摩擦取向设备.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201510230184.5

申请日:

2015.05.07

公开号:

CN104808394A

公开日:

2015.07.29

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G02F 1/1337申请日:20150507|||公开

IPC分类号:

G02F1/1337

主分类号:

G02F1/1337

申请人:

合肥鑫晟光电科技有限公司; 京东方科技集团股份有限公司

发明人:

詹成勇; 王凯; 谭聪; 张波; 江亮亮

地址:

230012安徽省合肥市新站区工业园内

优先权:

专利代理机构:

北京天昊联合知识产权代理有限公司11112

代理人:

柴亮; 张天舒

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内容摘要

本发明提供一种摩擦取向设备,属于摩擦取向技术领域,其可解决现有的摩擦布不良导致在摩擦取向时造成配向膜不良的问题。本发明的摩擦取向设备,其包括摩擦辊,所述摩擦辊包括辊轴和缠绕在辊轴外表面上的摩擦布,所述摩擦布内掺入有量子点,所述摩擦取向设备还包括激发光源,所述激发光源能够激发所述量子点发光,以检测所述摩擦布的表面是否存在不良。本发明的摩擦取向设备可以很好的检测摩擦布是否存在不良。

权利要求书

1.  一种摩擦取向设备,其包括摩擦辊,所述摩擦辊包括辊轴和缠绕在辊轴外表面上的摩擦布,其特征在于,所述摩擦布内掺入有量子点,所述摩擦取向设备还包括激发光源,所述激发光源能够激发所述量子点发光,以检测所述摩擦布的表面是否存在不良。

2.
  根据权利要求1所述的摩擦取向设备,其特征在于,所述量子点的均匀分布在所述摩擦布内。

3.
  根据权利要求1所述的摩擦取向设备,其特征在于,所述量子点的种类为硫化镉、硒化镉、碲化镉、硒化锌中的任意一种。

4.
  根据权利要求1-3中任意一项所述的摩擦取向设备,其特征在于,所述量子点的粒径小于10nm。

5.
  根据权利要求1-3中任意一项所述的摩擦取向设备,其特征在于,所述激发光源为紫外光源。

6.
  根据权利要求1-3中任意一项所述的摩擦取向设备,其特征在于,所述摩擦取向设备还包括缠绕装置,所述缠绕装置用于将摩擦布缠绕至辊轴上。

7.
  根据权利要求6所述的摩擦取向设备,其特征在于,所述激发光源设置在所述缠绕装置上,用于在所述缠绕设备将摩擦布缠绕至辊轴上后,激发所述量子点发光,以检测所述摩擦布的表面是否存在不良。

8.
  根据权利要求1-3中任意一项所述的摩擦取向设备,其特 征在于,所述摩擦取向设备还包括摩擦平台,用于承载待进行摩擦取向的基板。

9.
  根据权利要求8所述的摩擦取向设备,其特征在于,所述激发光源设置在所述摩擦平台上与所述摩擦辊位置对应的横梁上,用于在所述摩擦辊对所述摩擦平台上的基板进行摩擦取向时,激发所述量子点发光,以检测所述摩擦布的表面是否存在不良。

10.
  根据权利要求1所述的摩擦取向设备,其特征在于,所述摩擦布通过双面胶与辊轴相互固定。

说明书

摩擦取向设备
技术领域
本发明属于摩擦取向技术领域,具体涉及一种摩擦取向设备。
背景技术
液晶显示领域中的摩擦(Rubbing)工艺是指通过摩擦辊以一定方向在阵列基板和彩膜基板上的配向膜表面进行摩擦取向,从而形成让液晶有预倾角排列的沟槽。其中,摩擦辊包括:辊轴和贴附在辊轴上的摩擦布(Rubbing Cloth),通常摩擦布采用尼龙布、纤维或者棉布。此时摩擦布的质量和编织手法等会直接影响摩擦工艺的优劣程度。
具体的,摩擦布通过双面胶粘附在摩擦辊上,若摩擦布本身厚度不均或在缠绕在辊轴上(winding)时发生不良,如表面凸起、表面粘附灰尘等,在取向时会划伤配向膜表面,影响画面品质。
目前对摩擦布的检测主要是作业人员凭经验观察,检查精度低,且效率低下。同时,在摩擦工艺过程中会产生大量静电,摩擦布表面积聚的静电荷会吸附摩擦产生的配向膜碎屑;在布缝处,摩擦布末端摩擦过程中可能会凸起、脱落,这些都会大大增加配向不良的风险。
发明内容
本发明所要解决的技术问题包括,针对现有的摩擦布存在的上述的问题,提供一种能够检测摩擦布不良的摩擦取向设备。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种摩擦取向设备,其包括摩擦辊,所述摩擦辊包括辊轴和缠绕在辊轴外表面上的摩擦布,所述摩擦布内掺入有量子点,所述摩擦取向设备还包括激发光源,所述激发光源能够激发所述量子点发光,以检测所 述摩擦布的表面是否存在不良。
优选的是,所述量子点的均匀分布在所述摩擦布内。
优选的是,所述量子点的种类为硫化镉、硒化镉、碲化镉、硒化锌中的任意一种。
优选的是,所述量子点的粒径小于10nm。
优选的是,所述激发光源为紫外光源。
优选的是,所述摩擦取向设备还包括缠绕装置,所述缠绕装置用于将摩擦布缠绕至辊轴上。
进一步优选的是,所述激发光源设置在所述缠绕装置上,用于在所述缠绕设备将摩擦布缠绕至辊轴上后,激发所述量子点发光,以检测所述摩擦布的表面是否存在不良。
优选的是,所述摩擦取向设备还包括摩擦平台,用于承载待进行摩擦取向的基板。
进一步优选的是,所述激发光源设置在所述摩擦平台上与所述摩擦辊位置对应的横梁上,用于在所述摩擦辊对所述摩擦平台上的基板进行摩擦取向时,激发所述量子点发光,以检测所述摩擦布的表面是否存在不良。
优选的是,所述摩擦布通过双面胶与辊轴相互固定。
本发明具有如下有益效果:
由于本发明的摩擦布中掺入有量子点,同时摩擦取向设备增设了可以激发量子点发光的激发光源,因此在摩擦布被缠绕在在辊轴外表面后可以通过激发光源将量子点点亮,也就说此时摩擦布表面将会发光,故有利于操作者观察检测,被缠绕在辊轴后的摩擦布表面是否平整,对摩擦布表面是否存在不良进行检测。而且还可以在摩擦辊在对基板上的配向膜进行摩擦取向时,对摩擦布表面是否存在不良进行检测。具体的,在摩擦取向工艺过程中会产生大量静电,摩擦布表面积聚的静电荷会吸附摩擦产生的配向膜碎屑;在摩擦布缝处,摩擦布末端摩擦过程中可能会凸起、脱落,这些都会大大增加配向不良的风险,而此时通过激发光源将量子点点亮,就有助于操作者对摩擦布表面的实时监测,即使 更换存在不良的摩擦布,减少配向不良的产生,同时也可利于提升摩擦布使用寿命,降低成本。
附图说明
图1为本发明的实施例摩擦取向设备的示意图。
其中附图标记为:1、辊轴;2、摩擦布;3、量子点;4、双面胶;5、激发光源。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
实施例1:
如图1所示,本实施例提供一种摩擦取向设备,其包括摩擦辊,所述摩擦辊包括辊轴1和缠绕在辊轴1外表面上的摩擦布2,所述摩擦布2内掺入有量子点3,所述摩擦取向设备还包括激发光源5,所述激发光源5能够激发所述量子点3发光,以检测所述摩擦布2的表面是否存在不良。
需要说明的是,量子点3是一种由半导体材料组成的纳米颗粒,由于其本身的尺寸效应而具有很多独特的性质。其中一个重要特性就是荧光效应,当量子点3受到激发光源5照射时就会发出荧光。量子点3的发射光谱窄,颜色可调,光化学稳定性高,荧光寿命长,并且通过改变量子点3的尺寸可控制量子点3的发射光谱。
由于本实施例的摩擦布2中掺入有量子点3,同时摩擦取向设备增设了可以激发量子点3发光的激发光源5,因此在摩擦布2被缠绕在在辊轴1外表面后可以通过激发光源5将量子点3点亮,也就说此时摩擦布2表面将会发光,故有利于操作者观察检测,被缠绕在辊轴1后的摩擦布2表面是否平整,对摩擦布2表面是否存在不良进行检测。而且还可以在摩擦辊在对基板上的配向膜 进行摩擦取向时,对摩擦布2表面是否存在不良进行检测。具体的,在摩擦取向工艺过程中会产生大量静电,摩擦布2表面积聚的静电荷会吸附摩擦产生的配向膜碎屑;在摩擦布2缝处,摩擦布2末端摩擦过程中可能会凸起、脱落,这些都会大大增加配向不良的风险,而此时通过激发光源5将量子点3点亮,就有助于操作者对摩擦布2表面的实时监测,即使更换存在不良的摩擦布2,减少配向不良的产生,同时也可利于提升摩擦布2使用寿命,降低成本。
优选的,摩擦布2通过双面胶4粘附在摩擦辊上,当然也可以采用亚克力胶将两者相互固定。
优选的,在实施例中量子点3是均匀分布在所述摩擦布2中的,因此可以尽可能避免由于在摩擦布2中掺入量子点3而影响摩擦布2的平整度。
优选的,在实施例中量子点3的种类可以为硫化镉(CdS)、硒化镉(CdSe)、碲化镉(CdTe)、硒化锌(ZnSe)中的任意一种,当然也不局限于这几种。在具体的设置过程中,可以摩擦布2编织过程中,在纱中添加量子点3。实际添加的量子点3的量可根据后期荧光强度的情况进行选定。
优选的,在实施例中量子点3的粒径小于10nm,以防止由于量子点3的尺寸较大而影响摩擦布2的平整度。
优选的,本实施例中的激发光源5可以为紫外光源。当然也可以采用其他光源,可以根据所选取的量子点3的种类确定采用何种激发光源5。
作为本实施例的一种具体实施方式:本实施例的摩擦取向设备还包括缠绕装置,所述缠绕装置用于将摩擦布2缠绕至辊轴1上。其中,所述激发光源设置在所述缠绕装置上,用于在所述缠绕设备将摩擦布2缠绕至辊轴1上后,激发所述量子点3发光,以检测所述摩擦布2的表面是否存在不良。
具体的,由于将摩擦布2缠绕至辊轴1上后不可避免的会出现各种缺陷。若仅仅依靠操作人员的经验观察,不仅费时费力, 而且各作业人员的标准不一,检查的精度也较低,此时打开激发光源5照射摩擦布2表面一段时间,随后关闭光源。量子点3即会发出荧光,在暗室环境下,摩擦布2表面的不良即可清晰显现。以此,可剔除不合格的摩擦辊。以防止存在不良的摩擦布2使用到摩擦取向工艺中去,造成不必要的损失。
作为本实施例的另一具体实施方式,本实施例的摩擦取向设备还包括摩擦平台,用于承载待进行摩擦取向的基板。其中,所述激发光源设置在所述摩擦平台上与所述摩擦辊位置对应的横梁上,用于在所述摩擦辊对所述摩擦平台上的基板进行摩擦取向时,激发所述量子点3发光,以检测所述摩擦布2的表面是否存在不良。
具体的,在摩擦取向工艺过程中,摩擦布2也会产生新的不良,如表面吸附配向膜碎屑、布缝处凸起等,造成配向不良,而此时通过激发光源5将量子点3点亮,就有助于操作者对摩擦布2表面的实时监测,即使更换存在不良的摩擦布2,减少配向不良的产生,同时也可利于提升摩擦布2使用寿命,降低成本。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

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资源描述

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本发明提供一种摩擦取向设备,属于摩擦取向技术领域,其可解决现有的摩擦布不良导致在摩擦取向时造成配向膜不良的问题。本发明的摩擦取向设备,其包括摩擦辊,所述摩擦辊包括辊轴和缠绕在辊轴外表面上的摩擦布,所述摩擦布内掺入有量子点,所述摩擦取向设备还包括激发光源,所述激发光源能够激发所述量子点发光,以检测所述摩擦布的表面是否存在不良。本发明的摩擦取向设备可以很好的检测摩擦布是否存在不良。 。

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