本发明属于日用化工技术领域，是一种高性能清除污垢用的膏状物及其制备工艺。 一些物体表面由于长时间使用，或者由于环境影响，往往产生污垢，锈斑等，既不卫生，又不雅观。目前，通常使用的膏状去污剂对积污或生锈时间较短，或者对软性污垢，有较好的清除效果，但对一些硬性污垢往往无能为力。此外，通常的膏状去污剂一般以脂肪酸的皂化材料作基质，因而合成需要在加温条件下进行。其中的抗沉淀剂均用价格较高的有机类“尼诺尔”或高分子类的“聚乙二醇”等，因而生产工艺较为复杂，成本也较高。
本发明的目的在于提供一种对软硬污垢均有良好清除效果、工艺简单、成本低廉的无机去污膏及其工艺。
本发明提出的去污膏由活性剂及其助剂、磨擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成，其中活性剂采用通常的烷基苯磺酸，助剂采用三聚磷酸钠，增调剂采用羧甲基纤维素钠，磨擦剂采用方解石粉，抗沉淀剂选用硫酸和硅酸钠的混合浆料。
本发明采用方解石粉作为磨擦剂，提高了去污膏的去污力。由于方解石与活性剂两者比重悬殊，因此选用本发明的抗沉淀剂，抗沉淀效果就比较理想。而且这些材料场为无机物，价格比较便宜。
本发明中各种成份可采用如下重量配比（设总量为100）：
烷基苯磺酸：1.5-3.0 三聚磷酸钠：2.0-3.5
羧甲基纤维素钠：0.5-1.5 方解石粉：20-35
硫酸（98%含量）：0.8-2.0 硅酸钠（40Be′）：6-15
液体石蜡（工业级）：0.8-1.5 液体烧碱（含量40%）：0.8-1.5
去离子水：加至100
根据需要，去污膏中还可加入适量防腐剂和芳香剂。
本发明提出的制备工艺如下：
1、将液体烧碱用去离子水稀释，然后与烷基苯磺酸一起搅匀，PH值控制在8-10之间;
2、将硫酸逐渐加入硅酸钠内，并进行搅拌，控制PH值在5.5～6.5之间，待结晶淅出，滤去废液;
3、将羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠分别用去离子水溶解，将方解石粉与液体石蜡混合或不混合;
4、然后将上述各种配备好的组份加入均质机中，在常温常压下搅拌，至均匀混合。
本发明由于不须皂化基质，基活性剂的去污作用明显改进，而且采用了磨擦剂，去污时，表面渗透与磨擦相结合，故去污力大为提高。本发明的活性剂虽然较少，但其表面硬污垢去污力超过现有粉状或液体去污材料。本发明中磨擦剂、抗沉淀剂价格都比较便宜，而且可在常温常压下制备，工艺简单，节省能源，成本降低。此外，本发明不含任何有机溶剂，所以产品不燃烧，不挥发，不异味，无刺激性，使用十分安全。可有效地去除物体表面的各种污垢，尤其可清除硬化的油泥、顽固的锈斑等。同时对金属物表面还有一定的抛光作用，对于工业和民用均适合。
实施例：各组份用量见附表。
根据需要，在制备时可加入适量防腐剂尼泊金乙酯，适量的芳香剂皂用香精。
制备过程如下：用去离子水总量的50%将液体烧碱稀释，再与烷基苯磺酸进一步搅匀，将PH值控制在8-10;将硫酸缓缓加入硅酸钠内，并进行搅拌，使PH值控制在5.5～6.5之间，待结晶淅出，用100目左右的尼龙筛过滤，滤去残液;用去离子水总量的30%溶解羧甲基纤维素钠，用去离子水总量的20%溶解三聚磷酸钠，把方解石粉与液体石蜡混合;然后将上述各种配备好地组份加入均质机中，并加入适量尼泊金乙酯和皂用香精，在常温常压下搅拌约一小时，至均匀混合，出料，装瓶。
上述3例的组份的去污膏均可由上述工艺流程制备。例1的去污膏稠度略低，例2的去污膏稠度适中，例3的去污膏稠度较高，对物体表面污垢均能有效清除。
附表成份（总量为100）例1例2例3烷基苯磺酸1.72.22.7三聚磷酸钠2.22.83.0羧甲基纤维素钠0.811.2方解石粉223033硫酸（含量98%）0.91.31.5硅酸钠（40Be′）7813液体石蜡（工业级）0.811.3液体烧碱（含量40%）0.811.4去离子水至100至100至100