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1、10申请公布号CN104122763A43申请公布日20141029CN104122763A21申请号201410157681222申请日2014041810211480620130425TWG03F7/4220060171申请人奇美实业股份有限公司地址中国台湾台南市仁德区三甲里三甲子591号72发明人刘骐铭施俊安74专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所普通合伙11277代理人刘新宇李茂家54发明名称剥离光阻用组成物及其使用方法57摘要本发明涉及剥离光阻用组成物及其使用方法。一种剥离光阻用组成物包含胺系化合物、醇系化合物、季铵盐化合物、有机溶剂以及水。该胺系化合物包括至少一种由下列群组所组。
2、成的叔胺系化合物式I所示的氮杂环化合物及具有至少两个叔胺的链状多胺化合物。该醇系化合物包括至少一种由下列群组所组成的第一醇系化合物糖系化合物及含炔基的醇系化合物。于式I中，A及B如说明书与权利要求中所定义。该剥离光阻用组成物可防止已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上，且具有大洗净容量。30优先权数据51INTCL权利要求书2页说明书12页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书12页10申请公布号CN104122763ACN104122763A1/2页21一种剥离光阻用组成物，其特征在于包含胺系化合物，包括至少一种由下列群组所组成的叔胺系化合物式I所示的氮杂环化合物及。
3、具有至少两个叔胺的链状多胺化合物；于式I中，A及B分别表示或条件是A及B中至少一者表示其中，该R表示未经取代的C1至C4的烷基，或经取代的C1至C4的烷基；醇系化合物，包括至少一种由下列群组所组成的第一醇系化合物糖系化合物及含炔基的醇系化合物；季铵盐化合物；有机溶剂；以及水。2根据权利要求1所述的剥离光阻用组成物，其特征在于，该经取代的C1至C4的烷基选自经羟基取代的C1至C4的烷基、经氨基取代的C1至C4的烷基，或经氰基取代的C1至C4的烷基。3根据权利要求1所述的剥离光阻用组成物，其特征在于，该具有至少两个叔胺的链状多胺化合物选自N,N,N,N四甲基乙二胺、N,N,N,N四甲基丙二胺、双2。
4、N,N二甲基胺基乙基醚、N,N,N,N,N五甲基二亚乙基三胺、N,N,N,N四甲基己二胺，或它们的组合。4根据权利要求1所述的剥离光阻用组成物，其特征在于，基于该胺系化合物的总量为100重量份，该醇系化合物的使用量范围为10至100重量份、该季铵盐化合物的使用量范围为5至100重量份、该有机溶剂的使用量范围为500至4,000重量份，以及该水的使用量范围为100至1,000重量份。5根据权利要求1所述的剥离光阻用组成物，其特征在于，该有机溶剂包括第一溶剂；该第一溶剂选自二醇系化合物、醇醚系化合物，或它们的组合。6根据权利要求1所述的剥离光阻用组成物，其特征在于，该糖系化合物选自葡萄糖、甘露糖、。
5、半乳糖、山梨糖醇、甘露糖醇、木糖醇，或它们的组合。7根据权利要求1所述的剥离光阻用组成物，其特征在于，该含炔基的醇系化合物选自3甲基1丁炔基3醇、3甲基1戊炔基3醇、3,6二甲基4辛炔基3,6二醇、2,4,7,9四甲基5癸炔基4,7二醇、3,5二甲基1己炔基3醇、2丁炔基1,4二醇，或它们的组合。8一种使用剥离光阻用组成物的方法，其特征在于包含以下步骤提供积层体，包括基板、形成在该基板上的金属层或绝缘层，及形成在该金属层或绝缘层上的光阻层；将该积层体的光阻层与权利要求1至7中任一项所述的剥离光阻用组成物接触，直至权利要求书CN104122763A2/2页3该光阻层自该积层体剥离；施予清洗处理。。
6、9根据权利要求8所述的使用剥离光阻用组成物的方法，其特征在于，还包含于清洗处理后，施予干燥处理。权利要求书CN104122763A1/12页4剥离光阻用组成物及其使用方法技术领域0001本发明涉及一种剥离光阻用组成物，特别是涉及一种包含胺系化合物及醇系化合物的剥离光阻用组成物，其中，该醇系化合物包括至少一种由下列群组所组成的第一醇系化合物糖系化合物及含炔基的醇系化合物。背景技术0002在半导体制程中，是在晶片上形成集成电路，而该集成电路是由许多金属线路所构成，其中，所述金属线路主要是通过光刻制程来形成。该光刻制程包含基板处理、光阻涂布、曝光、显影、蚀刻及光阻剥离等步骤。随着集成电路尺寸的微小化。
7、，对所形成的金属线路的品质更为要求，除了通过光阻成分上的改良达到金属线路的品质诉求外，也越来越重视光阻剥离步骤的技术，其中，开发一有效地将光阻从金属线路上剥离的组成物，是此技术领域相关技术人员积极研究的课题。0003日本专利公开号2005070230揭示一种剥离光阻用组成物。该剥离光阻用组成物包含2,3二羟基萘A、有机胺化合物B、极性有机溶剂C及糖类D，其中，有机胺化合物B选自单乙醇胺、异丙醇胺或二甘醇。该剥离光阻用组成物可避免金属线路被腐蚀且可将光阻从金属线路上剥离。虽然该剥离光阻用组成物可将光阻剥离，但会发生已剥离的光阻回沾至金属线路上的现象，且每单位体积的剥离光阻用组成物剥离光阻的效率不。
8、佳，以致于洗净容量CAPACITYFORCLEANING不足。0004鉴于上述，改良剥离光阻用组成物从而避免已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上，同时，提高剥离光阻用组成物的洗净容量，是此技术领域相关技术人员可再突破的课题。发明内容0005本发明的第一目的在于提供一种避免已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上且具有大洗净容量的剥离光阻用组成物。0006本发明剥离光阻用组成物，包含0007胺系化合物，包括至少一种由下列群组所组成的叔胺系化合物式I所示的氮杂环化合物及具有至少两个叔胺的链状多胺化合物；00080009于式I中，A及B分别表示或条件是A及B中说明书CN104122763A2/12页5至少一。
9、者表示其中，该R表示未经取代的C1至C4的烷基，或经取代的C1至C4的烷基；0010醇系化合物，包括至少一种由下列群组所组成的第一醇系化合物糖系化合物及含炔基的醇系化合物；0011季铵盐化合物；0012有机溶剂；以及0013水。0014本发明剥离光阻用组成物，该经取代的C1至C4的烷基选自经羟基取代的C1至C4的烷基、经氨基取代的C1至C4的烷基，或经氰基取代的C1至C4的烷基。0015本发明剥离光阻用组成物，该具有至少两个叔胺的链状多胺化合物选自N,N,N,N四甲基乙二胺、N,N,N,N四甲基丙二胺、双2N,N二甲基氨基乙基醚、N,N,N,N,N五甲基二亚乙基三胺、N,N,N,N四甲基己二胺。
10、，或它们的组合。0016本发明剥离光阻用组成物，基于该胺系化合物的总量为100重量份，该醇系化合物的使用量范围为10至100重量份、该季铵盐化合物的使用量范围为5至100重量份、该有机溶剂的使用量范围为500至4,000重量份，以及该水的使用量范围为100至1,000重量份。0017本发明剥离光阻用组成物，该有机溶剂包括第一溶剂；该第一溶剂选自二醇系化合物、醇醚系化合物，或它们的组合。0018本发明剥离光阻用组成物，该糖系化合物选自葡萄糖、甘露糖、半乳糖、山梨糖醇、甘露糖醇、木糖醇，或它们的组合。0019本发明剥离光阻用组成物，该含炔基的醇系化合物选自3甲基1丁炔基3醇、3甲基1戊炔基3醇、3。
11、,6二甲基4辛炔基3,6二醇、2,4,7,9四甲基5癸炔基4,7二醇、3,5二甲基1己炔基3醇、2丁炔基1,4二醇，或它们的组合。0020本发明的第二目的在于提供一种使用剥离光阻用组成物的方法。0021本发明使用剥离光阻用组成物的方法，包含以下步骤0022提供积层体，包括基板、形成在该基板上的金属层或绝缘层，及形成在该金属层或绝缘层上的光阻层；0023将该积层体的光阻层与上述的剥离光阻用组成物接触，直至该光阻层自该积层体剥离；0024施予清洗处理。0025本发明使用剥离光阻用组成物的方法，还包含于清洗处理后，施予干燥处理。0026本发明的有益效果在于该剥离光阻用组成物通过所述成分的协同效应，使。
12、该剥离光阻用组成物可防止已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上，继而提升后续制程的良率，且该剥离光阻用组成物具有大洗净容量，可使每单位体积的剥离光阻用组成物剥离光阻的量增加，继而可提升产能及使用效益。具体实施方式说明书CN104122763A3/12页60027本发明剥离光阻用组成物，包含0028胺系化合物，包括至少一种由下列群组所组成的叔胺系化合物式I所示的氮杂环化合物及具有至少两个叔胺的链状多胺化合物；00290030于式I中，A及B分别表示或条件是A及B中至少一者表示其中，该R表示未经取代的C1至C4的烷基，或经取代的C1至C4的烷基；0031醇系化合物，包括至少一种由下列群组所组成的第一醇。
13、系化合物糖系化合物及含炔基的醇系化合物；0032季铵盐化合物；0033有机溶剂；以及0034水。0035以下将逐一对该剥离光阻用组成物中的各个成分进行详细说明00360037该胺系化合物包括至少一种由下列群组所组成的叔胺系化合物式I所示的氮杂环化合物及具有至少两个叔胺的链状多胺化合物。该剥离光阻用组成物中未使用式I所示的氮杂环化合物或具有至少两个叔胺的链状多胺化合物，则会产生已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层的问题，且该剥离光阻用组成物的洗净容量不佳。00380039式I所示的氮杂环化合物0040该式I所示的氮杂环化合物00410042于式I中，A及B分别表示或条件是A及B中至少一者表示其中，该。
14、R表示未经取代的C1至C4的烷基，或经取代的C1至C4的烷基。0043该经取代的C1至C4的烷基选自经羟基取代的C1至C4的烷基、经氨基取代的C1至C4的烷基，或经氰基取代的C1至C4的烷基。说明书CN104122763A4/12页70044该式I所示的氮杂环化合物可单独或混合使用，且该式I所示的氮杂环化合物例如但不限于吗啉MORPHOLINE、N甲基吗啉NMETHYLMORPHOLINE、N乙基吗啉NETHYLMORPHOLINE、N丙基吗啉NPROPYLMORPHOLINE、N丁基吗啉NBUTYLMORPHOLINE、N2羟基乙基吗啉N2HYDROXYETHYLMORPHOLINE、N3氨。
15、基丙基吗啉N3AMINOPROPYLMORPHOLINE、N2氰基乙基吗啉N2CYANOETHYLMORPHOLINE、N2氨基乙基哌嗪N2AMINOETHYLPIPERAZINE、N2羟基乙基哌嗪N2HYDROXYETHYLPIPERAZINE，或N甲基N2羟基乙基哌嗪NMETHYLN2HYDROXYETHYLPIPERAZINE等。0045较佳地，该式I所示的氮杂环化合物选自N2氨基乙基哌嗪、N2羟基乙基哌嗪、N3氨基丙基吗啉，或它们的组合。0046具有至少两个叔胺的链状多胺化合物0047该具有至少两个叔胺的链状多胺化合物选自N,N,N,N四甲基乙二胺N,N,N,NTETRAMETHYLE。
16、THYLENEDIAMINE、N,N,N,N四甲基丙二胺N,N,N,NTETRAMETHYLPROPYLENEDIAMINE、双2N,N二甲基氨基乙基醚BIS2N,NDIMETHYLAMINOETHYLETHER、N,N,N,N,N五甲基二亚乙基三胺N,N,N,N,NPENTAMETHYLDIETHYLENETRIAMINE、N,N,N,N四甲基己二胺N,N,N,NTETRAMETHYLHEXAMETHYLENEDIAMINE，或它们的组合。0048较佳地，该具有至少两个叔胺的链状多胺化合物选自N,N,N,N四甲基乙二胺、双2N,N二甲基氨基乙基醚、N,N,N,N,N五甲基二亚乙基三胺，或它们。
17、的组合。0049该胺系化合物还包括至少一种由下列群组所组成的其他胺系化合物单乙醇胺MONOETHANOLAMINE、二乙醇胺DIETHANOLAMINE、三乙醇胺TRIETHANOLAMINE、22氨基乙氧基乙醇22AMINOETHOXYETHANOL、N2氨基乙基乙醇胺N2AMINOETHYLETHANOLAMINE、N,N二甲基乙醇胺N,NDIMETHYLETHANOLAMINE、N,N二乙基乙醇胺N,NDIETHYLETHANOLAMINE、N,N二丁基二乙醇胺N,NDIBUTYLETHANOLAMINE、N甲基乙醇胺NMETHYLETHANOLAMINE、N乙基乙醇胺NETHYLETH。
18、ANOLAMINE、N丁基乙醇胺NBUTYLETHANOLAMINE、N甲基二乙醇胺NMETHYLDIETHANOLAMINE、N乙基二乙醇胺NETHYLDIETHANOLAMINE、单异丙醇胺MONOISOPROPANOLAMINE、二异丙醇胺DIISOPROPANOLAMINE、三异丙醇胺TRIISOPROPANOLAMINE、乙二胺ETHYLENEDIAMINE、二亚乙基三胺DIETHYLENETRIAMINE、三亚乙基四胺TRIETHYLENETETRAMINE、四亚乙基五胺TETRAETHYLENEPENTAMINE、五亚乙基六胺PENTAETHYLENEHEXAMINE、三亚乙基二。
19、胺TRIETHYLENEDIAMINE、丙二胺PROPANEDIAMINE、丁二胺BUTANEDIAMINE、己二胺HEXAMETHYLENEDIAMINE、咪唑IMIDAZOLE、1甲基咪唑1METHYLIMIDAZOLE、2甲基咪唑2METHYLIMIDAZOLE、1,2二甲基咪唑1,2DIMETHYLIMIDAZOLE、1,2,4,5四甲基咪唑1,2,4,5TETRAMETHYLIMIDAZOLE、2乙基4甲基咪唑2ETHYL4METHYLIMIDAZOLE、环己胺CYCLOHEXYLAMINE、2乙基己基胺2ETHYLHEXYLAMINE、芐胺BENZYLAMINE、苯胺ANILINE。
20、、三乙胺TRIETHYLAMINE、三丙胺TRIPROPYLAMINE及三正丁胺TRIBUTYLAMINE。说明书CN104122763A5/12页800500051该醇系化合物包括至少一种由下列群组所组成的第一醇系化合物糖系化合物及含炔基的醇系化合物。该剥离光阻用组成物中未使用该醇系化合物，则会产生已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层的问题。00520053糖系化合物0054该糖系化合物选自葡萄糖GLUCOSE、甘露糖MANNOSE、半乳糖GALACTOSE、山梨糖醇SORBITOL、甘露糖醇MANNITOL、木糖醇XYLITOL，或它们的组合。0055含炔基的醇系化合物0056该含炔基的醇系化。
21、合物选自3甲基1丁炔基3醇3METHYL1BUTYNE3OL、3甲基1戊炔基3醇3METHYL1PENTYNE3OL、3,6二甲基4辛炔基3,6二醇3,6DIMETHYL4OCTYNE3,6DIOL、2,4,7,9四甲基5癸炔基4,7二醇2,4,7,9TETRAMETHYL5DECYNE4,7DIOL、3,5二甲基1己炔基3醇3,5DIMETHYL1HEXYNE3OL、2丁炔基1,4二醇2BUTYNE1,4DIOL，或它们的组合。0057较佳地，该第一醇系化合物选自甘露糖醇、山梨糖醇、3甲基1丁炔基3醇、3,6二甲基4辛炔基3,6二醇，或它们的组合。0058该醇系化合物还包括第二醇系化合物。0。
22、0590060第二醇系化合物可单独或混合使用，且该第二醇系化合物例如但不限于苯酚PHENOL、甲酚CRESOL、邻苯二酚CATECHOL、间苯二酚RESORCIN、2,3二羟基萘2,3DIHYDROXYNAPHTHALENE、2,3吡啶二醇2,3PYRIDINEDIOL、连苯三酚PYROGALLOL、水杨酸SALICYLICACID，或3,4,5三羟苯甲酸GALLICACID等。00610062该剥离光阻用组成物中未使用季铵盐化合物，则该剥离光阻用组成物的洗净容量不佳。该季铵盐化合物选自具有四个C1至C6烷基的氢氧化铵AMMONIUMHYDROXIDE、具有四个C1至C6烷基的碳酸铵AMMON。
23、IUMCARBONATE、具有四个C1至C6烷基的醋酸铵AMMONIUMACETATE、具有四个C1至C6烷基的柠檬酸铵AMMONIUMCITRATE、具有四个C1至C6烷基的硅酸铵AMMONIUMSILICATE、三烷基2羟基烷基氢氧化铵TRIALKYL2HYDROXYALKYLAMMONIUMHYDROXIDE、三烷基2羟基烷氧基氢氧化铵TRIALKYL2HYDROXYALKOXYAMMONIUMHYDROXIDE，或它们的组合。00630064该具有四个C1至C6烷基的氢氧化铵可单独或混合使用，且该具有四个C1至C6烷基的氢氧化铵例如但不限于四甲基氢氧化铵TETRAMETHYLAMMON。
24、IUMHYDROXIDE或四丁基氢氧化铵TETRABUTYLAMMONIUMHYDROXIDE等。00650066该具有四个C1至C6烷基的碳酸铵可单独或混合使用，且该具有四个C1至C6烷基的碳酸铵例如但不限于四甲基碳酸铵TETRAMETHYLAMMONIUMCARBONATE。0067说明书CN104122763A6/12页90068该具有四个C1至C6烷基的醋酸铵可单独或混合使用，且该具有四个C1至C6烷基的醋酸铵例如但不限于四甲基醋酸铵TETRAMETHYLAMMONIUMACETATE。00690070该具有四个C1至C6烷基的柠檬酸铵可单独或混合使用，且该具有四个C1至C6烷基的柠檬。
25、酸铵例如但不限于四甲基柠檬酸铵TETRAMETHYLAMMONIUMCITRATE。00710072该具有四个C1至C6烷基的硅酸铵可单独或混合使用，且该具有四个C1至C6烷基的硅酸铵例如但不限于四甲基硅酸铵TETRAMETHYLAMMONIUMSILICATE。00730074该三烷基2羟基烷基氢氧化铵可单独或混合使用，且该三烷基2羟基烷基氢氧化铵例如但不限于三甲基2羟基乙基氢氧化铵TRIMETHYL2HYDROXYETHYLAMMONIUMHYDROXIDE，俗称胆碱CHOLINE等。00750076该三烷基2羟基烷氧基氢氧化铵可单独或混合使用，且该三烷基2羟基烷氧基氢氧化铵例如但不限于三。
26、甲基2羟基乙氧基氢氧化铵TRIMETHYL2HYDROXYETHOXYAMMONIUMHYDROXIDE，或三甲基22羟基乙氧基乙氧基氢氧化铵TRIMETHYL22HYDROXYETHOXYETHOXYAMMONIUMHYDROXIDE等。0077较佳地，该季铵盐化合物选自四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、三甲基2羟基乙基氢氧化铵，或它们的组合。00780079该有机溶剂可单独或混合使用，且该有机溶剂例如但不限于酰胺系化合物或第一溶剂，其中，该第一溶剂选自二醇系化合物、醇醚系化合物，或它们的组合。00800081该酰胺系化合物可单独或混合使用，且该酰胺系化合物例如但不限于甲酰胺、乙酰胺、N甲基甲。
27、酰胺、N甲基乙酰胺、N乙基甲酰胺、N乙基乙酰胺、N,N二甲基甲酰胺、N,N二甲基乙酰胺、N,N二乙基甲酰胺、N,N二乙基乙酰胺、N,N二甲基咪唑、N甲基2吡咯烷酮NMETHYL2PYRROLIDONE，简称NMP，或N乙基2吡咯烷酮等。00820083二醇系化合物0084该二醇系化合物可单独或混合使用，且该二醇系化合物例如但不限于乙二醇、二乙二醇、丙二醇或1,3丁二醇等。较佳地，该二醇系化合物选自乙二醇、丙二醇，或它们的组合。0085醇醚系化合物0086该醇醚系化合物可单独或混合使用，且该醇醚系化合物例如但不限于乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙。
28、醚醋酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇单戊醚、二乙二醇单己醚、二乙二醇单苯醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙基醚、三乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚等、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单丁基醚，或三丙二醇单甲醚等。较佳地，该醇醚系化合物选自二乙二醇单丁醚、乙说明书CN104122763A7/12页10二醇乙醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯，或它们的组合。0087为使该剥离光阻用组成物具有较佳的洗净容量效果，较佳地，该有机溶剂包括第一溶剂。0088该剥离光阻用组成物的制法是将胺系化合物、醇系化合物、季铵盐化合物、有机溶剂及水。
29、放置于搅拌器中搅拌，使其均匀混合即可。0089基于该胺系化合物的总量为100重量份，该醇系化合物的使用量范围为10至100重量份、该季铵盐化合物的使用量范围为5至100重量份、该有机溶剂的使用量范围为500至4,000重量份，以及该水的使用量范围为100至1,000重量份。0090较佳地，基于该胺系化合物的总量为100重量份，该醇系化合物的使用量范围为15至95重量份、该季铵盐化合物的使用量范围为10至95重量份、该有机溶剂的使用量范围为600至3,800重量份，以及该水的使用量范围为150至900重量份。0091更佳地，基于该胺系化合物的总量为100重量份，该醇系化合物的使用量范围为20至9。
30、0重量份、该季铵盐化合物的使用量范围为15至90重量份、该有机溶剂的使用量范围为700至3,500重量份，以及该水的使用量范围为200至800重量份。0092本发明使用剥离光阻用组成物的方法，包含以下步骤0093提供积层体，包括基板、形成在该基板上的金属层或绝缘层，及形成在该金属层或绝缘层上的光阻层；0094将该积层体的光阻层与上述的剥离光阻用组成物接触，直至该光阻层自该积层体剥离；0095施予清洗处理。0096较佳地，本发明使用剥离光阻用组成物的方法还包含于清洗处理后，施予干燥处理。0097该积层体的制备方式并无特别的限制，可采用以往所使用的方式，例如，该积层体的制备方式包含以下步骤将感光性。
31、树脂组成物以旋转涂布的方式，涂布在具有金属层或绝缘层的基板上。接着，对该感光性树脂组成物进行光刻制程，然后，以纯水洗净。洗净后将其置于烘箱中干燥，则于该金属层或绝缘层上形成具有特定图案的光阻层。接着，将其浸泡于蚀刻剂中，对金属层或绝缘层进行蚀刻处理，以将未受光阻层保护的金属层或绝缘层移除，形成具有特定图案的金属层或绝缘层，其中，该具有特定图案的金属层或绝缘层中的特定图案是与该具有特定图案的光阻层中的特定图案相对应，然后，进行清洗处理及干燥处理，即可获得积层体。0098在该具有金属层的基板中，该基板的材质并无特别的限制，例如但不限于无碱玻璃、钠钙玻璃、硬质玻璃派勒斯玻璃、石英玻璃、于上述玻璃上附。
32、着透明导电膜的基板，或用于固体摄影装置等的光电变换装置基板等。0099在该具有金属层的基板中，该金属层的材质并无特别的限制，可采用以往所使用的，例如但不限于铜、铝、铝合金、钛或氮化钛等。该金属层形成于基板的方式并无特别的限制，可采用以往的方式，例如但不限于以化学气相沉积法或溅镀法等。0100在该具有绝缘层的基板中，该绝缘层的材质并无特别的限制，可采用以往所使用的，例如但不限于非晶硅ASI、多晶硅PSI、丙烯酸系聚合物或聚硅氧烷系聚合物等。该绝缘层形成于基板的方式并无特别的限制，可采用以往的方式，例如，材质为非晶硅说明书CN104122763A108/12页11ASI或多晶硅PSI以化学气相沉积。
33、法或溅镀法等形成，而材质为丙烯酸系聚合物或聚硅氧烷系聚合物以旋转涂布或流延涂布等形成。0101该光阻层是由感光性树脂组成物经光刻制程所形成。该光刻制程可采用以往所使用的方式，所以不再赘述。该感光性树脂组成物并无特别限制，可采用以往所使用的，例如但不限于包含酚醛清漆树脂的感光性树脂组成物等。0102该蚀刻剂并无特别的限制，只要能将该具有金属层或绝缘层的基板上的金属层或绝缘层移除即可，例如但不限于磷酸蚀刻剂或氢氟酸蚀刻剂等。0103该积层体的光阻层与上述的剥离光阻用组成物接触的方式并无特别的限制，可采以往的方式，例如但不限于将积层体浸泡至剥离光阻用组成物中。较佳地，在24至100的温度下接触30秒。
34、至30分钟，更佳地，接触1分钟至20分钟。0104该清洗处理只要能让剥离光阻用组成物不会残留即可，且可采用以往的方式，所以不再赘述。0105该干燥处理只要能让剥离光阻层后的积层体干燥即可，且可采用以往的方式，例如将剥离光阻层后的积层体置于真空干燥箱中进行干燥。0106本发明将就以下实施例来作进一步说明，但应了解的是，这些实施例仅为例示说明用，而不应被解释为本发明实施的限制。010701080109将100重量份的N2氨基乙基哌嗪、10重量份的甘露糖醇、20重量份的四甲基氢氧化铵、1,000重量份的二乙二醇单丁醚、500重量份的丙二醇及500重量份的水于室温下搅拌混合均匀，即可获得本发明剥离光阻。
35、用组成物。0110实施例1的剥离光阻用组成物的使用方法如下0111提供一积层体，且该积层体的制备方式包含以下步骤将酚醛清漆树脂系的正型感光性树脂组成物厂牌奇美实业股份有限公司制；型号TR305以旋转涂布的方式，涂布在100MM100MM07MM的具有铜金属膜的玻璃基板上。接着，以100MMHG进行减压干燥，历时5秒钟后，于烘箱中以90预烤2分钟至3分钟，形成膜厚6M的预烤涂膜。将该预烤涂膜以特定图案的掩膜进行曝光曝光机厂牌MRNANOTECHNOLOGY；型号AG5004N，其曝光能量为100MJ/CM2，然后，将其以005WT的氢氧化钾水溶液，于45下予以显影1分钟，经曝光的预烤涂膜除去，接。
36、着，以纯水洗净。洗净后将其置于烘箱中，并以235进行后烤30分钟，于该铜金属膜上形成光阻层。将其浸泡于含有磷酸的蚀刻剂中进行蚀刻处理，以将未受光阻层保护的铜金属膜移除，接着，以去离子水清洗并干燥，即可获得积层体。将上述积层体浸泡于50的实施例1的剥离光阻用组成物中，并浸泡20分钟，接着，取出后以去离子水清洗并干燥即可。01120113实施例2至9及比较例1至9是以与实施例1相同的步骤来制备该剥离光阻用组成物，不同的地方在于改变原料的种类及其使用量，如表1及表2所示。0114实施例2至9及比较例1至9的剥离光阻用组成物的使用方法与实施例1的剥离光阻用组成物的使用方法的步骤相同，所以不再赘述。01。
37、15说明书CN104122763A119/12页120116光阻回沾检测将100重量份的实施例1至9及比较例1至9的剥离光阻用组成物中，分别加入2重量份的含有酚醛清漆树脂的正型感光性树脂组成物厂牌奇美实业股份有限公司制；型号TR305，形成18个混合液，接着，将18个具有铜金属膜的玻璃基板，于60下，分别浸渍于所述混合液中2分钟，然后，分别取出该18个具有铜金属膜的玻璃基板，并使用扫描式电子显微镜观察铜金属膜是否有光阻沾粘，判定方式如下0117铜金属膜无光阻沾粘；0118铜金属膜有光阻沾粘。0119洗净容量检测将100重量份的实施例1至9及比较例1至9的剥离光阻用组成物，分别加入XT重量份的含。
38、有酚醛清漆树脂的正型感光性树脂组成物厂牌奇美实业股份有限公司制；型号TR305，形成18个混合液。将实施例1所述的积层体，于60下，分别浸渍于所述混合液中2分钟，然后，取出并使用扫描式电子显微镜观察该积层体上的光阻层是否剥除干净，并以XT用量的多寡来判定洗净容量的优劣，判定方式如下0120XT3重量份，可将该积层体上的光阻层剥除干净；012125重量份XT3重量份，可将该积层体上的光阻层剥除干净；012225重量份XT，可将该积层体上的光阻层剥除干净，或无法剥除干净。0123表1说明书CN104122763A1210/12页1301240125表2说明书CN104122763A1311/12页。
39、1401260127由上述表1的实验结果可知，实施例1至3及实施例7的剥离光阻用组成物包含式I所示的氮杂环化合物、醇系化合物、季铵盐化合物、有机溶剂及水，可有效地防止已剥离说明书CN104122763A1412/12页15的光阻回沾至金属层或绝缘层上，且具有大的洗净容量。0128实施例4至6及实施例9的剥离光阻用组成物包含具有至少两个叔胺的链状多胺化合物、醇系化合物、季铵盐化合物、有机溶剂及水，可有效地防止已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上，且具有大的洗净容量。0129实施例8的剥离光阻用组成物包含式I所示的氮杂环化合物、具有至少两个叔胺的链状多胺化合物、醇系化合物、季铵盐化合物、有机溶剂及水。
40、，可有效地防止已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上，且具有大的洗净容量。0130比较例1及2的剥离光阻用组成物未使用季铵盐化合物，洗净容量不佳。0131比较例3、6、7及9的剥离光阻用组成物未使用式I所示的氮杂环化合物或具有至少两个叔胺的链状多胺化合物，存在有已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上的问题，且洗净容量不佳。0132比较例4、5及8的剥离光阻用组成物未使用本申请的醇系化合物，存在有已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上的问题。0133综上所述，该剥离光阻用组成物通过所述成分的协同效应，使该剥离光阻用组成物可防止已剥离的光阻回沾至金属层或绝缘层上，继而提升后续制程的良率，且该剥离光阻用组成物具有大洗净容量，可使每单位体积的剥离光阻用组成物剥离光阻的量增加，继而可提升产能及使用效益，所以确实能达成本发明的目的。说明书CN104122763A15。