处理工件的装置.pdf

本发明涉及一种用于中空物体例如塑料饮料瓶镀层的装置。本发明的目的是提供一种用于处理工件的装置，该装置操作可靠，且维修费用低，能够灵活地适应用户的需要或所期望的工艺顺序的需要，且该装置允许有效地抽成真空。根据本发明的装置由下面的部件组成：至少一处理装置(101)，用于接收至少一工件，转子，所述处理装置安装于其上，流体循环引入装置，用于将至少一流体输送到所述转子上和/或用于从所述转子中排出至少一流体，所述流体循环引入装置具有枢轴和轴套，它们彼此间至少分几部分密封，且所述枢轴可旋转地布置在轴套内。所提出的径向布置特别不易发生故障且花费很少的维修费用。

1.  一种处理工件的设备(1)，尤其用于在应用流体的条件下对中空物体进行等离子镀层，由下述部分组成：
至少一处理装置(101)，用于接收至少一工件，
转子(32)，所述处理装置(101)安装于其上，
流体循环引入装置(82，182)，用于将至少一流体输送给所述转子(32)和/或用于从所述转子(32)排出至少一流体，所述流体循环引入装置(82，182)具有枢轴(2，102)和轴套(4，104)，它们彼此间至少分几部分密封，且所述枢轴(2，102)可旋转地布置在轴套(4，104)内。

2.  如权利要求1所述的设备(1)，其特征在于，枢轴(2，102)具有流体通道(121-126)，流体流经这些通道被输送到转子(32)上的处理装置(101)和/或从转子(32)上的处理装置(101)排出。

3.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，枢轴(2，102)和轴套(4，104)每个具有线性连接件(134，136)，它们通过流体通道(121-136)彼此连接，以使流体的流动成为可能。

4.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，枢轴(2，102)基本上是圆柱体的形式，轴套(4，104)基本上是中空圆柱体的形式，且所述枢轴同轴地布置在所述轴套内，所述流体循环引入装置(82，182)沿转子轴(7)延伸。

5.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，轴套(4，104)以旋转固定的方式紧固在转子(32)上且围绕转子旋转。

6.  如前面权利要求之一所述的设备，其特征在于，枢轴(2，102)以旋转固定的方式紧固在转子(32)上且围绕转子旋转。

7.  如前面权利要求之一所述的设备，其特征在于，枢轴(2，102)具有至少一通道(21)，所述通道具有轴向和径向通道截面(23，25)，径向通道截面(25)在枢轴(2，102)的侧面(28)内变宽。

8.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，轴套(4，104)或枢轴(2，102)具有至少一环绕枢轴的环形通道(41-44)，与轴向通道截面(23)，径向通道截面(25)和环形通道(21)共同形成流体通道。

9.  如权利要求8所述的设备(1)，包括：至少第一和第二密封件(30)，其轴向偏移地布置在环形通道(41-44)的第一/第二侧上，第一和第二密封件(30)被设计为环形密封。

10.  如权利要求9所述的设备(1)，其特征在于，密封件(30)用油润滑。

11.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，在流体循环引入装置(82，182)中包括密封剂管线。

12.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，环形通道(141-146)被设计成自始至终旋转，枢轴和轴套的线性连接件(124，126，128，130)在转子旋转期间彼此连续地连接。

13.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，轴套(4，104)有多个径向呈星形布置的线性连接件(511，512)，每一处理装置(101)被指定一个线性连接件。

14.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其包括多个流体通道(21-24)，枢轴(2，102)具有多个通道，所述通道在所有情况下具有轴向和径向通道截面(23，24；25，26)，径向通道截面(25，26)在枢轴(2，102)的侧面(28)内变宽，且轴向通道截面(23，24)以环状方式偏移。

15.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，处理装置(101)在操作中经过至少一抽吸阶段和至少一镀层阶段，处理装置(101)，在抽吸阶段期间通过第一流体通道(121)与第一真空泵(202，204)相连接，和在第二镀层阶段期间通过第二流体通道(125)与第二真空泵(212，214，216，218)相连接。

16.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，轴套(4，104)或枢轴(2，102)具有多个环形通道(41-44)，它们在所有情况下与径向通道截面(25，26)之一相连接，在所有情况下一径向通道截面(25，26)和相关的位于单一平面上的环形通道，和不同的环形通道(41-44)彼此间轴向偏移。

17.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，在所有情况下，在环形通道(41-44)之间具有至少一环形密封件(30)。

18.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，流体的供应和排出通过阀门装置(260)临时控制。

19.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，流体循环引入装置(82，182)包括至少一气体供应通道(122)和至少一排空通道(121)，流体经气体供应通道(122)输送给转子上的处理装置(101)，和包括从处理装置(101)排出的流体利用真空泵(206-218)经排空通道(121)排出。

20.  如权利要求19所述的设备(1)，其特征在于，排空通道(121)内部直径的尺寸为从25mm到250mm，和气体供应通道(122)内部直径的尺寸为从5mm到50mm。

21.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，流体循环引入装置(82，182)具有多个气体供应通道(122，124，126)和多个气体排空通道(121，123，125)。

22.  如前面权利要求之一所述的设备(1)，其特征在于，处理装置(101)在处理工件期间至少偶尔通过真空泵(206-218)抽成真空，在多个阶段执行抽真空，且至少真空泵(206，212)之一安装在转子上。

23.  一种为处理工件的设备设计的流体循环引入装置(82，182)，具有至少一个的处理装置(101)和转子(32)，所述处理装置用于接收至少一个工件，且所述处理工件(101)安装在所述转子上，如前面权利要求之一所述，在应用流体的条件下，流体循环引入装置是为了用于中空物体等离子镀层的设备(1)特别设计的，流体循环引入装置(82，182)由下列部件组成：枢轴(2，102)和轴套(4，104)，它们彼此间至少分几部分密封，每个枢轴和轴套具有线性连接件(134，136)，它们彼此间经流体循环引入装置(82，182)上的流体通道(121)至少偶尔连接，使得流体流经流体循环引入装置(82，182)是可能的，且枢轴(2，102)可旋转地安装在轴套(4，104)内。

处理工件的装置
技术领域
本发明通常涉及一种使用流体处理工件的装置，尤其涉及一种用于对中空物体进行镀层的装置。
背景技术
塑料，尤其是透明塑料，变得越来越重要，在许多领域作为优选材料替代玻璃。
一个这样的例子是饮料瓶，几年前饮料瓶几乎专由玻璃制造，但现在大部分由PET塑料制造。这样做的理由是避免了巨大的重量。
然而，与玻璃瓶相比，塑料瓶有许多缺点，例如所用的塑料，例如PET，不是完全不透气的，因此，尤其在含有二氧化碳的饮料的情况下，除非采用特殊的预防措施，其保存期限比采用玻璃瓶包装要短。
因此，用PICVD工艺在内部和/或外部给塑料瓶提供一阻挡层，以延长保存期限。
由于饮料瓶是大量生产的产品，在成本上有很大的压力，因此永远需要改进镀层工艺和改进用镀层工艺的装置。
因此，为了给PET瓶和由绝缘材料优选为塑料制成的工件有效地进行镀覆，期望研制出这样一种设备，该设备能够实现非常短的循环周期且因此获得较高的生产率。通常所需的生产率大约为每小时10,000个瓶。
WO00/58631中公开了一种这样类型的、用于处理中空物体的设备，该设备采用转盘式输送带，其中在转盘式输送带上布置了20个相同的处理站。
泵的重量和体积使其不能布置在转盘上，在此基础上，在上述文件中所述的发明进行工作。因此，泵安装在一个固定的位置，且使用旋转连接装置或分配器将泵与处理站连接起来。
此外，20个处理站被分成两组，每一组配有独立的、相等的压力源，或在泵与其所连接的处理站的基础上区分为两个组。旋转分配器决定在转盘式输送带转动期间，某个泵与某个处理站在转盘式输送带保持连通的次数，为此两个组的旋转分配器具有旋转环和固定环，该旋转环有20个开口处，固定环在所有情况下具有3个槽。
然而，这种机器有许多严重的缺陷。
泵的固定布置是不利的，由于处理站和泵之间的距离比较大，因此降低了泵功率。
此外，灰尘或镀层碎片的脱落可能堆积在抽空管道和分配器中，这对密封有不利的影响，且要负担较高的维修费用。
然而，特殊的缺点是由于同轴的布置圆盘使用可旋转的分配器。这种类型的分配器非常难以密封，尤其易于产生由外物导致的故障。此外，由于固定的、开放式的布置，分配器不允许工艺顺序以任何方式发生改变，导致工艺顺序是固定的。
发明概述
因此本发明的基本目的是提供一种用于处理工件的设备，所述设备避免或至少减少已知设备的缺点。
本发明进一步的目的是提供一种用于处理工件的设备，所述设备操作可靠且维修费用低。
然而，本发明进一步的目的是提供一种用于处理工件的设备，所述设备能够灵活地与用户的需要或所期望的工艺顺序的需要相配合。
然而，本发明的另一个的目的是提供一种用于处理工件的设备，所述设备允许有效的抽成真空。
本发明的目的由独立权利要求的主题以非常简单的方式实现。本发明有利的改进被限定在从属权利要求中。
本发明的一实施例提供一种用于处理工件的设备，尤其是在应用流体的条件下对中空物体进行等离子镀层的设备，该设备由下述部件组成：至少一处理装置，优选多个处理装置，用于在所有情况下接收至少一工件。尤其，通过PICVD(等离子脉冲化学汽相沉积法)工艺对所述工件进行内部和/或外部镀层。处理装置固定在转子或转盘式输送带上且在操作中围绕转子轴旋转，同时一个处理周期优选与一个转子的旋转角360°相互关联。
此外，所述装置由流体循环引入装置组成，所述流体循环引入装置用于向转子输送至少一股流体和/或用于从转子排出至少一股流体。优选处理装置在多个阶段中由真空泵逐步排成真空，尤其采用至少一些真空泵布置在固定的位置，即转子的外部。因此举例来说，通过循环引入装置实现真空通道或真空区与转子相通。
另一方面，为了例如执行工件地等离子镀层，尤其是塑料饮料瓶，向处理装置供应流体或生产气体。等离子镀层，尤其是塑料饮料瓶。这些流体，例如从固定的流体供应装置，同样优选经流体循环引入装置流到转子上。尤其，枢轴和轴套具有一个或多个流体通道，流体穿过所述流体通道输送到转子上的处理装置和/或从转子上的处理装置排出。因此，流体循环引入装置优选限定一个或多个流体通道，流体流经这些通道，从轴套上的连接装置流到相关枢轴上的连接装置，和/或反过来也是如此。
根据本发明的流体循环引入装置优选基本上具有圆柱体枢轴或轴销和中空圆柱形的轴套或环形轴套。所述枢轴在轴套内可旋转地布置，且至少在其侧面上的部分中相对于轴套密封。
此外，枢轴优选同轴地布置在轴套内，且流体循环引入装置沿转子轴延伸。
依照本发明的流体循环引入装置径向或同心的设计有许多优点。
流体循环引入装置是简单且可靠的设计。此外，使用廉价的、普通的密封件是可能的。此外，涉及在固定部分和旋转部分之间的整个旋转角360°的、持续的流体连接是可能的。
此外，由于在一定的范围内，流体循环引入装置的直径与其中的流体通道的数量无关，根据本发明的流体循环引入装置适合使多股流体穿过。此外，流体循环引入装置以致密组织为特征，且因此能够以易于实现的方式布置。这降低了用于改变密封件的费用。易于实现的改进也使定位和消除泄漏变得容易。
因此，本发明提供一种旋转设备，所述设备采用持续旋转的转子和呈放射状布置的、相同的镀层站，所述镀层站采用高精确性的工业镀层工艺。
流体循环引入装置尤其优选以这样的方式与设备保持一致：轴套紧固在转子旋转固定的位置上且随转子旋转，和枢轴位于固定的位置上。假如这样的话，连接件的布置与镀层设备的配合特别简单。然而，相反的设计，采用枢轴在操作中旋转而轴套是固定的，也是可能的。优选枢轴为具有基本L型或U型的通道，为每一流体，所述通道具有至少一轴向和至少一径向通道截面，在此情况下，为了与轴套的通道截面进行连接，径向通道截面在枢轴的侧面变宽。
此外，轴套和/或枢轴优选具有至少一环形通道，其围绕所述枢轴，所述环形通道至少有时与枢轴的径向通道截面相连接，优选持续连接，轴向通道截面，径向通道截面和环形通道一起形成流体循环引入装置内的流体通道或成为此流体通道的一部分。
在环形通道的两侧，枢轴和轴套是密封的，优选利用在所有情况下一种径向布置的密封件，尤其是环形密封件，即，所述密封件避免流体沿轴向流入或流出枢轴和轴套之间。环形密封件例如通过金属或橡胶密封实现，优选通过密封剂润滑实现，例如可用于真空应用的油。
这形成根据本发明的流体循环引入装置更多优点的基础，由于以简单的方式提供密封剂区是可能的，因此，即使当设备在运行中，实现密封剂的也许连续或长期的供应或为密封件提供润滑是可能的。因此，流体循环引入装置有较长的使用期限且需要较少的维修费用。
根据本发明的特殊改进，轴套具有多个径向布置的线性连接件，所述线性连接件在轴平面内呈星形分布，每一个处理装置被指定专用的线性连接件。作为一种替代方案，然而，为了给处理装置分配流体或使其抽成真空，在转子侧面上的流体循环引入装置上仅提供一个线性连接件也是可能的，且使流体区在流体循环引入装置和处理装置之间分开也是可能的。
优选流体循环引入装置具有多个流体通道。这例如依靠枢轴具有多个通道实现，所述通道在所有情况下具有一轴向和一径向通道截面，所述径向通道截面呈星形扩散且在枢轴的侧面上变宽，且所述轴套在所有情况下具有相应有通道截面和线性连接件。
轴向通道截面优选以围绕旋转轴的环形式偏置布置。
在操作中，特别优选处理装置经历至少一个抽吸阶段和至少一个镀层阶段，在抽吸阶段中，处理装置在几个压力等级命令控制下从标准压力开始进行抽吸，在镀层阶段中，在工艺流体或气体的活化作用下，执行中空工件的等离子内部镀层。尤其，在通流模式下执行镀层工艺，所以，在抽吸阶段，处理装置经流体循环引入装置中的第一流体通道与第一真空泵或输送装置相连接，及在镀层阶段，处理装置经流体循环引入装置中的第二分流通道与第二真空泵相连接或旋转耦合。
为此，轴套和/或枢轴具有多个环形通道，所述环形通道在所有情况下与径向通道截面之一相连接，在所有情况下，一径向通道截面和存在于一平面上和相关的环形通道，以致形成一对过渡通道，不同对的过渡通道彼此轴向偏移。为了使通道间彼此密封，优选在所有情况下在环形通道间具有至少一环形密封。
环形通道优选设计成自始至终旋转，及枢轴和轴套的线性连接件在转子360°旋转期间彼此持续连接，这不可能例如采用圆盘式布置。
凭第一观感，由于处理装置在不同的工艺阶段需要不同的工艺参数，持续连接看来似乎是不利的。然而，根据本发明优选的改进，流体的供应和/或排出利用一个或多个活门装置控制，其优选布置在转子上。因此，工艺控制通过流体循环引入装置上单独的阀临时控制。这产生双重利益：首先，在机械上要求很高的循环引入装置被大大简化，不易发生故障，其次工艺控制更加灵活。
关于活门装置和控制，参照2003年5月26日提出的、已授权的专利申请PCT/EP03/05473“处理工件的装置和工艺”和于2002年11月16日以相同申请的名义提出的、已授权的专利申请DE10253513.2“等离子镀层的多位置镀层设备和工艺”，因此在本发明公开的主题内它们被全部引入作为参考。
特别优选流体循环引入装置具有至少一个或多个气体输入通道和一个或多个排空通道，流体经气体输入通道输送到转子上的处理装置，在抽吸阶段和/或镀层阶段，处理装置经排空通道利用一个或多个真空泵抽成真空，在上下文中在每个阶段优选具有单独的压力调节器。
使用同一流体循环引入装置实现既有生产气体供应又有生产气体排空是有利的。
此外，由于功能的原因，气体输入通道和气体排空通道具有不同的直径。因此，排空通道优选具有至少25mm的内部直径，优选在50mm和250mm之间，特别优选在100mm和160mm之间。气体输入通道优选具有从5mm到50mm范围内的内部直径，特别优选在10mm到30mm之间，尤其约为25mm。
优选在处理工件期间处理装置至少偶尔利用真空泵抽成真空，在多个阶段执行抽真空和至少真空泵之一布置在转子上。假如这样的话，特别是在至少一个排空通道中，在循环引入装置之前或循环引入装置之后具有真空泵。
因此流体循环引入装置有利地设计为真空范围＞1mbar及可能设计为具有比较小口径的横截面。因此，在压力＞1mbar范围内，不可避免的泄漏率有利地相对较低。因此，流体循环引入装置设法应付＜10^-2mbar*1/sec的泄漏率。因此能够以较低的成本进行生产。
此外，较小口径的横截面意味着，在经济的和小型的设计中，流体循环引入装置同样能够具有多个流通道，即2，3，4，5，6或更多。
在例举的实施例和参考附图的基础上，下文提供本发明更详细的解释，其中相同和类似的部件具有相同的参考数字，且不同实施例的特征能够被此相结合。
附图的简要说明
在图中：
图1显示处理装置的侧视简图，
图2显示根据本发明第一实施例的流体循环引入装置的纵向剖视图，
图3显示根据本发明第二实施例的流体循环引入装置的纵向剖视图，
图4显示沿图3中的剖面线A-A的剖示图，
图5显示沿图3中的剖面线B-B的剖示图，和
图6显示真空泵组的框图图谱。
优选实施方案的详细说明
图1显示用于中空塑性体等离子镀层的装置1，所述中空塑性体在多个处理装置101中通过PICVD工艺进行镀层。
装置1包括等离子轮或转子32，处理装置101或等离子站紧固在等离子轮或转子上。转子32在运行中围绕固定底座30旋转。在装置1的中央有一流体循环引入装置或气体循环引入装置82，经过该循环引入装置工作介质或生产气体进入旋转着的处理装置101，且处理装置101能够通过安装在转子上和固定位置的泵被抽成真空。
图2显示了所述流体循环引入装置或循环引入装置82的第一实施例。
循环引入装置82由枢轴或轴销2和轴套或环形轴套4组成，所述枢轴或轴销以可旋转的方式固定连接在底座30上，所述轴套以可旋转的方式固定连接在转子32上。环形轴套4通过转动轴承6可旋转地安装在枢轴2上。
轴套4有四个环形通道41，42，43，44，它们彼此轴向偏移地布置。环形通道间的距离45在mm的数量级内。多个连接孔与每个环形通道相连接，在所有情况下，一个连接孔分配给一个处理装置101。图2显示在所有情况下每个环形流道的两个相对的连接孔511，512，521，522，531，532，541，542。
枢轴2有两个流体通道或排空通道，21，22，其内部直径D为102mm。由于环形通道设计成自始至终都是在旋转，排空通道21，22分别持续地与环形通道41和42相连接。因此，循环供应在整个360°的旋转角上形成持续连接。
连接于环形通道43和44的另两个排气通道21，22同样存在于枢轴2上，但由于从循环引入装置82的位置上看，这些通道与图的平面垂直定位，所以在图2的剖视图中看不到这些排气通道。
每个排气通道21，22分别有轴向通道截面23或24，和分别与其连接的径向通道截面25或26，这些径向通道截面在枢轴2的侧面28内变宽，且分别与环形通道41或42相连接。
环形通道的两侧有环形密封件30。
参照图3所示，图3说明循环引入装置182的另一实施例。枢轴102有六个流体通道，解释其中两个不同尺寸的流体通道121，122。每个流体通道上具有六个环形通道141至146之一。
处理装置经过流体通道121被抽成真空，且生产气体经流体通道122进入处理装置。流体通道在形式上基本是U型的，且每一个由沿旋转体7的轴延伸的轴向截面组成。
如果管用作真空泵的附件，处理装置通过管与连接法兰134相连接。固定泵与在通道121另一侧位置较低的连接法兰136相连接。因此，在气体供应侧，通过连接法兰138，气体供应通道122和连接法兰140将气体供应装置与处理装置相连接。
全部的密封件30在密封区采用真空油持续润滑。为了使图清晰，只示出了顶部密封的一个密封区31。
现在看图4，循环引入装置182有三个排空通道121，123和125。排空通道绕轴大约间隔120°角布置。在排空通道之间有三个气体供应通道122，124和126。
现在参照图5说明环绕的环形通道141。如果轴套104绕枢轴102旋转，经环形通道141，在排空通道121和连接法兰134之间有持续的流体连接。
现在看图6，如下执行镀层循环。在第一个抽吸阶段，处理装置利用第一泵组抽成大约在100mbar和1mbar之间的预真空，第一泵组由两个平行连接的旋转式滑动预真空泵202，204组成。进给线经循环引入装置182内的排空通道121与转子32相通。旋转式滑动泵202和204在所有情况下有1200额定m³/h的泵功率。
以所需机器功率，供应下一个容器所需的时间是非常短的。因此，为了分阶段地执行抽真空，提供一第二抽真空阶段。在第二抽真空阶段，处理装置由串联式的第二泵组进行抽真空，第二泵组由第一罗茨泵206，第二罗茨泵208和旋转式滑动泵210组成。
罗茨泵206有4000额定m³/h的泵功率。第二罗茨泵208有1000额定m³/h的泵功率，旋转式滑动泵有100额定m³/h的泵功率。在第二抽真空阶段，处理装置从预真空被抽成大约0.05至0.8mbar的基础压力，其代表在开始镀层之前的压力。
然后，在第一镀层阶段，当第一生产气体流过时，提供给工件第一镀层，所述第一生产气体由通道124提供。
第一镀层阶段之后是第二镀层阶段，在第二镀层阶段，当第二生产气体经通道126流过时，给工件镀上阻挡层。
在第一和第二镀层阶段中，处理装置与串联式第三泵组相连接，第三泵组由第一罗茨泵212，第二罗茨泵214和两个并联的旋转式滑动预真空泵216和218组成。
罗茨泵212有5550额定m³/h的泵功率，罗茨泵214有2000额定m³/h的泵功率，及每一个旋转式滑动预真空泵216和218有100额定m³/h的泵功率。
在抽吸和镀层阶段使用单独的泵组是有利的。由于在镀层工艺期间在生产线和泵中灰尘产生沉淀物的事实，这是有利的。在示范的实施例中，这些沉淀物被限制在泵212，214，216和218中，避免了用于抽吸阶段的泵组被污染。因此，也阻止了镀层阶段中的灰尘渗透到排空通道121和123的密封件30。因此减小了密封圈的磨损，也因此避免了泄漏。
泵202，204，208，210，214，216和218布置在转子外的固定位置，而泵206和212布置在转子上且随其旋转。因此，为了至少一个工艺阶段(抽吸阶段或镀层阶段)，流体循环引入装置布置在至少两个串联连接的真空泵之间。
由于在转子上的两个罗茨泵206和212已经负责预压缩，循环引入装置182只在压力＞1mbar的范围内操作，这有综合优势。因此，循环引入装置的密封被大大简化。大约在＜10^-2mbar*1/sec的泄漏率足以满足设备的正常操作。此外，大约100mm的截面线是足够的。
在达到预期的基本压力之后，执行镀层工艺。至少在第二镀层阶段中，多个处理装置同时与泵212，214，216，218组成的泵组相连接。
镀层后，对处理装置进行排气，使其与外界的压力相同，打开处理装置并将工件运出设备。
至于工艺阶段的控制的细节，参照在同一天申请的、以同一申请人的名义、已授权的申请“处理工件的设备和工艺”[Apparatus and process for treatingworkpieces].
压力，尤其是负压，在所有情况下，在真空区222，224和226内利用各自的压力调节器223，225，227设置，且在所有情况下由一环形分配器232，234和236分别分配到处理装置。临时控制通过两个活门装置或阀组来实现，该活门装置或阀组由阀240，为每一泵组每一处理装置所具有的阀组成。这允许不同的工艺控制程序，以配合镀层的需要。
处理装置的气体供应具有类似的结构。第一和第二镀层阶段所使用的生产气体分别由第一和第二流体源242和244提供。生产气体经循环引入装置182中的通道122和124输送给转子，然后对转子用于下一步的分配和控制，是持续可用的。为了净化处理装置，气源246的净化气体经剩余通道126输送给转子。
在循环引入装置182的后面，生产气体和净化气体通过分配器252，254和256分配到处理装置。临时控制通过阀260实现，阀布置在处理装置和分配器252，254和56之间。
本领域技术人员应该清楚，上述实施例仅仅作为例子被理解，且本发明不限于这些例子，本发明能够以多种方式改变，而没有离开本发明的精神和范围。