平板显示装置中的EMI屏蔽薄膜及包含该薄膜的前端滤光器 【技术领域】
本发明大体上涉及一种在平板显示装置中的EMI(电磁干扰)屏蔽薄膜及包含该薄膜的前端滤光器，尤其涉及这样一种平板显示装置中的EMI屏蔽薄膜及包含该薄膜的前端滤光器，其中该EMI屏蔽层的制造工艺被大大简化并因此其制造成本被大大降低。
背景技术
由于近几年技术的发展，平板显示器已经得到了广泛的应用。平板显示器的典型例子是LCDs(液晶显示器)和等离子显示面板。
尤其，等离子显示面板(下文称作PDPs)通过使用波长为147nm的紫外线照射荧光物质来显示包括字符或图形的图像，该紫外线是通过不同组合的惰性混合气体譬如He+Xe，Ne+Xe，He+Ne+Xe的放电产生的。
该PDP技术目前处于大规模生产阶段，并且在PDP技术上取得的最新发展使得制造细巧地PDPs和使图像质量大幅改善更为容易。特别是在三电极交流(AC)表面放电型PDP中，由放电形成的带电粒子(即壁电荷)累积在表面上，而该表面保护电极不受由放电引起的溅射的影响。因此，该三电极AC表面放电PDP消耗更少的电压并且具有很长的寿命。
图1是现有技术PDP的放电单元结构的透视图。
参照图1，三电极AC表面放电PDP的放电单元包括形成在上部基板10上的扫描电极(Y)和维持电极(Z)，及形成在下部基本18上的编址电极(X)。该扫描电极(Y)和维持电极(Z)分别包括透明电极(12Y和12Z)，和形成在透明电极(12Y和12Z)的边缘并具有比该透明电极(12Y和12Z)的线宽窄的总线电极(13Y和13Z)。
该透明电极(12Y和12Z)通常由铟-锡-氧化物(ITO)制成并形成在上部基板10上。该总线电极(13Y和13Z)典型地由金属譬如铬(Cr)制成并形成在该透明电极(12Y和12Z)上。该总线电极(13Y和13Z)的主要功能是减少由具有高电阻的透明电极(12Y和12Z)产生的压降。同样，上部电介质层14和保护膜16被叠放在具有并排形成的扫描电极(Y)和维持电极(Z)的上部基板10上。由等离子放电产生的带电粒子(即壁电荷)累积在上部电介质层14上。该保护膜16防止由于在等离子放电时产生的溅射所引起的上部电介质层14的损害，同时提高了次级电子的发射效率。该保护膜16通常由氧化镁(MgO)制成。
下部电介质层22和阻隔壁24形成在具有编址电极(X)的下部基板18上。荧光层26被涂覆在下部电介质层22和阻隔壁24的表面。该编址电极(X)与扫描电极(Y)和维持电极(Z)成直角形成。该阻隔壁24形成条或格子图案，并防止由于放电产生的紫外线和可见光泄漏到邻近的放电单元。
该荧光层26被等离子放电时产生的紫外线激发以产生红色、绿色和蓝色之一的可见光。惰性混合气体被注入到在上部和下部基板10和18及阻隔壁24之间限定的放电空间内。
在具有上述放电单元结构的PDP中，如图2所示，为了屏蔽电磁波并且为了防止外部光线的反射，前端滤光器(front filter)30被安装在上部基板10处。
有两种类型的前端滤光器30：玻璃型前端滤光器和薄膜型前端滤光器。如图3所示，玻璃型前端滤光器和薄膜型前端滤光器都具有EMI屏蔽薄膜34以屏蔽从PDP产生的电磁波。
该EMI屏蔽薄膜34包括具有导电网格36的网格单元38，用于环绕网格单元38外部的网格框架32，及叠放在该网格单元38和该网格框架32上的黑色框架40。
该网格单元38是由彼此交叉的导电网格36形成的。为了制作导电网格36，银(Ag)或铜(Cu)的网格金属层经过光刻处理。这些交叉的导电网格36提供具有偏角(θ)的四方形孔以通过其透射可见光线。
该网格框架32环绕在该网格单元38的外部以支撑该网格单元38。同样，该网格框架32和电气连接到该网格框架32的壳体(case)(未示出)被接地以达到地电压，并吸收从该PDP发射的电磁波并对释放它们。以这种方式，该电磁波不会被发射到外部。该网格框架32通常由银(Ag)或铜(Cu)制成。
该黑色框架40限定有效的显示区域使得屏幕轮廓看起来更突出。该黑色框架40比该网格框架30相对宽，并由黑色陶瓷材料制成。
用于玻璃型前端滤光器的现有技术的黑色框架是通过把黑色陶瓷材料沉积在玻璃基板(未示出)的表面上然后在上面完成图案处理形成的。然而，因为现有技术的方法对于形成黑色框架要求额外的工艺，所以整个工艺变得很复杂。
【发明内容】
本发明的一个目的是解决至少是上述问题和/或缺点并提供至少是下面描述的优点。
因此，本发明的一个目的是通过提供一种在平板显示装置中的EMI屏蔽薄膜和含有该薄膜的前端滤光器来解决前述问题，其中用于EMI屏蔽层的制造工艺被大大简化，从而其制造成本也被大大降低了。
本发明的另一个目的是提供一种在平板显示装置中的EMI屏蔽薄膜和含有该薄膜的前端滤光器，其中通过把在屏幕上确定有效显示区域的黑色框架去掉使该EMI屏蔽薄膜的结构被大大简化。
前述的和其他的目的和优点通过在平板显示装置中提供一种前端滤光器来实现，该前端滤光器被连在该平板显示装置的前表面上并包括用于阻塞近红外线发射到外部的NIR(近红外线)阻塞薄膜；用于吸收电磁波并用于防止电磁波被发射到外部的EMI(电磁干扰)屏蔽薄膜；形成在该EMI屏蔽薄膜前表面上的玻璃；及用于防止来自外部的入射光线被反射回外部的抗反射涂层，其中该EMI屏蔽薄膜包括彼此交叉的导电网格形成的网格单元；及用于环绕该网格单元以支撑该网格单元并用于在屏幕上限定有效显示区域的网格框架。
该前端滤光器进一步包括在平板显示装置的前表面和该NIR阻塞薄膜之间的抗反射涂层，从而该抗反射涂层防止来自外部的入射光线反射回外部。
本发明的另一个方面提供了在平板显示装置中的前端滤光器，该前端滤光器被连在该平板显示装置的前表面并包括用于阻塞近红外线发射到外部的NIR(近红外线)阻塞薄膜；用于吸收电磁波并用于防止电磁波被发射到外部的EMI(电磁干扰)屏蔽薄膜；及用于防止来自外部的入射光线反射回外部的抗反射涂层，其中该EMI屏蔽薄膜包括通过对PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)和金属箔的双层基膜形成图案形成的网格单元，和用于环绕该网格单元的网格框架，该网格框架具有PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)和金属箔的双层结构。
本发明的另一个方面还提供了一种平板显示装置的EMI(电磁干扰)屏蔽薄膜，其中该EMI屏蔽薄膜包括：由彼此交叉的导电网格形成的网格单元；和用于环绕该网格单元以支撑该网格单元并用于在屏幕上限定有效显示区域的网格框架。
该网格单元是通过对PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)和金属箔的双层基膜形成图案形成的。
该网格框架具有包括PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)和金属箔的双层结构。
本发明的其他的优点，目的和特征一部分将在随后的描述中提出并且一部分对于那些本领域的普通技术人员在对下文研究的基础上将变得很清楚或可以从对本发明的实践中学习到。本发明的目的和优点可以如所附权利要求中所特别指出的实现和获得。
【附图说明】
下面参照附图对本发明进行详细描述，其中同样的参考号代表同样的元件。
图1是在等离子显示面板中现有技术的放电单元的透视图；
图2图解说明前端滤光器安装在上部基板上以屏蔽电磁波和防止外部光线反射；
图3是表示现有技术的EMI(电磁干扰)屏蔽薄膜；
图4是表示现有技术的EMI屏蔽薄膜的横截面视图；
图5是表示根据本发明的第一个实施例的前端滤光器的横截面视图；
图6是表示根据本发明的EMI屏蔽薄膜；及
图7是表示包含根据本发明第二个实施例的前端滤光器的PDP的横截面视图。
【具体实施方式】
下面参照附图5到7对本发明的优选实施例进行详细描述。
图5是表示根据本发明第一个实施例的玻璃型前端滤光器的横截面视图。
参照图5，玻璃型前端滤光器102包括连在玻璃基板82的前表面的第一抗反射涂层80，EMI屏蔽薄膜84，NIR(近红外线)阻塞薄膜86，和第二抗反射涂层88，该EMI屏蔽薄膜84，NIR阻塞薄膜86和第二抗反射涂层88按照引述的次序被粘附在该玻璃基板82的后表面上。该玻璃型前端滤光器102屏蔽产生的到PDP 100的前表面的电磁波，防止外部光线反射，阻塞近红外线，并校正色彩。
该玻璃基板82是用强化玻璃制成以支撑该玻璃型前端滤光器102并用于保护该前端滤光器102和该PDP100防止由于外部冲击引起的损伤。
该第一和第二抗反射涂层80和88防止来自外部的入射光线被反射回外部，从而提高了对比效果。
该EMI屏蔽薄膜84吸收从该PDP 100产生的电磁波，并屏蔽电磁波发射到外部。
该NIR阻塞薄膜86吸收从PDP 100产生的在800-1000nm波长带的近红外线，并阻止近红外线发射到外部。这就是从遥控器产生的红外线(大约947nm)被正常输入到安装在PDP装置中的红外线接收器的原因。而且，该NIR阻塞薄膜87包括含有彩色染料的色彩校正薄膜其通过调整或校正色彩来提高色彩纯度。这些薄膜80，84，86和88通过粘合剂或胶水被粘附在玻璃基板82上。
该玻璃型前端滤光器102被安装在该等离子显示面板100的前表面处。该等离子显示面板100包括具有一对维持电极的上部基板60，和具有一编址电极的下部基板66。至于该等离子显示面板100，阻隔壁74被置于上部和下部基板60和66之间。
如图6所示，根据本发明第一个实施例的EMI屏蔽薄膜包括由导电网格76形成的网格单元78，和用于环绕该网格单元78外侧的网格框架72。
该网格单元78是通过对包括PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)和金属箔的双层基膜进行蚀刻获得的。该网格单元78是由导电网格76以交叉结构形成的。为了制作该导电网格76，银(Ag)，铜(Cu)，金(Au)或铝(Al)的网格金属层经过光刻处理。这些交叉的导电网格76提供具有偏角(θ)的四方形孔以通过其透射可见光线。
该网格框架72环绕该网格单元78的外部以支撑该网格单元78，同时限定有效显示区域，从而使得屏幕的轮廓看起来更突出。同样，该网格框架72是非蚀刻金属层，其通过在蚀刻工艺过程中遮蔽网格单元78的外部区域形成。
因此，该网格框架72具有双层结构，其中PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)和金属箔是彼此交替的。
与导电网格76相似，该金属箔是由银(Ag)，铜(Cu)，金(Au)或铝(Al)制成。
更清楚地讲，该网格框架72的金属箔的表面被黑化了。优选地，该金属箔的表面是黑色，棕色和灰色中任意一个。
该金属箔的表面是通过电化学处理，选择性印刷，或以合成薄膜(compound film)涂覆黑化的。该电化学处理包括譬如氧化或非电解镀层。
换句话说，该金属箔的表面能被氧化或涂覆合成薄膜。同样，该金属箔的表面能用墨水或染料印刷。
在金属箔上的表面处理工艺在网格单元78和网格框架72形成之后进行。先处理具有PET和金属箔的双层结构的基膜表面，该基膜，然后形成网格单元78和网格框架72也是可能的。
此外，该网格框架72和电气连接到该网格框架72的壳体(未示出)被接地到地电压，吸收从PDP发射的电磁波并释放它们。这就是该网格框架72防止电磁波被发射到外部的方式。
该网格框架72与现有技术的黑色框架具有相同的宽度。
图7是包括根据本发明的第二个实施例的薄膜型前端滤光器的PDP的横截面视图。
如图7所示，该薄膜型前端滤光器104包括NIR(近红外线)阻塞薄膜86，EMI屏蔽薄膜84，和抗反射涂层80，该NIR阻塞薄膜86，该EMI屏蔽薄膜84和该抗反射涂层80按照提到的顺序被粘附到PDP 100的上部基板60上。由于该NIR阻塞薄膜86和该抗反射涂层80已经参照图5被详细解释了，这里不再进行进一步的描述。
如图6所示，该EMI屏蔽薄膜84的网格框架72环绕在该网格单元78的外部区域以支撑该网格单元78，同时限定有效显示区域，从而使得该屏幕的轮廓看起来更突出。
此外，该网格框架72和电气连接到该网格框架72的壳体(未示出)被接地到地电压，并吸收从PDP发射的电磁波同时释放它们。这就是该网格框架72如何防止电磁波被发射到外部的方式。
该网格框架72具有与现有技术的黑色框架相同的宽度。为了限定有效显示区域，由譬如Ag，Cu，Au或Al制成的金属层经过布图处理，并且该金属箔的表面被黑化。更精确的讲，该金属箔的表面是通过电化学处理，选择性印刷，或涂覆合成薄膜黑化的。电化学处理包括譬如氧化或非电解镀层。
因为根据本发明的第二个实施例的薄膜型前端滤光器104被连在该PDP 100的上部基板60上，所以不需要被使用于图5的玻璃型前端滤光器102的玻璃基板82。因此，与该玻璃型前端滤光器102相比，该薄膜型前端滤光器104对于制造更细和更轻的PDP装置更有效。
总之，本发明简化了制造工艺并减少了包括EMI屏蔽薄膜和含有该薄膜的前端滤光器的制造成本。
尽管本发明是参照其特定的优选实施例被示出和被描述的时，本领域的技术人员可以理解在不脱离如所附权利要求所限定的本发明宗旨和范畴的情况下，可以在形式上或细节上对本发明作出各种改变。
前述的实施例和优点仅仅是示范性的，并不能作为对本发明的限制。本发明的原理可以容易地应用到其他类型的装置中。本发明的说明书是用于说明的，并不用于限制权利要求的范围。对于本领域的技术人员来说多种替换，修改和改变将是很显而易见的。在权利要求中，装置加功能语句用于覆盖这里描述的执行所述功能的结构并且不仅结构等同而且等同结构。