背景技术
在制作工艺逐渐迈向纳米等级解析度的今日，无论在电子或半导体产业，多数制程及检测设备对于环境微振动相当敏感，在抑制环境振动的要求上将更为严苛。由于在不良的微振动环境下，常会造成仪器的误动作或者测量的结果难以判读，所以这些制程及检测设备的承载平台必须要具备优良的动态特性，使得无论是由环境传来的振动或者是承载平台所承载的设备本身所产生的振动，在运作的频宽范围能有效的被消除。
传统的承载平台材料或结构一般分为花岗岩(granite)、蜂巢状平台(honeycomb table)以及钢筋混凝土结构(reinforced concrete structure)的平台。花岗岩的平台可提供较佳的结构稳定性，但是由于材质的关系，使得平台结构的重量较重。蜂巢状平台相较之下虽然质轻，但是因为结构有一定的复杂度，造成在制造及组装程序上的困难，目前只适用于高单价的光学桌。钢筋混凝土结构的平台，其重量介于以上两者之间，但是其动态特性较以上两者均差。
半导体或光电制程相关的厂房环境多为采用格栅状的钢筋混凝土结构配合高架地板，高架地板也为一种承载平台结构，但大多不具隔振能力，其主要的功能为借由高架地板提供一个空间让设备的管路行走，不至于使操作人员的动线与管路的动线相互影响，也同时提供无尘室中洁净回风的透气功能。但是人员的活动以及运输设备产生的振动往往会经由高架地板结构的放大而进入厂房结构，进而传入厂房内的各个角落，影响该环境中其他精密制程及检测仪器的可靠度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种吸振平台结构及具有其的高架地板结构，其提供的高阻尼的结构，可抑制环境传来的振动及平台上设备本身所产生的振动，从而解决现有的高架地板的最初设计并未以抑制振动噪音为诉求，面对近来光电产业中大尺寸面板的搬运设备或机器手臂所产生的巨大振动往往通过其支撑的高架地板结构传到厂房的四周，影响到周遭的精密制程及检测设备的问题，例如曝光机、涂布机以及面板缺陷检查设备。此外，也解决了一般的光学桌采用的蜂巢状结构的隔振设计，其结构复杂，不但单一构件制造困难，也难以组装拆卸，甚至需要很大的空间才能架设，造成在设备维护上极为麻烦的问题。
为了实现上述目的，本发明提供了一种高架地板结构，包括有一吸振平台结构及一支撑结构。吸振平台结构包括有一底板，具有一支撑架结合面；一上盖板，位在底板上方位置，并与底板之间保持一预定高度距离，而定义出一吸振缓冲空间；一阻尼吸振垫材层，位于底板与上盖板间的吸振缓冲空间中。
支撑结构包括有多支支撑构件，结合于吸振平台结构的底板的支撑架结合面与一基础结构体之间，用以支撑吸振平台结构，并使吸振平台结构的底板的支撑架结合面与基础结构体之间形成一高架空间。
在本发明的第一实施例中，支撑构件包括有一支撑管架、一水平调整管件、一支撑盘及一补强套件。其中支撑管架具有一固定座及一套合槽，固定座使支撑构件固定在基础结构体上；水平调整管件具有一套合杆，套合于支撑管架的套合槽中；支撑盘设置在水平调整管件上方，用以支撑吸振平台结构；补强套件则套合于水平调整管件的套合杆。
为了实现上述目的，本发明还提供了一种吸振平台结构，其包括：一底板，设置在一基础结构体上；一上盖板，位在该底板上方位置，并与该底板之间保持一预定高度距离，而定义出一吸振缓冲空间；一阻尼吸振垫材层，位于该底板与该上盖板间的吸振缓冲空间中。
经由本发明所采用的技术手段，可以使得吸振平台结构及具有其的高架地板结构的抑制振动能力，符合承载精密设备的振动标准，在一定的频宽范围内不会放大振动及延长振动，有效减少机台的故障发生率，从而提升产品的优良率。
和一般光学桌的蜂巢状结构相比，本发明的各构件在几何形状上十分单纯，不会造成在制造上的负担。由于各构件的形状易于统一，可进行规格化的量产，降低生产成本。在零件的更换取代上，像是内部的阻尼吸振垫片，即可因应不同的吸振需求，以不同材料或不同形状的更换，且更换十分方便。而在材料搬运与平台的组装上，也因构件的单纯化及模组化，搬运时可以拆零的方式来减小体积，施工时也因此而变得更加快速容易，减少受环境干扰的机会。
针对实验室中的小型精密设备，可单独使用本发明所提供的吸振平台结构，利用将上盖板适当的增加重量并在表面钻定位螺孔，即可作为一般实验室内小型桌上用的精密仪器设备隔振底座，例如光学测量系统或是微纳米检测所需的原子力显微镜，或者半导体厂房中需要的制振型高架地板结构。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本发明的具体实施方式。
参阅图1及图2所示，其显示本发明高架地板结构第一实施例的立体图及立体分解图。高架地板结构100包括有一吸振平台结构1及一支撑结构2。吸振平台结构1为以一底板11、一上盖板12及一阻尼吸振垫材层13所形成的三明治夹层结构。支撑结构2则包括有四支支撑构件20，结合于吸振平台结构1的底板11的支撑架结合面111上，用以支撑吸振平台结构1。
参阅图3所示，其显示图1中3-3断面的断面图。如图所示，底板11的底面设置有多个补强肋112，各补强肋112由底板11的底面向下延伸出一预定高度，补强肋112的设置是用来提高底板11的刚性强度。
上盖板12位在底板11上方位置，并与底板11之间保持一高度H1，而定义出一吸振缓冲空间14，阻尼吸振垫材层13便是设置于吸振缓冲空间14中。上盖板12具有多个侧板121，各侧板121由上盖板12的侧缘向下延伸一预定高度，并与底板11及阻尼吸振垫材层13保持一间距D1。当底板11、上盖板12及阻尼吸振垫材层13结合后，上盖板12的侧板121包围住阻尼吸振垫材层13及底板11，使上盖板12、阻尼吸振垫材层13及底板11间不会有位移错动。
上盖板12还具有多个补强肋122，该补强肋122是由上盖板12的底面向下延伸出一预定高度，用以提高上盖板12本身的刚性强度，避免承载重物后发生扭曲变形的情况。
阻尼吸振垫材层13在本实施例中是一种高分子丁烯类材料，当然也可以使用高分子乙烯类材料、高分子丁烯类材料与高分子乙烯类材料的混合材料，以及其它阻尼材料来取代。阻尼吸振垫材层13包括有一垫材层131，以及形成于该垫材层131上的多个吸振凸柱132。各吸振凸柱132以一间距D2相邻配置，且各具有一承载面133，用以承载上盖板12。吸振凸柱132于本实施例中采用圆锥形，目的是可以在垂直及水平方向同时提供隔振效果，但若有其他方向上的隔振需求，自然也可将吸振凸柱132改为其他形状。
当吸振平台结构1上有振动产生时，由于底板11、上盖板12及阻尼吸振垫材层13之间并非采用固定锁死的结合方式，且上盖板12与底板11间无直接连接，而是通过阻尼吸振垫材层13将隔绝振动的传递。借由吸振缓冲空间14的缓冲以及阻尼吸振垫材层13所提供的阻尼，使吸振平台结构1达到抑制及吸收振动的功效。
参阅图4所示，其显示支撑构件的断面分解图。支撑构件20包括有一支撑管架21、一水平调整管件22、一支撑盘23及一补强套件24。
支撑管架21具有一固定座211及一套合槽212，该固定座211使该支撑构件20固定在一基础结构体3上；水平调整管件22具有一套合杆221，套合于该支撑管架21的套合槽212中；支撑盘23设置在该水平调整管件22上方，用以支撑该吸振平台结构1；补强套件24则套合于水平调整管件22的套合杆221，用以补强支撑管架21与水平调整管件22间的结合刚性。
于本实施例中，支撑管架21的套合槽212是一具有内螺纹的螺孔，水平调整管件22的套合杆221则是一螺杆，支撑管架21与水平调整管件22间借螺孔与螺杆结合，故有水平高度的微调功能，可调整吸振平台结构1的水平高度。补强套件24是一个固定螺帽，等吸振平台结构1的高度调整完成后，可旋转至与支撑管架21的上缘紧贴，如此支撑管架21与水平调整管件22间的结合便更加稳固。
参阅图5所示，其显示高架地板结构第一实施例的局部透视图。图中所示为图1中透视区域A的局部透视图，在底板11的支撑架结合面111形成有一定位结构113，该定位结构113在本实施例中是一个螺栓，用来结合定位支撑架结构2。而在底板11的支撑架结合面111与支撑架结构2之间还设有一隔振橡胶4，加强吸振平台结构1与支撑结构2间的隔振效果，让吸振平台结构1所产生的振动不会通过支撑结构2传出，造成不良影响。
参阅图6所示，其显示本发明高架地板结构第二实施例的示意图。此一实施例的高架地板结构100’的结构设计大致上与前述第一实施例相同，故相同的构件标示以相同的元件编号，以资对应。其差异在于高架地板结构100’改以多个吸振平台结构1和支撑结构2所组成，各个吸振平台结构1之间以一间距D3相邻配置，并以一水平方向I延伸形成一延伸平台5。由于各个吸振平台结构1之间有间距D3存在，如此振动便不会在各个吸振平台结构1之间互相传递，而隔绝振动在延伸平台5上延长甚至是放大。
支撑结构2同样支撑该各个吸振平台结构1，并使各个吸振平台结构1的底板11的支撑架结合面111与该基础结构体3之间保持一高度H2而形成一高架空间6。高架空间6一般是提供操作人员活动之用，使操作人员与延伸平台5上的设备或管路动线不会互相影响到。
参阅图7所示，其显示吸振平台结构单独应用时的立体图。如图所示，吸振平台结构1’的结构设计大致上与前述的吸振平台结构1相同，故相同的构件标示以相同的元件编号。其差异在于吸振平台结构1’直接设置于基础结构体3上，并于吸振平台结构1’的上盖板12上增设有一加重板15，加重板15上形成有多个定位螺孔151，提供机台定位之用。
以上所述仅为本发明示意性的具体实施方式，并非用以限定本发明的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和原则的前提下所作出的等同变化与修改，均应属于本发明保护的范围。