺序形成首先，使高分子溶解在溶剂中制备溶液，并将该溶液涂布在红外线反射层上，接着，使溶液干燥使溶剂挥发。0005现有技术文献0006专利文献0007专利文献1日本特公昭6151762号公报发明内容0008发明要解决的问题0009然而，这种红外线反射基板以使保护层为表侧的方式粘贴在建筑物、汽车等的窗玻璃上。因此，随着时间经过，在保护层的表面逐渐有污迹等附着。为了去除污迹等，可以通过例如使用清洗液的擦除等对保护层的表面进行清扫。然而，清洗液中大多包含各种的有机溶剂。于是，清洗液中所包含的至少一部分有机溶剂为可溶解保护层中所包含的高分子的溶剂时，清扫时会产生如下的问题保护层溶出，由。
8、于擦除等的摩擦而被去除，耐擦伤性低的红外线反射层露出。0010另外，即使在保护层中所包含的高分子不溶于清洗液的情况下，如果保护层经不起物理摩擦，则会由于擦除等造成保护层被去除，与上述同样地会产生耐擦伤性低的红外线反射层露出之类的问题。0011这样，在对耐溶剂性、物理摩擦的耐性之类的、保护层的耐擦伤性不充分的情况下，难以充分保护红外线反射层。0012因此，本发明是鉴于这样的情况而作出的，其课题在于提供一种绝热性和耐擦伤性优异的红外线反射基板的制造方法。0013用于解决问题的方案说明书CN104136945A2/15页40014本发明的红外线反射基板的制造方法为层叠有反射层与保护层的红外线反射基板。
9、的制造方法，该方法具备如下步骤0015将前述反射层与含有通过照射电子射线照射而交联的高分子的前述保护层层叠的步骤，以及0016对前述保护层照射电子射线的步骤。0017作为本发明的红外线反射基板的制造方法的一个实施方式，可以为如下方式0018前述红外线反射基板具有前述反射层、前述保护层以及基材，0019将前述反射层与前述保护层层叠的步骤具备0020在前述基材的一个面上形成前述反射层的步骤，以及0021将使前述高分子溶解在溶剂中得到的高分子组合物溶液涂布在前述反射层上，接着使溶液干燥并形成前述保护层的步骤。0022作为本发明所述的红外线反射基板的制造方法的另一个实施方式，可以为如下方式0023前述。
10、红外线反射基板具有前述反射层和前述保护层，以及基材，0024将前述反射层与前述保护层层叠的步骤具备0025在前述基材的一个面上形成前述反射层的步骤，以及0026使用具有前述高分子的薄膜作为前述保护层，并将该保护层与前述反射层贴合的步骤。0027此时，优选的是，前述保护层的每15M厚度的远红外线的透过率为65以上。0028此处，“远红外线的透过率”是仅对保护层照射远红外线时的、该保护层的波长25M25M区域中的红外线透过率的平均值的含义。0029此时，优选的是，前述高分子为通过照射前述电子射线而表现交联型的反应行为的物质。0030此处，作为照射电子射线而诱导的反应，以往通常分类为优先发生交联反应。
11、的交联型高分子和优先发生主链断裂的裂解型断裂型高分子。前述“交联型的反应行为”是指，在这两种反应行为中优先发生交联的反应行为。0031此时，优选的是，前述高分子为烯烃系高分子或环烯烃系高分子。0032此时，前述高分子可以包含下述化学式I的重复单元A、B和C之中至少任意两种以上的重复单元。0033化学式I00340035此处，作为本发明的红外线反射基板的制造方法的一个实施方式，优选的是，照射说明书CN104136945A3/15页5前述电子射线前的保护层还包含相对于前述高分子100重量份为1重量份20重量份的自由基聚合性单体。0036此时，可以使照射前述电子射线后的前述保护层的凝胶率为70以上。。
12、0037此时，可以使前述保护层侧表面的法向发射率为040以下。0038发明的效果0039根据本发明，可以提供绝热性和耐擦伤性优异的红外线反射基板的制造方法。附图说明0040图1示出了用于说明本发明的一个实施方式的红外线反射基板的层叠结构的示意图。0041图2示出了用于说明本发明的另一个实施方式的红外线反射基板的层叠结构的示意图。0042图3示出了用于说明本发明的另一个实施方式的红外线反射基板的层叠结构的示意图。0043图4示出了用于说明本发明的另一个实施方式的红外线反射基板的层叠结构的示意图。具体实施方式0044第一实施方式0045以下，对本发明的红外线反射基板的制造方法的第一实施方式进行说明。
13、。0046本实施方式的红外线反射基板的制造方法具备将反射层与保护层层叠的步骤，以及对该保护层照射电子射线的步骤；前述红外线基板具有前述保护层和前述反射层、以及基材；将前述反射层与前述保护层层叠的步骤包括如下步骤在前述基材的一个面上形成前述反射层的步骤，以及将使高分子溶解在溶剂中得到的高分子组合物溶液涂布在该反射层上，接着使溶液干燥并形成保护层的步骤。0047首先，参照图1对本实施方式的红外线反射基板的层叠结构进行说明。需要说明的是，本实施方式的红外线反射基板为在以往的红外线反射基板所具有的遮热特性近红外线的反射特性的基础上，还兼具绝热特性远红外线的反射特性的红外线反射基板。0048如图1所示，。
14、本实施方式的红外线反射基板为在基材1的一个面1A上依次层叠有反射层2和保护层3，在另一个面1B上设置有粘合层4的层结构。0049基材1使用聚酯系基板，例如可以使用由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸环己烷二甲醇酯、或者组合了这些的2种以上的混合树脂制成的基板。需要说明的是，这些之中，从性能的方面来看，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯PET基板，特别优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯PET基板。0050反射层2为在基材1的表面一个面1A上通过蒸镀形成的蒸镀层。作为该蒸镀层的形成方法，例如有溅射、真空蒸镀、离子镀等物理蒸镀PVD。此处，在真空蒸。
15、镀中，在真空中用电阻加热、电子束加热、激光加热、电弧放电等方法使蒸镀物质加热蒸发，从而在基材1上形成反射层2。另外，在溅射中，在存在氩气等非活性气体的真空中，使通过辉说明书CN104136945A4/15页6光放电等得到加速的AR等阳离子撞击到靶材蒸镀物质上而使蒸镀物质溅射蒸发，从而在基材1上形成反射层2。离子镀是组合了真空蒸镀和溅射的方式的蒸镀法。在该方法中，在真空中，对因加热而释放的蒸发原子在电场中进行离子化和加速，并使其以高能状态附着在基材1上，从而形成反射层2。0051反射层2为用一对金属氧化物层2B、2C夹持半透明金属层2A的多层结构，使用上述蒸镀层的形成方法，首先，在基材1的表面一。
16、个面1A上蒸镀金属氧化物层2B，接着，在金属氧化物层2B上蒸镀半透明金属层2A，最后，在半透明金属层2A上蒸镀金属氧化物层2C，从而形成。半透明金属层2A可以使用例如铝AL、银AG、银合金MGAG、AGPDCU合金APC、AGCU、AGAUCU等、铝合金ALLI、ALCA、ALMG等、或者组合这些的2种或2层以上得到的金属材料。金属氧化物层2B、2C用于赋予反射层2透明性、防止半透明金属层2A的劣化，可以使用例如氧化铟锡ITO、氧化铟钛IT、氧化铟锌IZO、氧化镓锌GZO、氧化铝锌AZO、氧化镓铟IGO等氧化物。0052保护层3为含有高分子的层。通过使保护层3含有高分子，可以利用电子射线的照射。
17、使该高分子自由基化或离子化来产生后述的交联。另外，作为该高分子，优选通过照射电子射线而优先发生交联的交联型高分子。作为所述交联型高分子，例如优选为聚乙烯、聚丙烯等烯烃系高分子、聚降冰片烯等环烯烃系高分子、聚苯乙烯、聚偏氟乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚丁二烯、天然橡胶、聚乙烯醇、聚酰胺、丙烯腈、包含这些高分子的单体成分作为构成单元的共聚物或该共聚物的氢化物等。0053这些之中，前述高分子优选为烯烃系高分子或环烯烃系高分子。另外，还优选前述共聚物的氢化物。0054作为前述氢化物，例如在前述共聚物具有双键时，可列举出该双键的一部分被氢化的物质。作为这样的氢化物，可列举出包含下述化学式I的重复单元A。
18、、B和C之中至少任意两种以上的重复单元的高分子。作为化学式I中的R1，可以使用H、甲基。另外，作为化学式I中的R2R5，可以使用H、碳数为14的烷基或烯基。此外，由重复单元A、B和C构成的、使用了H作为R1R5的物质为氢化丁腈橡胶HNBR。0055化学式I00560057R1H或甲基、R2R5H、碳数为14的烷基或烯基。0058作为用于得到这些高分子的单体成分，例如可列举出化学式II所示的丙烯腈重复单元D及其衍生物、碳数为4的烷基重复单元E及其衍生物、以及丁二烯重复单元F1或F2及它们的衍生物的共聚物等。此处，R6表示H或甲基，R7R18表示H或碳数为14的烷基。需要说明的是，F1、F2分别表。
19、示丁二烯聚合的重复单元，F1为主要的重复单元。另外，这些高分子也可以是化学式II的丙烯腈重复单元D及其衍生物、1,3丁说明书CN104136945A5/15页7二烯重复单元F1及其衍生物的共聚物的丁腈橡胶、丁腈橡胶中包含的双键的一部分或全部被氢化的氢化丁腈橡胶。0059化学式II00600061R6H或甲基、R7R18H或碳数为14的烷基。0062使用将上述共聚物局部地取出的化学式III，对丙烯腈、丁二烯和烷基聚合得到的共聚物与各自的重复单元A、B和C的关系进行说明。化学式III将用于保护层3的高分子链的一部分取出，依次键合了1,3丁二烯重复单元F1、丙烯腈重复单元D和1,3丁二烯重复单元F1。
20、。需要说明的是，化学式III示出了R7、R11R14为H的键合的例子。对于化学式III，丙烯腈的键合有氰基CN的一侧键合于左侧的丁二烯，在丙烯腈的未键合氰基CN的一侧形成右侧的丁二烯。这样的键合的例子中包含有1个重复单元A、1个重复单元B以及2个重复单元C。其中，重复单元A包含键合了左侧的丁二烯右侧的碳原子和丙烯腈的氰基CN的碳原子，重复单元B为包含丙烯腈的未键合氰基CN的碳原子与右侧的丁二烯左侧的碳原子的组合。而且，左侧的丁二烯的最左侧的碳原子和右侧的丁二烯的最右侧的碳原子根据所键合的分子的种类而成为重复单元A或重复单元B的一部分碳原子。0063化学式III00640065对于高分子中包含的。
21、化学式I的重复单元A在高分子整体中所占的比率，作为下限值，为5重量以上。优选为15重量以上。更优选为25重量以上。另外，作为上限值，为100重量以下。优选为60重量以下。更优选为40重量以下。若处于上述范围，则能够赋予红外线反射薄膜良好的绝热特性。0066对于保护层3的厚度，作为下限值，为1M以上。优选为2M以上。另外，作为说明书CN104136945A6/15页8上限值，为20M以下。优选为15M以下。更优选为10M以下。保护层3的厚度小时，红外线的反射特性增高但耐擦伤性受损，不能充分发挥作为保护层3的功能。保护层3的厚度大时，红外线反射基板的绝热特性变差。保护层3的厚度若处于上述范围内，则。
22、可得到红外线的吸收小且能够适当地保护反射层2的保护层3。0067需要说明的是，法向发射率如JISR3106所规定的那样，用法向发射率N1光谱反射率N表示。光谱反射率N在常温的热辐射的波长区域550M下测定。550M的波长区域为远红外线区域，远红外线的波长区域的反射率越高，法向发射率越小。0068以K与L与M的总计为100时，化学式I中的K与L与M的比率优选为KLM3302095060，更优选为KLM5256090020，进一步优选为KLM15256585010。0069另外，化学式I的重复单元A与B与C的比率优选为ABC550重量2585重量060重量其中，A与B与C的总计为100重量。更优选。
23、为ABC1540重量5585重量020重量其中，A与B与C的总计为100重量。进一步优选为ABC2540重量5575重量010重量其中，A与B与C的总计为100重量。0070前述保护层3是按照如下顺序形成的使上述高分子根据需要与交联剂一起溶解在溶剂中制备高分子组合物溶液，将该溶液涂布在反射层2上，接着，使溶液干燥使溶剂挥发。溶剂为可溶解上述高分子的溶剂，例如可使用甲乙酮等溶剂。0071此外，从赋予这些保护层3良好的耐溶剂性的观点来看，保护层3优选具有高分子彼此的交联结构。通过使高分子彼此交联，保护层3的耐溶剂性提高，因此即使在可溶解高分子的溶剂接触保护层3时，也能防止保护层3溶出。0072作为。
24、对高分子彼此赋予交联结构的手段，可列举出使溶液干燥后照射电子射线。保护层3中包含的高分子为上述化学式I所示的化合物时，对于电子射线的照射剂量，作为下限值，为30KGY以上。另外，作为上限值，为600KGY以下。优选为400KGY以下。更优选为200KGY以下。电子射线的照射剂量若处于上述范围内，则能够得到高分子彼此的充分交联。另外，电子射线的照射剂量若为上述范围内，则能够将由于电子射线的照射而产生的高分子、基材1的黄变抑制在最小限度，得到着色少的红外线反射基板。需要说明的是，这些电子射线的照射条件为加速电压为100KV150KV下的照射条件。0073另外，保护层3包含的高分子为上述化学式I以外。
25、的化合物，即，为聚乙烯、聚丙烯等烯烃系高分子、聚降冰片烯等环烯烃系高分子、聚苯乙烯、聚偏氟乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚乙烯醇、聚酰胺、丙烯腈、包含这些高分子的单体成分作为构成单元的共聚物或该共聚物的氢化物等时，对于电子射线的照射剂量，作为下限值，为60KGY以上。更优选为75KGY。另外，作为上限值，为150KGY以下。优选为125KGY以下。电子射线的照射剂量若为上述范围内，则能够得到耐擦伤性良好的红外线反射基板。需要说明的是，这些电子射线的照射条件为加速电压100KV150KV下的照射条件。0074另外，优选的是，使高分子溶解在溶剂中时、或者在使高分子溶解在溶剂中之后，向高分子组合物溶。
26、液中添加自由基聚合型单体等多官能单体之类的交联剂。特别优选甲基丙烯酸酯类单体的自由基聚合型单体。添加多官能单体时，多官能单体中所包含的官说明书CN104136945A7/15页9能团与各自的高分子链进行反应键合，从而使高分子彼此变得容易借助多官能单体交联。因此，即使将电子射线的照射剂量降低至70KGY以下，例如至50KGY左右，也能够得到高分子彼此的充分交联。因此，可以使电子射线的照射剂量为低照射剂量。另外，通过使电子射线的照射剂量降低，能够进一步抑制高分子、基材1的黄变，而且能够提高生产率。0075然而，若交联剂的添加量变多，则红外线反射基板的以反射层2为基准的保护层3侧表面的法向发射率恶化。
27、。若法向发射率恶化，则红外线反射基板的红外线的反射特性降低，红外线反射基板的绝热特性变差。因此，高分子组合物溶液相对于高分子100重量优选包含535重量即，相对于高分子100重量份为535重量份的交联剂。更优选为相对于高分子100重量为120重量即，相对于高分子100重量份为120重量份。0076另外，优选的是，保护层3以每15M厚度在25M25M的波长区域的远红外线的透过率的平均值为65以上的方式来构成。另外，该远红外线透过率优选为68以上、进一步优选为70以上。通过使该远红外线的透过率为65以上，从外侧入射到保护层3的远红外线变得更容易透过到反射层2。由此，可以进一步抑制红外线反射基板的以。
28、反射层2为基准的保护层3侧表面的法向发射率恶化。0077关于该远红外线的透过率，使用傅里叶变换型红外分光FTIR光度计日本分光株式会社制造，测定仅对保护层3照射远红外线时的、波长2525M的区域下的红外线的透过率并算出平均值，将得到的数值换算成每15M厚度的数值。0078对本实施方式的红外线反射基板的层叠结构的说明如以上所述，接着，对本实施方式的红外线反射基板的制作方法进行说明。0079本实施方式的红外线反射基板的制作方法具备如下步骤在基材1的一个面1A上形成反射层2的步骤；将使上述那样的高分子溶解在溶剂中得到的高分子组合物溶液涂布在该反射层2上，接着使溶液干燥而形成保护层3的步骤；对该保护层。
29、3照射电子射线的步骤。0080另外，在本实施方式的红外线反射基板的制作方法中，如上述那样制备的高分子组合物溶液相对于高分子100重量，还包含1重量20重量即，相对于高分子100重量份为1重量份20重量份的自由基聚合性单体。本实施方式中，作为自由基聚合型单体，采用甲基丙烯酸酯类单体。0081在基材1的一个面1A上形成反射层2的步骤中，采用后述的DC磁控溅射法。更具体而言，使用DC磁控溅射法，在基材1的一个面1A上形成由氧化铟锡形成的金属氧化物层2B，在其上形成由AGPDCU合金形成的半透明金属层2A，在其上形成由氧化铟锡形成的金属氧化物层2C。金属氧化物层2B、2C的厚度也依赖于所制作的层的折射。
30、率，但在实际应用中，为了得到透明性可见光透过率高的红外线反射基板，优选为550NM的范围，更优选的厚度为1540NM。0082另外，在反射层2上形成保护层3的步骤中，用涂膜器等将使上述高分子溶解在溶剂中得到的高分子组合物溶液涂布在形成于基材1的一个面1A的反射层2上，并使溶液干燥使溶剂挥发，由此形成保护层3。然后，在对保护层3照射电子射线的步骤中，通过后述的电子射线照射装置从保护层3的表面侧照射电子射线。如此操作，完成本实施方式的说明书CN104136945A8/15页10红外线反射基板。0083根据通过以上的制造方法制作的本实施方式的红外线反射基板，通过减少反射层2上的层结构的厚度、即减少保。
31、护层3的厚度，从而使以反射层2为基准的保护层3侧表面的法向发射率变小。另外，尤其是如果保护层3中使用难以吸收远红外线、易透过远红外线的丁腈橡胶、氢化丁腈橡胶、完全氢化丁腈橡胶、聚丙烯等，法向发射率也会由此变小。由此，远红外线即使入射到保护层3也难以被保护层3吸收而到达反射层2，其结果，变得容易被反射层2反射。因此，通过将本实施方式的红外线反射基板预先从室内侧粘贴在窗玻璃等透光性部件上，能够遮蔽从室内透过透光性部件而出射到外部的远红外线，由此，可以期待在冬季、室内温度降低的夜间的绝热效果。对于本实施方式的红外线反射基板而言，为了达成该目的，保护层3侧表面的法向发射率设定为040以下。其中，该法向。
32、发射率优选为030以下，更优选为025以下，进一步优选为015以下。0084另外，根据通过以上的制造方法制作的本实施方式的红外线反射基板，通过提高可见光透过率参照JISA5759，从而不会妨碍透光性部件的透光性。对于本实施方式的红外线反射基板而言，为了达成该目的，将可见光透过率设定为50以上。0085另外，近红外线即使入射到粘合层4和基材1，也难以被粘合层4和基材1吸收而到达反射层2，其结果，变得容易被反射层2反射。因此，通过将本实施方式的红外线反射基板预先从室内侧粘贴在窗玻璃等透光性部件上，能够遮蔽透过窗玻璃等透光性部件而入射到室内的近红外线，由此，与以往的红外线反射基板同样地，可以期待在夏。
33、季的遮热效果。0086于是，根据通过以上的制造方法制作的本实施方式的红外线反射基板，如上所述，对保护层3赋予了良好的耐擦伤性。即，通过使保护层3的高分子彼此交联而提高了保护层3的耐溶剂性。由此，即使在可溶解高分子的溶剂接触保护层3时，也能够防止保护层3溶出，因此，能够防止因红外线反射层2露出而造成耐擦伤性降低。对于本实施方式的红外线反射基板而言，为了达成该目的，对甲乙酮的溶解性试验后的凝胶率设定为70以上。其中，优选为75以上。更优选为80以上。0087另外，保护层3含有耐溶剂性优异的高分子时，通过使保护层3的高分子交联，能够防止以物理摩擦为起因的剥离，因此，能够防止因红外线反射层2露出而造成。
34、耐擦伤性降低。0088另外，根据本实施方式的红外线反射基板的制造方法，如上所述地制备的高分子组合物溶液还包含相对于高分子100重量份为1重量份20重量份的自由基聚合性单体，因此保护层3的高分子彼此变得易于借助自由基聚合型单体交联，即使降低电子射线的照射剂量至70KGY以下，例如至50KGY左右，也能够得到高分子彼此的充分交联。因此，可以使电子射线的照射剂量为低照射剂量。0089另外，通过使保护层3的高分子彼此借助自由基聚合型单体交联，保护层3的耐溶剂性提高。由此，即使在可溶解高分子的溶剂接触保护层3时，也能够防止保护层3溶出。因此，能够防止因反射层2露出而造成耐擦伤性降低。0090第二实施方式。
35、0091以下，对本发明的红外线反射基板的制造方法的第二实施方式进行说明。首先，参照图2对本实施方式的红外线反射基板的层叠结构进行说明。需要说明的是，本实施方式说明书CN104136945A109/15页11的红外线反射基板为在以往的红外线反射基板所具有的遮热特性近红外线的反射特性的基础上，还兼具绝热特性远红外线的反射特性的红外线反射基板。0092如图2所示，本实施方式的红外线反射基板在反射层2上反射层2与保护层3之间形成了易粘接层5，除该点以外，与第一实施方式的红外线反射基板为相同的构成，因此对相同的构成赋予相同的参照标记，不再反复详细说明。0093本实施方式中，作为易粘接层5，可以使用硅烷偶。
36、联剂，但并不限定于此。0094硅烷偶联剂为由有机物与硅构成的有机硅化合物，在一分子中具有不同反应基团。更具体而言，硅烷偶联剂在一分子中具有能够与有机物产生反应、相互作用的有机官能团例如，乙烯基、甲基丙烯酰基、异氰酸酯基、环氧基、氨基、巯基、苯乙烯基、硫醚基等和水解性基团。硅烷偶联剂利用该反应基团的结构，借助有机官能团而与有机物形成化学键，并且通过使水解性基团水解、反应而与无机物表面等形成化学键，从而能够使化学性质不同的化合物牢固地键合。在以下所示的实施例中使用了乙烯基系的硅烷偶联剂。实施例中虽然使用了乙烯基系的硅烷偶联剂，但硅烷偶联剂并不限定于此。0095易粘接层5按照如下的顺序形成使上述化合。
37、物溶解在溶剂中来制备溶液，将该溶液涂布在反射层2上，接着使溶液干燥使溶剂挥发，从保护层3的表面侧照射作为活性能量射线的电子射线。需要说明的是，活性能量射线是指促进化学反应或物理变化的能量射线，在本实施方式中，活性能量射线起到促进保护层3与易粘接层5之间形成化学键的作用。更具体而言，将溶液涂布在反射层2上，在使溶液干燥使溶剂挥发了的状态下在其上形成保护层3，从保护层3的表面侧照射电子射线等活性能量射线，从而在保护层3与易粘接层5之间形成交联结构等化学键，保护层3与易粘接层5得以键合。如此，通过在反射层2与保护层3之间形成易粘接层5而提高了保护层3与反射层2之间的密合性，因此保护层3变得难以从反射。
38、层2剥离而露出耐擦伤性低的反射层2。0096对本实施方式的红外线反射基板的构成的说明如上所述，接着，对本实施方式的红外线反射基板的制作方法进行说明。需要说明的是，本实施方式的红外线反射基板的制作方法具备在反射层2上反射层2与保护层3之间形成易粘接层5的步骤，除此以外与第一实施方式的红外线反射基板的制作方法相同，因此省略详细说明。0097在反射层2上形成易粘接层5的步骤中，与第一实施方式的红外线反射基板的制作方法同样地，在基材1的一个面1A上形成反射层2后，使用线棒等在该反射层2上涂布使上述硅烷偶联剂溶解在溶剂中得到的溶液并使溶液干燥，从而形成易粘接层5。其后，在该易粘接层5上形成保护层3，利用。
39、前述电子射线照射装置从保护层3的表面侧照射电子射线。如此操作，完成本实施方式的红外线反射基板。0098对于根据通过以上的制造方法制作的本实施方式的红外线反射基板，在与上述第一实施方式的红外线反射基板同样的效果的基础上，由于还具备在反射层2上反射层2与保护层3之间形成易粘接层5的步骤，因此如上所述，易粘接层5与保护层3得以化学键合、反射层2与保护层3借助易粘接层5而被粘接，从而反射层2与保护层3之间的粘接性提高。因此，即使在保护层3受到来自外部的应力时，保护层3也难以从反射层2剥离。因此，可以防止因保护层3的剥离而露出耐擦伤性低的反射层2、反射层2受到损伤之类的情况发生。0099第三实施方式说明。
40、书CN104136945A1110/15页120100以下，对本发明的红外线反射基板的制造方法的第三实施方式进行说明。首先，参照图3对本实施方式的红外线反射基板的层叠结构进行说明。0101如图3所示，本实施方式的红外线反射基板夹着粘接层6在反射层2上层叠作为薄膜的保护层3，除该点以外，与第一和第二实施方式的红外线反射基板为相同的构成，因此对相同的构成赋予相同的参照标记，不再反复详细说明。0102在本实施方式中，例如按照如下顺序以薄膜的形式形成保护层3使上述高分子和根据需要的上述交联剂一起溶解在溶剂中来制备上述高分子组合物溶液，代替上述基材1，将该溶液涂布在支撑板未图示上并干燥，然后从该支撑板剥。
41、离。0103另外，作为保护层3，也可以利用公知方法将包含上述高分子的薄膜进行拉伸来制作双轴拉伸薄膜，并使用该双轴拉伸薄膜。另外，也可以使用市售品的双轴拉伸薄膜，作为该双轴拉伸薄膜，有TORAYINDUSTRIES,INC制造的“TORAYFAN注册商标”等。此时，与前述同样，对于保护层3的厚度，作为下限值，为5M以上，另外，作为上限值，为30M以下。0104在本实施方式中，作为粘接层6，使用聚酯系粘接剂。在本实施方式中，作为粘接层6，使用聚酯系粘接剂，但并不限定于此。需要说明的是，粘接层6的厚度优选为0115M。0105对本实施方式的红外线反射基板的构成的说明如上所述，接着，对本实施方式的红外。
42、线反射基板的制作方法进行说明。需要说明的是，本实施方式的红外线反射基板的制作方法使用含有上述高分子的薄膜作为保护层3，且将反射层2与保护层3层叠的步骤具备夹着粘接层6在反射层2上层叠保护层3的步骤，除此以外，与第一实施方式的红外线反射基板的制作方法相同，因此不再反复详细说明。0106在将反射层2与保护层3层叠的步骤中，在保护层3的一个面3A上涂布如上所述的粘接剂，将其层叠在反射层2上并使其干燥。其后，利用前述的电子射线照射装置从保护层3的表面侧照射电子射线。如此操作，完成本实施方式的红外线反射基板。0107需要说明的是，本实施方式的制造方法除了具备这样在反射层2上层叠薄膜状的保护层3后照射电子。
43、射线的工序以外，也可以具备对薄膜状的保护层3照射电子射线后将该照射了电子射线的保护层3层叠在反射层2上的工序。它们的任意方法均包括在本发明的制造方法中。0108另外，根据具备对保护层3照射电子射线后将该经照射的保护层3层叠在反射层2上的工序的红外线反射基板的制造方法，在与上述第一实施方式的红外线反射基板的制造方法相同效果的基础上，能够得到照射了电子射线的保护层3而不对基材1、反射层2照射电子射线。由此，能够得到因电子射线的照射而造成的、对基材1的损坏黄变机械强度降低等等的产生受到抑制的红外线反射基板。0109第四实施方式0110以下，对本发明的红外线反射基板的制造方法的第四实施方式进行说明。0。
44、111如图4所示，本实施方式的红外线反射基板不具备基材1，是保护层3与反射层2直接层叠而形成的具体而言，在保护层3的一个面3A上直接形成了反射层，并且保护层3为与第三实施方式相同的薄膜，除这些方面以外，与第一实施方式的红外线反射基板为相同的构成，因此对相同的构成赋予相同的参照标记，不再反复详细说明。说明书CN104136945A1211/15页130112另外，本实施方式的红外线反射基板的制作方法使用与第三实施方式相同的薄膜作为保护层3，并且具有在保护层3的一个面3A上形成反射层2的步骤作为将反射层2与保护层3层叠的步骤，除此以外，与第一实施方式的红外线反射基板的制作方法相同，因此不再反复详细。
45、说明。0113在保护层3的一个面3A上形成反射层2的步骤中，在与第三实施方式相同的保护层3的一个面3A上，与第一实施方式同样地操作形成反射层2。即，代替第一实施方式中的基材1的一个面1A，在作为薄膜的保护层3的一个面3A上，与第一实施方式同样操作形成反射层2。其后，利用前述的电子射线照射装置从保护层3的表面侧照射电子射线。如此操作，完成本实施方式的红外线反射基板。需要说明的是，本实施方式中，也可以与上述第三实施方式同样，在对保护层3照射电子射线后，在照射了该电子射线的保护层3的一个面3A上形成反射层。0114实施例0115此处，本发明人等制作了本实施方式的红外线反射基板实施例，且一并制作了比较。
46、用的红外线反射基板比较例。0116实施例、比较例的制作方法均如下所述。使用厚度为50M的聚对苯二甲酸乙二醇酯基板三菱树脂株式会社制造，商品名“DIAFOILT602E50”作为基材1。在该基材1的一个面1A上通过DC磁控溅射法形成反射层2。详细而言，使用DC磁控溅射法，在基材1的一个面1A上以35NM的厚度形成由氧化铟锡形成的金属氧化物层2B，在其上以18NM的厚度形成由AGPDCU合金形成的半透明金属层2A，在其上以35NM的厚度形成由氧化铟锡形成的金属氧化物层2C，将其作为反射层2。然后，在该反射层2上形成保护层3。需要说明的是，保护层3的详细形成条件分别在实施例、比较例的说明中进行详述。。
47、0117实施例10118利用涂覆法在通过上述制作方法制作的反射层2上形成保护层3。具体而言，使用涂膜器在反射层2上涂布氢化丁腈橡胶LANXESS公司制造，商品名“THERBAN5065”K333、L63、M37、R1R3H的10甲乙酮MEK溶液，放入空气循环式的干燥烘箱，在120下进行2分钟干燥。由此，形成厚度为5M的保护层3。其后，使用电子射线照射装置岩崎电气株式会社制造，产品名“EC250/30/20MA”从保护层3表面侧照射电子射线，得到实施例1的红外线反射基板。电子射线的照射条件设为线速度3M/MIN、加速电压150KV、照射剂量100KGY。0119实施例20120使电子射线的照射剂。
48、量为200KGY，除此以外，与实施例1相同。0121实施例30122向氢化丁腈橡胶LANXESS公司制造，商品名“THERBAN5065”K333、L63、M37、R1R3H的10甲乙酮MEK溶液中添加相对于氢化丁腈橡胶的固体成分为5重量5重量份的甲基丙烯酸酯类单体大阪有机化学株式会社制造，商品名“VISCOAT295”，并且使电子射线的照射剂量为50KGY，除此以外，与实施例1相同。0123实施例40124向氢化丁腈橡胶LANXESS公司制造，商品名“THERBAN5065”K333、L63、M37、R1R3H的10甲乙酮MEK溶液中添加相对于氢化丁腈橡胶的固体成分为说明书CN1041369。
49、45A1312/15页1410重量10重量份的甲基丙烯酸酯类单体大阪有机化学株式会社制造，商品名“VISCOAT295”，除此以外，与实施例3相同。0125实施例50126添加相对于氢化丁腈橡胶的固体成分为15重量15重量份的甲基丙烯酸酯类单体大阪有机化学株式会社制造，商品名“VISCOAT295”，除此以外，与实施例3相同。0127实施例60128添加相对于氢化丁腈橡胶的固体成分为20重量20重量份的甲基丙烯酸酯类单体大阪有机化学株式会社制造，商品名“VISCOAT295”，除此以外，与实施例3相同。0129实施例70130作为氢化丁腈橡胶，使用商品名“THERBAN5005”LANXESS公司制造K333、L667、M0、R1R3H代替上述商品名“THERBAN5065”，除此以外，与实施例1相同。0131比较例10132不照射电子射线，除此以外，与实施例1相同。0133实施例80134将厚度为15M的由双轴拉伸聚丙烯OPP薄膜TORAYINDUSTRIES,INC制造。