具有内部衬里的衬底承载体.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200610150473.5

申请日:

2006.10.31

公开号:

CN1983546A

公开日:

2007.06.20

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):H01L 21/673公开日:20070620|||实质审查的生效|||公开

IPC分类号:

H01L21/673(2006.01); B65D81/20(2006.01)

主分类号:

H01L21/673

申请人:

应用材料公司;

发明人:

迈克尔·瑞斯

地址:

美国加利福尼亚州

优先权:

2005.12.16 US 60/751,105

专利代理机构:

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人:

赵飞

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内容摘要

本发明涉及一种包括衬里的装置及其制造方法,所述衬里适于封闭衬底承载体内的空间并还适于防止气体到达所述封闭空间。所述衬里可从所述衬底承载体移除。所述衬里可以是自支撑的并/或由所述衬底承载体的内壁支撑。所述衬里可以适于吸收微粒以防止存储在所述衬底承载体内的衬底被污染。所述衬里可以是在衬底承载体内涂附的防止从衬底承载体排气的内部玻璃。本申请还公开了其他方面。

权利要求书

1.  一种衬底承载体,包括:
衬底承载体主体,其中所述衬底承载体主体界定了由内项壁、内底壁、以及多个内侧壁限定的内部区域;
衬底承载体门,其连接至所述衬底承载体主体,其中所述衬底承载体门具有限定所述内部区域的内壁;及
衬里,其沿所述衬底承载体主体的所述内壁的至少一部分及所述衬底承载体门的所述内壁布置,所述衬里适于防止气体渗透进入所述衬底承载体的所述内部区域或从所述内部区域渗透出去。

2.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬里包括氮化硅及二氧化硅中至少一者。

3.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬里具有从约1微米至约50微米范围的厚度。

4.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬里还适于防止从所述衬底承载体的所述内部区域排气。

5.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬里还适于防止微粒从周围环境移动进入所述衬底承载体并防止所述微粒从所述衬底承载体的所述内部区域移动至所述周围环境。

6.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬里由气密材料形成。

7.
  根据权利要求6所述的衬底承载体,其中所述衬里是玻璃片或玻璃涂层。

8.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬里由介电材料形成。

9.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬里还适于从所述衬底承载体的所述内部区域或从所述周围环境吸收微粒。

10.
  根据权利要求9所述的衬底承载体,其中所述衬里由干燥剂材料或干燥剂类材料形成。

11.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬里适于被恢复至所需条件、被重新适用以及被替换中的至少一者。

12.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬底承载体适于存储一个衬底。

13.
  根据权利要求1所述的衬底承载体,其中所述衬底承载体适于存储多于一个的衬底。

14.
  一种衬底承载体的衬里,包括:
顶部,其适于沿所述衬底承载体的由衬底承载体主体界定的内顶壁布置;
底部,其适于沿所述衬底承载体的由所述衬底承载体主体界定的底壁布置;
多个侧部,其适于沿所述衬底承载体的由所述衬底承载体主体界定的相应内侧壁布置;及
其他部分,其适于沿所述衬底承载体的门的内壁布置;
其中所述衬里的所述部分适于防止气体渗透进入所述衬底承载体的所述内部区域或从所述内部区域渗透出。

15.
  根据权利要求14所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者包括氮化硅及二氧化硅中至少一者。

16.
  根据权利要求14所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者具有从约1微米至约50微米范围的厚度。

17.
  根据权利要求14所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者还适于防止从所述衬底承载体的所述内部区域排气。

18.
  根据权利要求14所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者还适于防止微粒从周围环境移动进入所述衬底承载体并防止所述微粒从所述衬底承载体的所述内部区域移动至所述周围环境。

19.
  根据权利要求14所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者由气密材料形成。

20.
  根据权利要求19所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者是玻璃片或玻璃涂层。

21.
  根据权利要求14所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者由介电材料形成。

22.
  根据权利要求14所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者还适于从所述衬底承载体的所述内部区域或从所述周围环境吸收微粒。

23.
  根据权利要求22所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者由干燥剂材料或干燥剂类材料形成。

24.
  根据权利要求14所述的衬底承载体的衬里,其中所述衬里的所述部分中的一者或多者适于被恢复至所需条件、被重新适用以及被替换中的至少一者。

25.
  一种制造衬底承载体的方法,包括:
形成衬底承载体主体,其中所述衬底承载体主体界定了由内顶壁、内底壁、以及多个内侧壁限定的内部区域;
形成衬底承载体门,其中所述衬底承载体门具有进一步限定所述内部区域的内壁;并
沿所述衬底承载体主体的所述内壁的至少一部分及所述衬底承载体门的所述内壁形成衬里;
其中所述衬里适于防止气体渗透进入所述衬底承载体的所述内部区域或从所述内部区域渗透出。

26.
  根据权利要求25所述的方法,其中形成所述衬底承载体的步骤包括由比现有衬底承载体主体采用的材料更廉价或更易加工的材料来形成所述衬底承载体主体。

27.
  根据权利要求25所述的方法,其中沿所述衬底承载体主体的所述内壁的至少一部分及所述衬底承载体门的所述内壁形成衬里的步骤包括沿所述衬底承载体主体的所述内壁的至少一部分及所述衬底承载体门的所述内壁粘合、喷雾、或气相沉积所述衬里。

28.
  一种设备,包括:
衬底承载体;及
衬里,其适于封闭所述衬底承载体内的空间并还适于防止气体到达所述封闭空间。

29.
  根据权利要求28所述的设备,其中所述衬里从所述衬底承载体可移除。

30.
  根据权利要求28所述的设备,其中所述衬里是自支撑的。

31.
  根据权利要求28所述的设备,其中所述衬里由所述衬底承载体的内壁支撑。

32.
  根据权利要求28所述的设备,其中所述衬里适于吸收微粒以防止存储在所述衬底承载体内的衬底被污染。

说明书

具有内部衬里的衬底承载体
技术领域
本发明涉及电子器件制造业,更具体地,涉及具有内部衬里的衬底承载体。
背景技术
通常优选的是保护衬底(例如,图案化或未图案化的半导体晶片、玻璃面板、聚合物衬底、中间掩膜、光刻掩膜、或玻璃板等)不会暴露至任何可能的污染微粒。因此,上述衬底可存储在气密容器内。但是,通常衬底需要在电子器件制造工厂内被传输至不同处理工具。传统衬底承载体不能提供气密隔舱。因此,需要用于在可密封容器内传输衬底的方法及设备,以及用于取放衬底而不会将衬底暴露至可能的污染微粒的系统及方法。
发明内容
在一方面,本发明提供了一种衬底承载体,其包括衬底承载体主体,其中所述衬底承载体主体界定有由内顶壁、内底壁、以及多个内侧壁限定的内部区域;衬底承载体门,其耦合至所述衬底承载体主体,其中所述衬底承载体门具有限定所述内部区域的内壁;以及衬里,其沿所述衬底承载体主体的所述内壁的至少一部分及所述衬底承载体门的所述内壁布置,适于防止气体渗透进入所述衬底承载体的所述内部区域或从所述内部区域渗透出。
在另一方面,本发明提供了一种衬底承载体的衬里,其包括顶部,其适于沿所述衬底承载体的由衬底承载体主体界定的内顶壁布置;底部,其适于沿所述衬底承载体的由所述衬底承载体主体界定的底壁布置;多个侧部,其适于沿所述衬底承载体的由所述衬底承载体主体界定的相应内侧壁布置;以及其他部分,其适于沿所述衬底承载体的门的内壁布置。所述衬里的所述部分可适于防止气体渗透进入所述衬底承载体的所述内部区域或从所述内部区域渗透出。
在又一方面,本发明提供了一种制造衬底承载体的方法,其包括形成衬底承载体主体,其中所述衬底承载体主体界定有由内顶壁、内底壁、以及多个内侧壁限定的内部区域;形成衬底承载体门,其中所述衬底承载体门具有进一步限定所述内部区域的内壁;并沿所述衬底承载体主体的所述内壁的至少一部分及所述衬底承载体门的所述内壁形成衬里。所述衬里可适于防止气体渗透进入所述衬底承载体的所述内部区域或从所述内部区域渗透出。
在再一方面,本发明提供了一种设备,其包括衬底承载体;以及衬里,其适于封闭所述衬底承载体内的空间并还适于防止气体到达所述封闭空间。所述衬里可从所述衬底承载体可移除。所述衬里可以是自支撑的并/或由所述衬底承载体的内壁支撑。所述衬里可适于吸收微粒以防止存储在所述衬底承载体内的衬底被污染。
通过参考以下详细说明、所附权利要求以及附图,本发明的其他特征及方面将变的更加清楚。
附图说明
图1是根据本发明的实施例的示例性衬底承载体的侧剖面视图。
图2是根据本发明的实施例的第二示例性衬底承载体的侧剖面视图。
具体实施方式
本发明涉及电子器件制造业,更具体地,涉及诸如前开口晶圆盒(FOUP)等的具有内部衬里的衬底承载体。衬底承载体可用于容纳并传输一个或多个诸如图案化或未图案化的半导体晶片、玻璃面板、聚合物衬底、中间掩膜、光刻掩膜、或玻璃板等的衬底。
根据本发明,衬底承载体被设置为具有内部衬里。在本说明书中,术语“衬里”包含衬里、衬层、或涂层等,而无论其是否是独立支撑、可插入/可移除、自立式、一件或多件结构、所述衬里被安装至承载体的内壁、及/或涂附至承载体的内壁。换言之,衬里可布置在衬底承载体的一个或多个内壁上,或者可以是用于插入衬底承载体的单独的结构。衬里可起防止气体的排气或渗透并/或防止微粒从衬底承载体的内部区域通过衬底承载体移动进入衬底承载体的周围环境的作用。内部衬里还可起防止衬底承载体的内部区域及布置在衬底承载体内的任何衬底因气体或污染物从衬底承载体的壁及/或围绕衬底承载体的环境进入衬底承载体的内部而受到污染的作用。
在示例性实施例中,衬里可以是布置、连接、或形成在衬底承载体的内壁及/或内部组件上的片或材料。例如,衬里可以是诸如玻璃片或玻璃涂层等不渗气材料。在另一示例性实施例中,衬里可以是诸如氮化硅、二氧化硅等介电材料,或者是防止或基本上防止气体的渗透并/或防止微粒移动通过衬底承载体的壁的任何其他片、材料或物质。
在另一示例性实施例中,衬里可以是吸收气体及/或微粒并同时防止气体及/或微粒渗透通过其的吸收阻隔物。吸收材料的示例包括具有对特定气体/蒸汽的亲合力的干燥剂材料或干燥剂类材料。例如当选择性的干燥剂装载材料中时,干燥剂材料可以被恢复至所需条件。也可以额外地使用或替代地使用可替换衬里。总而言之,衬里可以被恢复至所需条件、重新涂附并/或重新布置。
本发明的衬底承载体可以保持并/或传输任意数量的衬底。因此,本发明的衬底承载体可保持并/或传输单个衬底或多个衬底。
图1是本发明的示例性衬底承载体(总体由参考标号100表示)的侧剖面视图。参考图1,衬底承载体100包括具有并界定内部区域104的衬底承载体主体102。内部区域104可由内部顶壁106、内部侧壁108、及内部底壁110约束并界定。衬底承载体100还可包含衬底,或用于保持或支撑衬底的装置,总体由参考标号112表示。在示例性实施例中,衬底承载体100可配备或适于保持并/或传输任意数量的衬底。再参考图1,如图所示,衬底承载体100还包括衬底承载体门114。
如图所示,在图1的示例性实施例中,衬底承载体100包括位于内部顶壁106以及各个内部侧壁108及内部底壁110上的衬里116。衬里116可在包括任何角落位置的一个壁或多个壁的部分或全部上设置,沿其布置,或形成在其上,或沿其形成。类似的,衬里116可在邻近各个壁或多个壁布置的衬底承载体的组件上定位、沿其布置、或形成在其上或沿其形成。
衬里116还可在衬底承载体门114的内部侧或附装至衬底承载体门114的内部侧的组件的全部或一部分上定位、沿其布置、或形成在其上,或沿其形成。
衬里116可以是诸如玻璃片或玻璃涂层的气密材料。在另一示例性实施例中,衬里116可以是氮化硅片或涂层、二氧化硅片或涂层、或其他介电材料。总而言之,衬里116可以是保护防止发生排气并/或可起保护阻隔物作用以防止气体及/或微粒从衬底承载体100的内部区域104渗透出或进入的任何合适的材料或涂层。
衬里116还可以是(或可起作用)吸收阻隔物,其吸收气体及/或微粒以防止其渗透通过衬里。适用于衬里116的示例性吸收材料包括干燥剂或干燥剂类材料等。因此,可以防止(或至少可显著减少)气体或微粒渗透进入衬底承载体100的内部区域104或从内部区域104渗透至外部。
衬里116可以具有足以实现显著减少气体及/或微粒渗透性的任何厚度。在示例性实施例中,衬里116可具有从约1微米至约50微米的厚度,也可以采用其他厚度,且还可采用非均匀及/或改变厚度。
衬里116可通过任何合适的形式适用于衬底承载体主体102及衬底承载体门114的内壁。例如,衬里116可以是片材料,其可在衬底承载体100的各个内壁或组件(包括门114)上布置、粘合、或耦合。可替代地,衬里116可通过喷涂,通过以液体涂层(其可干燥为固态材料片)来覆盖内壁或组件或通过其他任何合适的技术来适用。在另一示例性实施例中,衬底116可气相沉积在衬底承载体100的各个内壁或组件上。总而言之,衬底116可以任何合适的形式(例如,固态、液态、气态等)并/或以任何合适的方式适用或安装。
衬里116可起防止任何气体或微粒从衬底承载体100的内部区域104渗透至并/或通过各个壁106、108及110以及/或衬底承载体门114而进入包围衬底承载体100的环境的作用。衬里116还可起防止污染物从包围衬底承载体100的环境或从衬底承载体自身的组件通过进入衬底承载体的内部区域104的作用。
尽管图1示出了适于保持多个衬底的示例性衬底承载体,但如图2所示,在另一示例性实施例中,本发明的衬底承载体可设计为或适于仅保持单一衬底或少量衬底。
图2是根据本发明设置的另一示例性衬底承载体的侧剖面视图,其总体由参考标号200表示。参考图2,衬底承载体200包括具有内部区域204的衬底承载体主体202。内部区域204由内部顶壁206、内部侧壁208以及内部底壁210限定。
衬底承载体200还包括衬底承载体门212以及衬底支撑装置214,在示例性实施例中,衬底支撑装置214可布置在或附装至内部底壁210。
如图所示,衬底承载体200还包括位于内部顶壁206以及各个内部侧壁208及内部底壁210上的衬里216。
在图2的示例性实施例中,衬里216可在衬底承载体200的包括任何角落区域的一个壁或多个壁或其他内部组件的一部分或全部上定位、沿其布置、或形成在其上,或沿其形成。例如,衬底支撑装置214或其一部分可包括衬里216。
衬底承载体200还可在衬底承载体门212的内侧的全部或一部分上具有衬里216。
衬里216可以是诸如玻璃片或玻璃涂层的气密材料。在另一示例性实施例中,衬里216可以是氮化硅片或涂层、二氧化硅片或涂层、或其他介电材料。总而言之,衬里216可以是保护防止发生排气并/或可起保护阻隔物作用以防止气体及/或微粒从衬底承载体200的内部区域204渗透出或进入的任何合适的材料或涂层。
衬里216还可以是(或可起作用)吸收阻隔物,其吸收气体及/或微粒以防止其渗透通过衬里。适用于衬里216的示例性吸收材料包括干燥剂或干燥剂类材料等。因此,可以防止(或至少可显著减少)气体或微粒渗透进入衬底承载体200的内部区域204或从内部区域204渗透至外部。
类似于图1中的衬里116,图2中的衬里216可以具有任何需要的厚度。在一个实施例中,衬里216可具有从约1微米至约50微米的厚度。此外,类似于图1中的衬里116,衬里216也可以固态、液态、气态等任何合适的形式适用。
衬里116可起防止任何气体或微粒从衬底承载体200的内部区域204渗透至并/或通过各个壁206、208及210以及/或衬底承载体门214而进入包围衬底承载体200的环境或从该环境渗透出的作用。
在一些实施例中,衬里116及216可起防止用以形成衬底承载体100及200的主体或壳体及/或门114及212的材料自身排气并污染存储在衬底承载体100及200内的作用。此外,衬里116及216可起保护衬里的作用来防止例如从衬底施放或排气的反应成份腐蚀衬底承载体材料。衬里116及216还可允许改变构造衬底承载体所使用的方法及/或材料。例如,可以对衬底承载体使用较廉价并/或更易加工的材料,该材料在没有衬里时则不适用(例如,衬里可在衬底与衬底承载体材料之间提供必要的阻隔或隔离)。
虽然以各种示例性实施例描述并示出了本发明,但这些描述仅是对本发明的举例说明而不应被理解为对发明的限制。因此,本发明涵盖落入由所附权利要求界定的本发明的范围内的任何及全部改变、变化及/或替代实施例。
本申请要求2005年12月16日提交的题目为“SUBSTRATE CARRIERHAVING AN INTERIOR LINING”美国临时专利申请No.60/751,105作为优先权,其通过引用而被包括在本申请中。

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本发明涉及一种包括衬里的装置及其制造方法,所述衬里适于封闭衬底承载体内的空间并还适于防止气体到达所述封闭空间。所述衬里可从所述衬底承载体移除。所述衬里可以是自支撑的并/或由所述衬底承载体的内壁支撑。所述衬里可以适于吸收微粒以防止存储在所述衬底承载体内的衬底被污染。所述衬里可以是在衬底承载体内涂附的防止从衬底承载体排气的内部玻璃。本申请还公开了其他方面。 。

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