一种磨机上阶梯寸板的接触涂料技术领域：
本发明涉及磨机配件加工生产技术领域，具体涉及一种磨机上阶梯寸板
的接触涂料。
背景技术：
磨机根据磨矿介质和研磨物料的不同，可分为：球磨机、柱磨机、棒磨
机、管磨机、自磨机、旋臼式辊磨机、立磨、多层立磨、立式辊磨机、DMC磨
机等。陶瓷工业生产中普遍采用间歇式球磨机,采用湿法生产,其研磨作用可
分为两个部分,一是研磨体之间和研磨体与简体之间的研磨作用,二是研磨体
下落时的冲击作用,为了提高研磨效率就要从这两方面入手。金属矿的“多
碎少磨”技术和工艺是一个提了很多年的话题，降低球磨机的入磨粒度，在
球磨机前增加一段预磨或超细碎工艺，是矿山企业节能降耗的重要技术革新。
磨机碎磨工艺的研究是矿物加工工程技术中的重点之一。碎磨工艺是通过磨
机利用能量对矿石进行挤压、滚压、冲击和研磨，使矿石中有用矿物单体解
理(离)，利于下阶段进行选别的过程。
发明内容：
本发明所要解决的技术问题在于克服现有的技术缺陷提供一种方法合
理、操作简单、配比清晰、耐磨、抗压的一种磨机上阶梯寸板的接触涂料。
本发明所要解决的技术问题采用以下的技术方案来实现：
一种磨机上阶梯寸板的接触涂料，其特征在于：由以下重量份的材料制
成，
氧化铁6份、碳粉3份、三丁基三氯化锡1份、己二酸丙二醇聚酯3份、海
泡石粉1份、大豆油2份、聚异丁烯2份、磷酸三乙酯1份、二乙二醇丁醚1份、
铜粉2份、银粉1份、焙烧沸石粉3份、水杨酸钠2份、葡萄糖酸钠1份、癸二酸
丙二醇聚酯3份、调节剂6份；
包括以下制备步骤，
Ⅰ将氧化铁、碳粉、三丁基三氯化锡、己二酸丙二醇聚酯、海泡石粉、
大豆油、聚异丁烯、磷酸三乙酯、二乙二醇丁醚放入一号粉碎设备中边搅拌
边粉碎，在进行20分钟后，向内添加设备内材料总量1/10去离子水，继续工
作23分钟；
Ⅱ将铜粉、银粉、焙烧沸石粉、水杨酸钠、葡萄糖酸钠、癸二酸丙二醇
聚酯放入二号粉碎设备中边搅拌边粉碎，在进行20分钟后，向内添加设备内
材料总量1/13的蒸馏水，继续工作20分钟；
Ⅲ将Ⅰ和Ⅱ搅拌后的材料共同放入一号搅拌设备中搅拌20分钟后放入设
备中材料总量的1/18的100℃的开水，继续搅拌25分钟；
Ⅳ将搅拌后的材料与调节剂共同放入二号搅拌设备中搅拌15分钟后放入设备
中材料总量的1/21的100℃的开水，继续搅拌25分钟；
所述调节剂由以下重量份的材料制成，
无根藤4份、千日红5份、牡丹皮6份、赤石脂7份、鸡内金8份、紫玉簪9
份、酸枣仁10份、朱砂3份、羚羊角2份、阿胶3份、枸骨叶4份；
制备方法：将上述的材料用清水清洁干净之后，放在通风的地方晾干，
然后放入粉碎设备中按照常规的方法粉碎成粉末状，备用。
本发明的有益效果为：添加的一系列的材料能够使涂料起到保护产品的
作用，能够增加寿命，使材料更加耐磨、耐腐蚀，而添加的中药能够中和材
料内的毒素，使工作人员在使用的时候保证其健康，而且材料的成本不高，
而加水是为了防止材料粘结到一起成块。本发明方法合理、操作简单、配比
清晰、耐磨、抗压。
具体实施方式：
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了
解，下面进一步阐述本发明。
一种磨机上阶梯寸板的接触涂料，其特征在于：由以下重量份的材料制
成，
氧化铁6份、碳粉3份、三丁基三氯化锡1份、己二酸丙二醇聚酯3份、海
泡石粉1份、大豆油2份、聚异丁烯2份、磷酸三乙酯1份、二乙二醇丁醚1份、
铜粉2份、银粉1份、焙烧沸石粉3份、水杨酸钠2份、葡萄糖酸钠1份、癸二酸
丙二醇聚酯3份、调节剂6份；
包括以下制备步骤，
Ⅰ将氧化铁、碳粉、三丁基三氯化锡、己二酸丙二醇聚酯、海泡石粉、
大豆油、聚异丁烯、磷酸三乙酯、二乙二醇丁醚放入一号粉碎设备中边搅拌
边粉碎，在进行20分钟后，向内添加设备内材料总量1/10去离子水，继续工
作23分钟；
Ⅱ将铜粉、银粉、焙烧沸石粉、水杨酸钠、葡萄糖酸钠、癸二酸丙二醇
聚酯放入二号粉碎设备中边搅拌边粉碎，在进行20分钟后，向内添加设备内
材料总量1/13的蒸馏水，继续工作20分钟；
Ⅲ将Ⅰ和Ⅱ搅拌后的材料共同放入一号搅拌设备中搅拌20分钟后放入设
备中材料总量的1/18的100℃的开水，继续搅拌25分钟；
Ⅳ将搅拌后的材料与调节剂共同放入二号搅拌设备中搅拌15分钟后放入设备
中材料总量的1/21的100℃的开水，继续搅拌25分钟；
所述调节剂由以下重量份的材料制成，
无根藤4份、千日红5份、牡丹皮6份、赤石脂7份、鸡内金8份、紫玉簪9
份、酸枣仁10份、朱砂3份、羚羊角2份、阿胶3份、枸骨叶4份；
制备方法：将上述的材料用清水清洁干净之后，放在通风的地方晾干，
然后放入粉碎设备中按照常规的方法粉碎成粉末状，备用。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行
业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明
书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，
本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范
围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。