有机发光面板及其制造方法以及有机显示装置.pdf

本发明提供一种有机发光面板及其制造方法以及有机显示装置。像素部构成为包括3个子像素100a~100c。子像素100a由堤105a、105b规定，子像素10b由堤105b、105c规定，子像素100c由堤105c、105d规定。对于子像素100a、100b、100c的各有机发光层，通过按该子像素100a、100b、100c的顺序涂敷并干燥来形成。在此，堤105a的面部105aa、堤105b的面部105ba、105bb以及堤105c的面部105cb被设定成：倾斜角度θaa等于倾斜角度θba，倾斜角度θcd大于倾斜角度θbb。

权利要求书一种有机发光面板，是排列多个像素部而成的有机发光面板，
所述多个像素部的各像素部具有发光色互不相同的按顺序排列的多个发光部，
各发光部包括基底层、有机发光层以及第2电极，所述基底层包括第1电极，所述有机发光层与所述基底层对向设置、涂覆含有与各发光色对应的有机发光材料的墨而形成，所述第2电极相对于所述有机发光层形成在与所述基底层相反一侧，
同一像素部内的所述多个发光部至少具有从一侧向另一侧依次被涂覆与各发光色对应的所述墨而形成所述有机发光层的、位于一侧的被第1轮涂覆对应的墨的第1发光部、位于中央侧的被第2轮涂覆对应的墨的第2发光部、以及位于另一侧的被第3轮涂覆对应的墨的第3发光部，
在所述基底层的上方设有区划所述多个发光部中相邻的发光部而规定各发光部的多个隔壁，
所述多个像素部包括如下像素部：
规定所述第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同，且位于所述第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于所述第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
根据权利要求1所述的有机发光面板，
所述多个像素部形成为连续地相邻，
规定所述第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
根据权利要求2所述的有机发光面板，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定所述第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
根据权利要求3所述的有机发光面板，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定所述第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
根据权利要求4所述的有机发光面板，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为35度以上且45度以下，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下，
规定所述第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下，
规定所述第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下。
根据权利要求1所述的有机发光面板，
在所述多个像素部的相邻的各像素部之间形成有非像素部，
在所述像素部与所述非像素部之间，形成有区划像素部和非像素部的隔壁，
在各像素部中，规定所述第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同，位于所述非像素部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于所述第2发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
根据权利要求6所述的有机发光面板，
所述非像素部不包括所述有机发光层，包括所述第2电极和以与所述第1电极相同的材料构成的第3电极，所述第2电极与所述第3电极电连接。
根据权利要求6所述的有机发光面板，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，大于位于所述第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，
规定所述第3发光部的相邻两隔壁的位于所述非像素部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，大于位于所述第2发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度。
根据权利要求8所述的有机发光面板，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定所述第3发光部的相邻两隔壁的位于所述非像素部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
根据权利要求6所述的有机发光面板，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定所述第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
根据权利要求10所述的有机发光面板，
规定所述第3发光部的相邻两隔壁的位于所述第2发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定所述第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
根据权利要求11所述的有机发光面板，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为35度以上且45度以下，
规定所述第3发光部的相邻两隔壁的位于所述非像素部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为35度以上且45度以下，
规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下，
规定所述第3发光部的相邻两隔壁的位于所述第2发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下，
规定所述第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下。
根据权利要求1所述的有机发光面板，
所述倾斜角度为所述隔壁的所述对向的各面部与形成有所述隔壁的所述基底层的上面所成的角度。
一种有机显示装置，具备权利要求1～13中任一项所述的有机发光面板。
一种有机发光面板的制造方法，所述有机发光面板是排列多个像素部而成的面板，所述制造方法包括：
第1工序，在基板上形成包括第1电极的基底层；
第2工序，在所述基底层上层叠感光性抗蚀剂材料；
第3工序，通过对所述层叠的感光性抗蚀剂材料进行掩模曝光而对其进行图案形成，按各像素部形成与多个发光部对应的多个开口，并且，形成区划相邻的所述发光部而规定各发光部的多个隔壁；
第4工序，对所述多个开口分别滴下含有有机发光材料的墨并使其干燥，形成有机发光层；和
第5工序，在所述有机发光层的上方形成第2电极，
在所述第3工序中，
按各像素部而形成与位于一侧的第1发光部对应的第1开口、与位于中央侧的第2发光部对应的第2开口以及与位于另一侧的第3发光部对应的第3开口，
进一步，
将规定所述第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度形成为相等，
使规定所述第2发光部和所述第3发光部中的至少所述第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同，并且，将位于所述第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度形成为大于位于所述第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度，
在所述第4工序中，
按各像素部而对所述第1开口、所述第2开口以及所述第3开口依次滴下与各发光色对应的所述墨，形成所述有机发光层。
根据权利要求15所述的有机发光面板的制造方法，
在所述第3工序中，
关于所述感光性抗蚀剂材料的曝光，使对与规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的面部相当的部分的曝光量大于对与位于所述第1发光部侧的隔壁的面部相当的部分的曝光量，
由此使规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于所述第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
根据权利要求15所述的有机发光面板的制造方法，
在所述第3工序中，
关于所述感光性抗蚀剂材料的曝光，使用对于与各个面部相当的部分的光透射率互不相同的掩模，以使得对与规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的面部相当的部分的光透射率大于对与位于所述第1发光部侧的隔壁的面部相当的部分的光透射率，
由此使规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于所述第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
根据权利要求15所述的有机发光面板的制造方法，
在所述第3工序中，
在使所述感光性抗蚀剂材料曝光、显影后，通过对与规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的面部相当的部分追加进行曝光处理，
从而使规定所述第2发光部的相邻两隔壁的位于所述第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于所述第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
一种有机显示装置，具备通过权利要求15～18中任一项所述的制造方法得到的有机发光面板。

说明书有机发光面板及其制造方法以及有机显示装置
技术区域
本发明涉及有机发光面板及其制造方法以及有机显示装置。
背景技术
近年来，利用有机材料的电致发光现象的显示装置的研究、开发得到进展。在该显示装置中，各像素部构成为具有阳电极、阴电极以及介于阳电极和阴电极之间的有机发光层。并且，在显示装置的驱动中，从阳电极注入空穴，从阴电极注入电子，在有机发光层内通过空穴和电子复合来进行发光。
相邻的像素部的有机发光层彼此之间，通过由绝缘材料构成的隔壁（堤）来进行区划。对于有机发光层的形成，例如，向由隔壁区划出的各区域滴下含有有机发光材料的墨并使其干燥，由此来形成有机发光层。
但是，如上所述形成的有机发光层的膜厚存在难以做得均匀的问题。
在此，为了使有机发光层的膜厚均匀，例如，在专利文献1中记载了如下技术：在隔壁的面部设置凸状部，由此控制相对于隔壁的面部的墨的锁住（pinning）位置。即，通过采用专利文献1中提出的技术，能够将一个像素部的滴下了墨时的锁住位置锁定于形成在面部的凸状部，由此能够确保一定程度的膜厚均匀性。
在先技术文献
专利文献1：日本特开2007‑311235号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是，对于显示装置的有机发光面板，认为难以采用上述专利文献1提出的技术预先把握有机发光层的膜厚不匀而基于该不匀来在各区域或隔壁的各对应面部高精度地形成细微的凸状部。因此，在有机发光面板的整个区域中，不容易使有机发光层的膜厚均匀。
本发明是为了解决上述问题而完成的发明，目的在于提供一种实现面板整个面的有机发光层的膜厚均匀化、面内辉度（brightness）不均少的显示装置及其制造方法。
用于解决问题的手段
因此，本发明的一种方式涉及的有机发光面板的特征在于采用如下结构。
本发明的一种方式涉及的有机发光面板是排列多个像素部而成的有机发光面板，所述多个像素部的各像素部具有发光色互不相同的按顺序排列的多个发光部。各发光部包括基底层、有机发光层以及第2电极，所述基底层包括第1电极，所述有机发光层与基底层对向设置、涂覆含有与各发光色对应的有机发光材料的墨而形成，所述第2电极相对于有机发光层形成在与基底层相反一侧。在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，同一像素部内的多个发光部至少具有从一侧向另一侧依次被涂覆与各发光色对应的墨而形成有机发光层的、位于一侧的被第1轮涂覆对应的墨的第1发光部、位于中央侧的被第2轮涂覆对应的墨的第2发光部、以及位于另一侧的被第3轮涂覆对应的墨的第3发光部，另外，在基底层的上方设有区划多个发光部中相邻的发光部而规定各发光部的多个隔壁。并且，在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在多个像素部内包括满足如下关系的像素部：规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等，规定第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同，且位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
发明的效果
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，第1发光部被第1轮涂敷对应的墨而形成有机发光层，因此在形成第1发光部时，在与第1发光部相邻的区域未涂覆墨，在第1发光部的一端侧与另一端侧，墨的蒸汽浓度为“0”，两端侧的蒸汽浓度相等，有机发光层的膜厚不会产生不匀。因此，关于第1发光部，通过使相邻隔壁的对向的面部的倾斜角度相等，能够防止膜厚不匀，能得到良好的发光特性。
另一方面，第2发光部被第2轮涂敷对应的墨而形成有机发光层，因此在形成第2发光部时，在与第2发光部相邻的区域，墨的蒸汽浓度不同。即，在第2发光部中，作为第1发光部侧的一端侧的墨的蒸汽浓度高于作为第3发光部侧的另一端侧的墨的蒸汽浓度。因此，第2发光部中，有机发光层的作为第3发光部侧的另一端侧的发光层的膜厚会大于作为第1发光部侧的一端侧的发光层的膜厚，膜厚要产生不匀。
但是，根据本发明的一种方式涉及的上述结构，规定第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部的位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度，所以位于第3发光部侧的隔壁的墨的锁住位置比位于第1发光部侧的隔壁的墨的锁住位置高。由此，能抑制第3发光部侧的有机发光层的膜厚，能够防止第2发光部的一端部和另一端部的膜厚不匀。
如上所述，在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，关于同一像素部的发光部，能够防止有机发光层的膜厚不匀，能得到同一像素部的良好的发光特性。
附图说明
图1是表示实施方式1的有机显示装置1的概略结构的框图。
图2是表示显示面板10的一部分子像素100的示意剖视图。
图3是表示显示面板10的堤105的示意俯视图。
图4是表示显示面板10的子像素100a～100c以及对各子像素100a～100c之间进行区划的堤105a～105d的结构的示意剖视图。
图5的（a）是表示堤侧面部的锥角小的情况下的锁住位置的示意剖视图，图5的（b）是表示堤侧面部的锥角大的情况下的锁住位置的示意剖视图，图5的（c）是表示堤侧面部的锥角小的情况下的干燥后的有机发光层的状态的示意剖视图，图5的（d）是表示堤侧面部的锥角大的情况下的干燥后的有机发光层的状态的示意剖视图。
图6是总结表示堤面部的倾斜角度（锥角）θ、锁住位置的高度H以及有机发光层的膜厚T的关系的图。
图7是表示样品1～3的有机发光层的膜厚分布的图。
图8是表示样品4、5的有机发光层的膜厚分布的图。
图9的（a）～（c）是按顺序表示显示面板10的制造方法中的主要部分工序的示意剖视图。
图10的（a）～（c）是按顺序表示显示面板10的制造方法中的主要部分工序的示意剖视图。
图11的（a）、（b）是表示显示面板10的制造方法中的主要部分工序的示意剖视图。
图12的（a）是表示墨1060a～1060c的涂覆以及干燥涉及的工序顺序的示意流程图，图12的（b）是表示墨1060a～1060c的涂覆以及干燥涉及的其他工序顺序的示意流程图。
图13是表示变形例1的制造方法中的主要部分工序的示意剖视图。
图14的（a）、（b）是按顺序表示变形例2的制造方法中的主要部分工序的示意剖视图。
图15的（a）、（b）是按顺序表示变形例2的制造方法中的主要部分工序的示意剖视图。
图16的（a）是表示曝光、显影处理和堤的锥角的关系的图，图16的（b）是表示所形成的堤的形状的AFM（原子力显微镜）。
图17是表示实施方式2的有机显示装置具备的显示面板中的子像素300a～300c以及非像素部300d、300e和堤305a～305e的结构的示意剖视图。
图18的（a）~（c）是表示按顺序涂覆墨3060a～3060c的工序的示意剖视图。
图19的（a）、（b）是用于说明锥角的定义的示意剖视图。
图20是用于说明显示面板10的区域10a1、10a2、10b的示意俯视图。
图21是表示包括有机显示装置1的设备的外观的一例的外观立体图。
图22表示变形例3的显示面板80所具备的堤805的结构的示意俯视图。
图23的（a）、（b）是表示显示面板的各相邻子像素的有机发光层膜厚分布的不匀状态的示意剖视图。
图24的（a）～（c）是表示形成有机发光层时的蒸汽浓度分布和墨干燥工序中的膜形状不匀的状态的示意剖视图。
标号说明
1显示装置
10、30、80显示面板
10a1发光中央区域
10a2发光周边区域
10b虚设区域
20驱动控制单元
21~24驱动电路
25控制电路
100、100a~100c、300a~300c子像素
101基板
102阳电极
103电极覆盖层
104空穴注入层
105、105a~105d、105x、105y、305a~305e、605、705、805堤
106、106a、106c、106x、106y有机发光层
107电子注入层
108阴电极
109封止层
300d、300e非像素部
501~505掩模
1000a~1000c、3000a~3000c子像素预定区域
1050、1051a、1051b、1051e、1051f堤材料层
1060a~1060c、1060x、1060y、3060a~3060c墨
3000d、3000e非像素预定区域
具体实施方式
[本发明的一种方式的概要]
本发明的一种方式涉及的有机发光面板是排列多个像素部而成的有机发光面板，多个像素部的各像素部具有发光色互不相同的按顺序排列的多个发光部。各发光部包括基底层、有机发光层以及第2电极，所述基底层包括第1电极，所述有机发光层与基底层对向设置、涂覆含有与各发光色对应的有机发光材料的墨而形成，所述第2电极相对于有机发光层形成在与基底层相反一侧。
另外，在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，同一像素部内的多个发光部至少具有从一侧向另一侧依次被涂覆与各发光色对应的墨而形成有机发光层的、位于一侧的被第1轮涂覆对应的墨的第1发光部、位于中央侧的被第2轮涂覆对应的墨的第2发光部、以及位于另一侧的被第3轮涂覆对应的墨的第3发光部，另外，在基底层的上方设有区划多个发光部中相邻的发光部而规定各发光部的多个隔壁。并且，在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在多个像素部内包括满足如下条件的像素部：规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等，规定第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同，且位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，第1发光部被第1轮涂敷对应的墨而形成有机发光层，因此在形成第1发光部时，在与第1发光部相邻的区域未涂覆墨，在第1发光部的一端侧与另一端侧，墨的蒸汽浓度为“0”，两端侧的蒸汽浓度相等，有机发光层的膜厚不会产生不匀。因此，关于第1发光部，通过使相邻隔壁的对向的面部的倾斜角度相等，能够防止膜厚不匀，能得到良好的发光特性。
另一方面，第2发光部被第2轮涂敷对应的墨而形成有机发光层，因此在形成第2发光部时，在与第2发光部相邻的区域，墨的蒸汽浓度不同。即，在第2发光部中，作为第1发光部侧的一端侧的墨的蒸汽浓度高于作为第3发光部侧的另一端侧的墨的蒸汽浓度。因此，第2发光部中，有机发光层的作为第3发光部侧的另一端侧的发光层的膜厚会大于作为第1发光部侧的一端侧的发光层的膜厚，膜厚要产生不匀。
但是，根据本发明的一种方式涉及的上述结构，规定第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部的位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度，所以位于第3发光部侧的隔壁的墨的锁住位置比位于第1发光部侧的隔壁的墨的锁住位置较高。由此，能抑制第3发光部侧的有机发光层的膜厚，能够防止第2发光部的一端部和另一端部的膜厚不匀。
如上所述，在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，关于同一像素部的发光部，能够防止有机发光层的膜厚不匀，能得到同一像素部的良好的发光特性。
此外，上述中“倾斜角度”是指堤的各侧面部与设置堤的基底层（第1电极或空穴注入层、空穴输送层、还有空穴注入输送层属于该层）的上面所成的角度。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：多个像素部形成为连续地相邻，规定第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
在采用上述结构的情况下，除了上述效果以外，通过使规定第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等，关于在制造时不发生膜厚不匀的第3发光部，还能够防止有机发光层的膜厚不匀，能够得到良好的发光特性。由此，在多个像素部中能得到良好的发光特性。
此外，上述的“相等”并不一定意味着数值上完全相等，而是要考虑有机发光面板制造中的尺寸误差等。具体而言，意味着在面板的中央部和外周部，在各自所属的像素部的发光效率的差异（辉度不匀）在实用上能够容许的范围内，使倾斜角度相等。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
在采用上述结构的情况下，在第2轮涂敷墨的第2发光部中，由于已经在第1轮对第1发光部进行了墨涂敷，所以作为第1发光部侧的一端侧的墨的蒸汽浓度高于作为第3发光部侧的另一端侧的墨的蒸汽浓度，但通过使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度等于规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度，能够抑制所形成的有机发光层的膜厚不匀。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
在采用上述结构的情况下，在第2轮涂敷墨的第2发光部中，由于已经在第1轮对第1发光部进行了墨涂敷，所以作为第1发光部侧的一端侧的墨的蒸汽浓度高于作为第3发光部侧的另一端侧的墨的蒸汽浓度，但通过使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度等于规定第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度，能够抑制所形成的有机发光层的膜厚不匀。
此外，在上述结构中，相邻的像素部和像素部连续地形成，在其之间不设置用于配设母线的非像素部，因此在对第3发光部涂覆墨的情况下，两侧的蒸汽浓度没有差异，因此，规定第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度被设定为彼此相等。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述像素部彼此连续地相邻的结构中，可以将各隔壁的面部的倾斜角度具体设定在以下的范围内。
（a1）可以使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为35度以上且45度以下。
（a2）可以使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下。
（a3）可以使规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下。
（a4）可以使规定第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：在多个像素部的相邻的各像素部之间形成有非像素部，在像素部与非像素部之间，形成有区划像素部和非像素部的隔壁，在各像素部中，规定第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同，位于非像素部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第2发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
这样在相邻的各像素部之间形成有非像素部的结构的情况下，在第3轮涂覆墨的第3发光部中，在第2发光部侧和非像素部侧，蒸汽浓度不同，但通过如上所述采用规定第3发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同、且位于非像素部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第2发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度的结构，能够通过对墨的锁住位置进行相对的调整来抑制有机发光层的膜厚不匀。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：非像素部不包括有机发光层，包括第2电极和以与上述第1电极相同的材料构成的第3电极，第2电极与第3电极电连接。
例如，在顶部发射型的有机发光面板中，作为相比于有机发光层配置在上方（光取出侧）的第2电极，通常使用具有光透射性的材料（例如ITO、IZO等），但这些材料的电阻大。因此，在非像素部中，连接第2电极和第3电极来实现电阻的降低，在面板尺寸大的情况下也不容易产生电压降，能够确保高的发光特性。第3电极例如为母线。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，大于位于第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，另外，规定第3发光部的相邻两隔壁的位于非像素部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，大于位于第2发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度。
在采用该结构的情况下，通过使规定第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部内位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度，能够使对于第3发光部侧的隔壁的该面部的、对第2发光部涂敷的墨的锁住位置比对于第1发光部侧的隔壁的该面部的、对第2发光部涂敷的墨的锁住位置高，能够抑制所形成的有机发光层的膜厚不匀。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定第3发光部的相邻两隔壁的位于非像素部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
在采用该结构的情况下，由于与第3发光部相邻地配置有非像素部，在向第3发光部涂覆墨时，非像素部侧的蒸汽浓度比第2发光部侧的蒸汽浓度低，但通过如上所述使规定第3发光部的相邻两隔壁的位于非像素部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度等于规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，能够与第2发光部同样地抑制第3发光部中的有机发光层的膜厚不匀。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
在向第2发光部涂覆墨时，因为处于已经完成向与第2发光部相邻的第1发光部的墨涂敷的状态，因此处于第1发光部侧的蒸汽浓度高于第3发光部侧的蒸汽浓度的状态，具有第3发光部侧的有机发光层的膜厚要变厚的倾向，但关于第1发光部侧，这样的倾向小。由此，在采用上述结构的情况下，通过按上述关系来规定隔壁的面部的倾斜角度，能够抑制第2发光部的有机发光层的相对的膜厚不匀。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中可以采用如下结构：规定第3发光部的相邻两隔壁的位于第2发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度，与规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度相等。
在向第3发光部涂覆墨时，也由于蒸汽浓度的不匀，关于有机发光层的膜厚，具有在非像素部侧要变厚的倾向，但关于第2发光部侧，这样的倾向小。由此，在采用上述结构的情况下，通过按上述关系来规定隔壁的面部的倾斜角度，能够抑制第3发光部的有机发光层的相对的膜厚不匀。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述相邻的像素部之间配置非像素部的结构中，可以将各隔壁的面部的倾斜角度具体设定在以下的范围内。
（b1）可以使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为35度以上且45度以下。
（b2）可以使规定第3发光部的相邻两隔壁的位于非像素部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为35度以上且45度以下。
（b3）可以使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第1发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下。
（b4）可以使规定第3发光部的相邻两隔壁的位于第2发光部侧的隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下。
（b5）可以使规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度为25度以上且35度以下。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，在上述结构中，可以将倾斜角度定义为隔壁的上述对向的各面部与形成隔壁的基底层的上面所成的角度。
此外，在本发明的一种方式涉及的有机发光面板中，可以采用如下结构：在基底层中包含相比于第1电极形成于下方的TFT（薄膜晶体管）层，在各像素部中，第1电极与TFT层电连接。
本发明涉及的有机显示装置的特征在于，具备上述任一项所记载的有机发光面板。因此，本发明的一种方式涉及的有机显示装置同样具有上述本发明的一种方式涉及的有机显示面板所具有的效果。
本发明的一种方式涉及的有机发光面板的制造方法是制造排列多个像素部而成的有机发光面板的方法，所述制造方法包括以下工序。
（第1工序）在基板上形成包括第1电极的基底层。
（第2工序）在基底层上层叠感光性抗蚀剂材料。
（第3工序）通过对层叠的感光性抗蚀剂材料进行掩模曝光而对其进行图案形成，按各像素部形成与多个发光部对应的多个开口，并且，形成区划相邻的发光部而规定各发光部的多个隔壁。
（第4工序）对多个开口分别滴下含有有机发光材料的墨并使其干燥，形成有机发光层。
（第5工序）在有机发光层的上方形成第2电极。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板的制造方法中，在所述第3工序中，按各像素部而形成与位于一侧的第1发光部对应的第1开口、与位于中央侧的第2发光部对应的第2开口以及与位于另一侧的第3发光部对应的第3开口，进一步，将规定第1发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度形成为相等。
另外，在本发明的一种方式涉及的有机发光面板的制造方法中，在所述第3工序中，使规定第2发光部和第3发光部中的至少第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同，并且，将位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度形成为大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
进一步，在本发明的一种方式涉及的有机发光面板的制造方法中，在所述第4工序中，按各像素部而对第1开口、第2开口以及第3开口依次滴下与各发光色对应的所述墨，形成有机发光层。
通过采用本发明的一种方式涉及的制造方法，能够实现如下的结构：使至少规定第2发光部的相邻两隔壁的对向的面部的倾斜角度不同，并且，将位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度形成为大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度，能够抑制由于从墨滴下（涂敷）到干燥的蒸汽浓度的不匀导致的有机发光层的膜厚不匀。由此，当采用本发明的一种方式涉及的制造方法时，能够制造具有良好的发光特性的有机发光面板。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板的制造方法中，在上述构成中可以采用如下构成：在第3工序中，关于感光性抗蚀剂材料的曝光，使对与规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的面部相当的部分的曝光量大于对与位于第1发光部侧的隔壁的面部相当的部分的曝光量，由此使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
在采用该结构的情况下，通过调整曝光量，能够使隔壁的面部的倾斜角度与部位相应地改变，由此能够调整墨滴下时的锁住位置。由此，能够制造具有良好的发光特性的有机发光面板。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板的制造方法中，在上述构成中可以采用如下构成：在第3工序中，关于感光性抗蚀剂材料的曝光，使用对于与各个面部相当的部分的光透射率互不相同的掩模，以使得对与规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的面部相当的部分的光透射率大于对与位于第1发光部侧的隔壁的面部相当的部分的光透射率，由此使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
在采用该结构的情况下，通过调整掩模的光透射率，能够使隔壁的面部的倾斜角度与部位相应地改变，由此能够调整墨滴下时的锁住位置。由此，能够制造具有良好的发光特性的有机发光面板。
在本发明的一种方式涉及的有机发光面板的制造方法中，在上述构成中可以采用如下构成：在第3工序中，在使感光性抗蚀剂材料曝光、显影后，通过对与规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的面部相当的部分追加进行曝光处理，从而使规定第2发光部的相邻两隔壁的位于第3发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度大于位于第1发光部侧的隔壁的面部的倾斜角度。
在采用该结构的情况下，通过设置追加执行曝光处理的部位和不追加曝光处理的部位，能够使隔壁的面部的倾斜角度与部位相应地改变，由此能够调整墨滴下时的锁住位置。由此，能够制造具有良好的发光特性的有机发光面板。
本发明的一种方式涉及的有机显示装置的特征在于，具备通过上述的任一项所记载的制造方法得到的有机发光面板。
这样得到的有机显示装置同样具有通过上述制造方法得到的有机发光面板所具有的效果。
[实施方式]
以下参照附图对用于实施本发明的实施方式的一例进行说明。
此外，在以下说明中使用的实施方式是为了易于理解地说明本发明的结构以及作用、效果所使用的例子，本发明在其本质的特征部分以外并不受以下的实施方式的限定。
（获得本发明的实施方式的经过）
本发明的发明人就“背景技术”中记载的有机发光面板及具备该有机发光面板的有机显示装置进行了专心的研究，结果得到如下的见解。
通常，如图23的（a）所示，在基板901上，按子像素900a、900b、900c而设有阳电极902和覆盖该阳电极902的电极覆盖层903。并且，形成空穴注入层904以覆盖电极覆盖层902和基板901的表面，在空穴注入层904上按子像素900a、900b、900c而层叠形成有发光色不同的有机发光层906a、906b、906c。有机发光层906a、906b、906c由立设于空穴注入层904上的堤905a～905d来区划。
如图23的（a）所示，在现有技术涉及的有机发光面板中，按排列顺序配置于中央部的子像素900b的有机发光层906b有时膜厚会产生不匀。具体而言，会产生如下现象：有机发光层906b的堤905c侧的部位C3的高度比堤905b的部位C2的高度以及子像素900a中的有机发光层906a的堤905b侧的部位C1的高度高。
另外，作为另一个例子，如图23的（b）所示，会产生如下现象：子像素950b、950c中的各有机发光层956b、956c的堤955c、955d侧的各自的部位C12、C14的高度比各有机发光层956b、956c的堤955b、955c侧的各自的部位C11、C13的高度高。此外，如图23的（b）所示，子像素950a中的有机发光层956a的堤955a侧的部位的高度与堤955b侧的部位的高度大致相等，膜厚没有产生大的不匀。
关于上述现象，本发明的发明人经反复研究后推定为：如以下说明的那样，有机发光层的膜厚均匀性的降低是因墨干燥时的蒸汽浓度分布的不均匀造成的。具体而言，如图24的（a）所示，假定为在堤905b与堤905c之间所规定的区域涂覆了用于形成有机发光层的墨9060b的状态，此时的蒸汽浓度分布如双点划线所示，图24的（a）的右侧的浓度分布低于左侧的浓度分布时，认为会以如下关系在有机发光层的膜厚产生不匀。
如图24的（a）所示，墨9060b刚滴下之后，墨9060b的表面轮廓L90为子像素的中央部分隆起的形状。在使其干燥的情况下，形式上（表面上）会认为由于如上所述的蒸汽浓度分布，蒸汽浓度低的一侧的蒸发速度快，蒸汽浓度高的一侧的蒸发速度慢，因此会变化为表面轮廓L91。
但是，如图24的（b）所示，在干燥途中的墨9061b的内部，会发生如虚线箭头L92所示的溶剂移动。这是溶剂为弥补蒸发掉的部分而移动（移动以使表面自由能最小），随着溶剂的移动，溶质（有机发光材料）也会移动。因此，如图24的（c）所示，在蒸汽浓度分布不匀的情况下，形成表面轮廓L93越靠右侧越隆起的有机发光层906b。
如上所述，本发明的发明人关于有机发光面板得到了如下推断：由于墨干燥时蒸汽浓度分布不匀，所形成的有机发光层的膜厚的均匀性会降低。
并且，本发明的发明人发现了如下技术特征：在面板面内，通过使堤的面部的倾斜角度不同，使墨在堤侧面部的锁住位置不同，其结果能实现有机发光层的膜厚均匀化。
[实施方式1]
1.显示装置1的概略结构
使用图1说明本实施方式的显示装置1的整体结构。
如图1所示，显示装置（有机显示装置）1包括显示面板（有机发光面板）单元10和与其连接的驱动控制单元20。显示面板单元10是利用了有机材料的电致发光现象的有机发光面板，在X‑Y面方向上二维排列有多个像素部。
另外，驱动控制单元20包括四个驱动电路21～24和控制电路25。
在实际的显示装置1中，相对于显示面板10的驱动控制单元20的配置不限于此。
2.显示面板10的结构
使用图2说明显示面板10的结构。本实施方式的有机显示面板10采用顶部发射型的有机发光面板来作为一个例子，构成为呈矩阵状配置有多个像素部，所述多个像素部具备具有红（R）、绿（G）、蓝（B）的任一发光色的有机发光层，图2抽出一个像素部中的一个子像素100来进行了表示。
如图2所示，显示面板10中，在TFT基板（以下简称“基板”）101上形成有阳电极102，在阳电极102上依次层叠形成有电极覆盖层103和空穴注入输送层104。阳电极102和电极覆盖层103形成为按各子像素100而分离的状态。
在空穴注入输送层104上立设有由绝缘材料形成的对子像素100彼此之间进行区划的堤（隔壁）105。在各子像素100的由堤105区划的区域形成有机发光层106，在其上依次层叠形成有电子注入层107、阴电极108以及封止层109。
a）基板101
基板101例如以无碱玻璃、钠玻璃、无荧光玻璃、磷酸类玻璃、硼酸类玻璃、石英、丙烯类树脂、苯乙烯类树脂、聚碳酸酯类树脂、环氧类树脂、聚乙烯、聚酯、硅类树脂或者氧化铝等绝缘材料为基材来形成。并且，虽然省略了图示，但在基板101层叠形成有TFT层和钝化膜、以及层间绝缘膜等。
b）阳电极102
阳电极102由导电性材料制成的单层或多层层叠而成的层叠体构成。例如使用Al（铝）、含铝的合金、Ag（银）、APC（银、钯、铜的合金）、ARA（银、铷、金的合金）、MoCr（钼和铬的合金）、NiCr（镍和铬的合金）等来形成。在如本实施方式为顶部发射型的情况下，优选由高反射性的材料形成。
c）电极覆盖层103
电极覆盖层103例如使用ITO（氧化铟锡）来形成，将阳电极102的Z轴方向上部的表面的至少一部分覆盖。
d）空穴注入输送层104
空穴注入输送层104是例如由银（Ag）、钼（Mo）、铬（Cr）、钒（V）、钨（W）、镍（Ni）、铱（Ir）等氧化物、或PEDOT（聚噻吩和聚苯乙烯磺酸的混合物）等导电性聚合物材料形成的层。在上述中，由氧化金属形成的空穴注入输送层104具有使空穴稳定、或辅助生成空穴来对有机发光层106注入及输送空穴的功能，具有大的功函数。
在此，在由过渡金属的氧化物构成空穴注入输送层104的情况下，能够通过取多个氧化数来获得多个能级，其结果，空穴注入变容易，能够降低驱动电压。
e）堤105
堤（隔壁）105由树脂等有机材料形成，具有绝缘性。作为用于形成堤105的有机材料的例子，能列举丙烯类树脂、聚酰亚胺类树脂、酚醛清漆型酚醛树脂等。并且，堤105优选具有有机溶剂耐性。
进一步，在形成堤105时，会被实施蚀刻处理、烘焙处理等，因此优选由对于这些处理不会过度变形、变质等的耐性高的材料形成。另外，为使其具备拨水性，也可以对侧面部进行氟处理。
关于用于形成堤105的绝缘材料，以上述各材料为代表，尤其可以使用电阻率为105Ω·cm以上、具有拨水性的材料。这是因为，在使用电阻率为105Ω·cm以下的材料的情况下，会成为导致阳电极102和阴电极108之间产生泄漏电流、或相邻子像素100之间产生泄漏电流的原因，会产生功耗增加等各种问题。
另外，在使用亲水性材料形成堤105的情况下，堤105的侧面部和空穴注入输送层104的表面之间的亲液性/拨液性的差异变小，会导致难以为形成有机发光层106而使含有有机物质的墨选择性地保持在堤105的开口部。
进一步，关于堤105的构造，不只是如图2所示的单层构造，也可以采用两层以上的多层构造。在该情况下，可以在各层组合上述材料，也可以在各层使用无机材料和有机材料。
f）有机发光层106
有机发光层106具有如下功能：通过从阳电极102注入的空穴和从阴电极108注入的电子复合，产生激发状态而进行发光。用于形成有机发光层106的材料需要使用能够使用湿式印刷法来制膜的发光性有机材料。
具体而言，优选例如由特许公开公报（日本特开平5‑163488号公报）所记载的类喔星（oxinoid）化合物、苝化合物、香豆素化合物、氮杂香豆素化合物、噁唑化合物、噁二唑化合物、紫环酮（perinone）化合物、吡咯并吡咯化合物、萘化合物、蒽化合物（アントラセン化合物）、芴化合物、荧蒽化合物、并四苯化合物、芘化合物、晕苯化合物、喹诺酮化合物及氮杂喹诺酮化合物、吡唑啉衍生物及吡唑啉酮衍生物、若丹明化合物、（chrysene）化合物、菲化合物、环戊二烯化合物、茋化合物、二苯基苯醌化合物、苯乙烯基化合物、丁二烯化合物、双氰亚甲基吡喃化合物、双氰亚甲基噻喃化合物、荧光素化合物、吡喃鎓化合物、噻喃鎓化合物、硒吡喃鎓化合物、碲吡喃鎓化合物、芳香族坎利酮化合物、低聚亚苯基化合物、噻吨化合物、蒽化合物（アンスラセン化合物）、花青苷化合物、吖啶化合物、8‑羟基喹啉化合物的金属配合物、2,2’‑联吡啶化合物的金属配合物、席夫碱与III族金属的配合物、8‑羟基喹啉（喔星）金属配合物、稀土类配合物等荧光物质形成。
g）电子注入层107
电子注入层107具有将从阴电极108注入的电子向有机发光层106输送的功能，优选例如由钡、酞菁、氟化锂或它们的组合来形成。
h）阴电极108
阴电极108例如由ITO、IZO（氧化铟锌）等来形成。在顶部发射型的显示面板10的情况下，优选由光透射性材料形成。关于光透射性，优选透射率为80%以上。
作为用于形成阴电极108的材料，除上述以外，也可以使用例如将含碱金属、碱土类金属或它们的卤化物的层和含银的层按该顺序层叠而成的构造。在上述中，含银的层可以由银单独形成，也可以由银合金形成。另外，为了谋求提高光取出效率，还可以从该含银的层的上方设置透明度高的折射率调整层。
i）封止层109
封止层109具有抑制有机发光层106等暴露于水分、空气中的功能，例如使用SiN（氮化硅）、SiON（氮氧化硅）等材料来形成。在顶部发射型的显示面板10的情况下，优选由光透射性材料形成。
3.堤105的结构
如图3所示，在本实施方式的显示面板10中，作为一个例子采用了线状的堤105。具体而言，堤105各自沿Y轴方向延伸形成，在X轴方向上对相邻的像素部100之间进行区划。并且，子像素100在由堤105所区划出的各区域形成为发光色不同。例如，以发光色分别为红色（R）、绿色（G）、蓝色（B）的三个子像素的组合构成一个像素部。
4.各区域的堤105的结构
使用图4来说明各区域的堤105的结构。图4是以A‑A’剖面剖开图1中的显示面板10而示意表示其一部分的剖视图。
如图4所示，在像素部中，从X轴方向左侧依次连续地配置有子像素100a、子像素100b、子像素100c。此外，在本实施方式的显示面板10中，像素部和像素部配置成连续且相邻。
子像素100a由堤105a和堤105b规定，子像素100b由堤105b和堤105c规定，子像素100c由堤105b和堤105d规定。在堤105a、105b、105c、105d各自中，其面部105aa、105ba、105bb、105cb、105cc、105dc与作为基底层的空穴注入输送层104的表面分别成角度θaa、θba、θbb、θcb、θcc、θdc。
在此，在本实施方式中，角度θaa、θba、θbb、θcb、θcc、θdc满足下列各式所示的关系。
[式1]θcb>θaa=θba=θbb=θcc=θdc
此外，在本实施方式中，优选使各个角度θaa、θba、θbb、θcb、θcc、θdc满足上述式1的关系且设定在以下的范围内。
[式2]25°<θaa=θba=θbb=θcc=θdc<35°
[式3]35°<θcb<45°
5.堤105的侧面部的倾斜角度θ与有机发光层106的膜厚之间的关系
使用图5和图6来说明堤105的面部的倾斜角度θ和有机发光层106的膜厚的关系。图5示意示出了一个子像素的构造。
如图5的（a）所示，堤105x的面部的倾斜角度（堤105x的面部和空穴注入输送层104的表面所成的角度）为角度θx，如图5的（b）所示，堤105y的面部的倾斜角度（堤105y的面部和空穴注入输送层104的表面所成的角度）为角度θy。角度θx和角度θy满足以下关系。
[式4]θy＞θx
当向由各堤105x、105y所区划出的开口部滴下（涂敷）含有有机发光材料的墨1060x、1060y时，则各锁住位置Px、Py的高度Hx、Hy为以下关系。
[式5]Hy＞Hx
如图5的（c）所示，使墨1060x干燥后，由于锁住位置Px的高度Hx相对较低，在所形成的有机发光层106x中，子像素的中央部分隆起，其膜厚为厚度Tx。
另一方面，如图5的（d）所示，使墨1060y干燥后，由于锁住位置Py的高度Hy相对较高，在所形成的有机发光层106y中，子像素的中央部分凹陷，其膜厚为厚度Ty。
厚度Tx和厚度Ty满足以下关系。
[式6]Tx＞Ty
在图6总结表示上述关系。如图6所示，当减小堤105的面部的倾斜角度（锥角）θ时，锁住位置的高度H变低，结果得到的有机发光层106的膜厚T变厚。反之，当增大堤105的面部的倾斜角度（锥角）θ时，锁住位置的高度H变高，结果得到的有机发光层106的膜厚T变薄。
针对上述事项，制作5个样品进行了评价。在图7和图8示出结果。
如图7和图8所示，相对于样品2的膜厚分布，在增大了锥角的样品3和样品4中，锁住位置变高。在图7和图8中，横轴表示横向，纵轴表示高度方向。
但是，在将堤的锥角（倾斜角度）增大至50°的样品5中，膜厚的均匀性比样品2的膜厚的均匀性低。
6.显示面板10的制造方法
关于本实施方式的显示面板10的制造方法，使用图9、图10以及图11说明作为特征的部分。关于以下省略说明的制造工序，可以采用作为现有技术所提出的各种工序。
首先，如图9的（a）所示，在基板101的Z轴方向上面，对应于各子像素预定区域1000a、1000b、1000c而按顺序层叠形成阳电极102和电极覆盖层103。并且，从其上方层叠形成空穴注入输送层104以覆盖整个表面。对于阳电极102的形成，例如使用溅射法或真空蒸镀法制作由铝或其合金形成的薄膜或Ag薄膜之后，使用光刻法对该薄膜进行图案形成，由此可形成阳电极102。
另外，对于电极覆盖层103的形成，例如对阳电极102的表面使用溅射法等制作ITO薄膜，使用光刻法等对该ITO薄膜进行图案形成，由此可形成电极覆盖层103。并且，在空穴注入输送层104的形成中，首先对包括电极覆盖层103的表面的基板101的表面，使用溅射法等制作金属膜。此后，使形成的金属膜氧化，形成空穴注入输送层104。
然后，如图9的（b）所示，例如使用旋涂法等形成堤材料层1050以将空穴注入输送层104之上覆盖。在堤材料层1050的形成中可以使用感光性抗蚀剂材料，具体而言可以如上所述使用丙烯类树脂、聚酰亚胺类树脂、酚醛清漆型酚醛树脂等具有绝缘性的有机材料。
然后，如图9的（c）所示，在堤材料层1050的上方配置掩模501，该掩模501在要形成堤的部位设置有开口501a、501b、501c、501d。在该状态下通过掩模501的开口501a、501b、501c、501d实施曝光。
如图9的（c）所示，相对于子像素预定区域1000a而位于左侧的掩模501的开口501a的宽度Wa由要形成的堤105a的面部105aa（参照图4）的下端点Pa1、Pa2规定。
另一方面，位于子像素1000b和子像素1000c之间的掩模501的开口501c的宽度Wc1由要形成的堤105c的面部105cb（参照图4）的上端点Pc1和面部105cc（参照图4）的下端部分的点Pc2规定。
然后，如图10的（a）所示，在堤材料层1050的上方配置掩模502，该掩模502在与堤105c的面部105cb（参照图4）对应的部位设置有开口502c。并且，在该状态下通过掩模502的开口502c实施第2次曝光。
如图10的（a）所示，掩模502的开口502c的宽度Wc2由要形成的堤105c的面部105cb的下端点Pc3和上端点Pc1规定。
然后，如图10的（b）所示，通过实施显影及烘焙来形成堤105a、105b、105c、105d。如上所述，堤105a的子像素预定区域1000b侧的面部105cb的倾斜角度比堤105a、105b、105d的各面部105aa、105ba、105bb、105dc以及堤105c的子像素预定区域1000c侧的面部105cc的倾斜角大。
然后，如图10的（c）所示，使用喷墨法等，对由堤105a和堤105b区划出的开口部（子像素预定区域1000a）涂覆含有有机发光材料的墨1060a。
接着，如图11的（a）所示，同样使用喷墨法等对由堤105b和堤105c区划出的开口部（子像素预定区域1000b）涂敷含有有机发光材料的墨1060b。在此，如上所述，由于使堤105c的面部105cb的倾斜角度大于其他面部的倾斜角度，所以对于堤105c的面部105cb的墨1060b的锁住位置Qcb成为高于其他的锁住位置Qaa、Qba、Qbb的位置。
然后，如图11的（b）所示，同样使用喷墨法等对由堤105c和堤105d区划出的开口部（子像素预定区域1000c）涂敷含有有机发光材料的墨1060c。在此，在与堤105d的右侧相邻的子像素预定区域，由于已经完成了向相邻的像素部的子像素预定区域的墨涂敷，所以关于墨1060c，在X轴方向上，两侧的蒸汽浓度没有差异，即使不进行堤的面部的倾斜角度的调整，有机发光层的膜厚也不会产生不匀。这从上述可以明了。
虽然省略了图示，但在其后实施墨的干燥，然后按顺序层叠电子注入层107、阴电极108以及封止层109等，从而形成显示面板10。
7．墨的涂敷工序和干燥工序
使用图12对墨的涂敷工序和干燥工序的关系进行说明。
如图12的（a）所示，在本实施方式中，涂覆红色墨（墨1060a）（步骤S1），接着涂覆绿色墨（墨1060b）（步骤S2），涂覆蓝色墨（墨1060c）（步骤S3），然后统一执行墨干燥工序（步骤S4）。
与此相对，如图12的（b）所示，也可以为：先执行红色墨（墨1060a）的涂敷（步骤S11）及其干燥（步骤S12），接着依次执行绿色墨（墨1060b）的涂敷（步骤S21）及其干燥（步骤S22）、以及蓝色墨（墨1060c）的涂敷（步骤S31）及其干燥（步骤S32）。在该情况下，堤105a、105b、105c、105d的各面部105aa、105ba、105bb、105cb、105cc、105dc的各倾斜角度的关系可以为与上述是同样的。在该情况下，也能够抑制所形成的有机发光层106的膜厚不匀。
8.效果
如图4所示，在本实施方式的显示装置1的显示面板10中，堤105c的子像素100c侧的面部105cb的倾斜角度θcb，被设定为大于其他面部105aa、105ba、105bb、105cc、105dc的各倾斜角度θaa、θba、θbb、θcc、θdc。由此，如图11的（a）所示，在对子像素预定区域1000b涂敷了墨1060b时，其锁住位置Qcb高于其他的锁住位置Qaa、Qba、Qbb。
反之，面部105aa、105ba、105bb、105cc、105dc的各倾斜角度θaa、θba、θbb、θcc、θdc相互相等。
因此，在显示面板10中，干燥后的有机发光层106的膜厚在子像素100a、100b、100c中成为均匀的膜厚，具有辉度不匀（斑点）小的效果。
此外，当使用通过图9、图10以及图11说明的本实施方式的显示装置1的制造方法时，能够制造具有上述效果的显示装置1。
另外，如上所述，“相等”不是指数值上完全相等，而是考虑了显示装置1的制造中的尺寸误差等。具体而言，是指：在显示面板10中，在各自所属的子像素100a、100b、100c的发光效率的差异（辉度不匀）处于实用上能够容许的范围内的情况下，使倾斜角度相等。
[变形例1]
下面，使用图13对显示装置1的制造方法的变形例1进行说明。图13表示与图9的（c）～图10的（a）所示的工序对应的工序。
如图13所示，在空穴注入输送层104上层叠形成堤材料层1050之后，在其上方配置掩模503。在掩模503设有光透射部503a、503b、503c1、503c2、503d。各光透射部503a、503b、503c1、503c2、503d对应于要形成堤105a、105b、105c、105d的部位而设置。
在本变形例1的显示装置1的制造方法中，与子像素预定区域1000a的左侧对应的区域的光透射部503a的宽度Wa由要形成的堤105a的面部105aa（参照图4）的下端点Pa1、Pa2规定。
另一方面，与子像素1000b和子像素1000c之间对应的区域的光透射部503c1的宽度Wc2由要形成的堤105c（参照图4）的下端点Pc2和上端点Pc1规定，另外，光透射部503c2由要形成的堤105c的面部105cb（参照图4）的上端点和下端点Pc3、Pc1规定。
在此，掩模503使用半色调等的掩模构成，光透射部503a、503b、503c1、503d与光透射部503c2的光透射率不同。具体而言，光透射部503c2的光透射率比光透射部503a、503b、503c1、503d的光透射率大。
在配置了具有如上所述的结构的掩模503的状态下，实施曝光、显影之后进行烘焙，由此能够形成如图10的（b）所示的堤105a、105b、105c、105d。即，如上述式1所示关系，通过光透射率被设定为较大的光透射部503c而被曝光的部位的侧壁面的倾斜角度比通过其他光透射部503a、503b、503c1、503d而被曝光的部位的侧壁面的倾斜角度大。
此后的工序与上述实施方式等是同样的。
根据如上所述的制造方法，也能制造显示装置1。
[变形例2]
下面，使用图14和图15来说明显示装置1的制造方法的变形例2。图14和图15表示与图9的（c）～图10的（b）所示工序的对应的工序。
如图14的（a）所示，在空穴注入输送层104上层叠形成堤材料层1050之后，在其上方配置掩模504。在掩模504，与要形成堤105的各部位对应地设有开口504a、504c、504d。
开口504a、504b、504d以与上述实施方式的制造方法中使用的掩模501的开口501a相同的宽度来形成。
另一方面，如图14的（a）的双点划线包围的部分所示，在要形成堤105c（参照图4）的部位设置的开口504c的宽度Wc3被设定为大于由堤105c的面部105cb（参照图4）的上端点和下端点Pc2、Pc3所规定的宽度，所述堤105c要形成在子像素预定区域1000b和子像素预定区域1000c之间。具体而言，在要增大倾斜角度的部位增大宽度。
在配置了如图14的（a）所示的方式的掩模504的状态下，实施第1次曝光、显影。由此，如图14的（b）所示，在分别与开口504a、504b、504c、504d对应的部位，残留堤材料层1051a、1051b、1051c、1051d。
如图14的（b）所示，在实施了第1次曝光、显影的状态下，堤材料层1051a、1051b、1051c、1051d的各面部的倾斜角度均匀。另外，在本变形例2中，此时不进行烘焙。
如图15的（a）所示，在形成了堤材料层1051a、1051b、1051c、1051d的状态下，在其上方配置掩模505。在掩模505，在与要形成的堤105a、105b、105c、105d的面部对应的部位中，仅在要增大倾斜角度的部位（堤105c的面部105cb）设有开口505c。
在配置了掩模505的状态下，进行第2次曝光、显影之后进行烘焙，由此能够形成如图15的（b）所示的堤105a、105b、105c、105d。
此后，可以通过实施与上述实施方式等同样的工序来制造显示装置1。
[制造方法的验证]
关于上述实施方式及变形例1、2涉及的各制造方法，以具体例子对形成后的堤的形状进行了验证。使用图16来说明其结果。
如图16的（a）所示，越增大曝光量，所形成的堤侧面部的倾斜角度越大。具体而言，在使曝光量为200mJ来进行了曝光、显影的情况下所形成的堤侧面部的倾斜角度为23°，与此相对，在使曝光量为300mJ来进行了曝光、显影的情况下所形成的堤侧面部的倾斜角度为38°。关于该结果，在图16的（b）所示的AFM（Atomic Force Microscope：原子力显微镜）中也能看出。
进一步，如图16的（a）和图16的（b）所示，在使曝光量为200mJ来进行了第1次曝光、显影之后，使曝光量为100mJ来进行了第2次曝光、显影的情况下，所形成的堤侧面部的倾斜角度为50°。这对应于上述变形例2涉及的制造方法，认为对于增大堤侧面部的倾斜角度是有效的。
此外，在图16的（b）中，横轴表示横向，纵轴表示高度方向。
[实施方式2]
使用图17以及图18对实施方式2的显示装置的结构进行说明。
1.显示面板30的结构
如图17所示，与上述实施方式1的显示面板10同样地，显示面板30在TFT基板（以下简单记为“基板”）101上与子像素300a、300b、300c分别对应地形成有阳电极102，在阳电极102上按顺序层叠形成有电极覆盖层103以及空穴注入输送层104。
在空穴注入输送层104上，立设有由绝缘材料构成的分别规定子像素300a、300b、300c的堤305a、305b、305c、305d。此外，在由各子像素300a、300b、300c的堤305a、305b、305c、305d区划出的区域，按顺序层叠形成有机发光层、电子注入层、阴电极以及封止层（图17中省略图示）。
在本实施方式的显示面板30中，以子像素300a、300b、300c的组合来构成一个像素部，这一点与上述实施方式1的显示面板10是相同的，但在本实施方式的显示面板30中，在相邻的像素部和像素部之间设置有非像素部300d、300e。
具体而言，如图17所示，在非像素部300d、300e，设置有由与阳电极102相同的材料构成的电极（母线）302和覆盖该电极302的电极覆盖层303。并且，在电极覆盖层303上延伸设置有空穴注入输送层104，虽然省略了图示，但在其上形成有阴电极108，电极302与阴电极108电连接。此外，在非像素部300d、300e不形成有机发光层106。通过采用这样的结构，能够实现由ITO等构成的阴电极108的电阻的降低，能够抑制电压降。
如图17所示，在本实施方式的显示面板30中，堤305a、305b、305c、305d各自的面部305aa、305ba、305bb、305cb、305cc、305dc与作为基底层的空穴注入输送层104的表面分别成角度θ3aa、θ3ba、θ3bb、θ3cb、θ3cc、θ3dc。
在此，在本实施方式中，角度θ3aa、θ3ba、θ3bb、θ3cb、θ3cc、θ3dc满足由下列各式表示的关系。
[式7]θ3cb>θ3aa=θ3ba=θ3bb=θ3cc
[式8]θ3dc>θ3aa=θ3ba=θ3bb=θ3cc
此外，在本实施方式中，优选将各个角度θ3aa、θ3ba、θ3bb、θ3cb、θ3cc、θ3dc设定在如下的范围内。
[式9]25°<θ3aa=θ3ba=θ3bb=θ3cc<35°
[式10]35°<θ3cb<45°
[式11]35°<θ3dc<45°
由上述式7、式8、式9、式10、式11的关系规定堤305a、305b、305c、305d各自的面部305aa、305ba、305bb、305cb、305cc、305dc的倾斜角度θ3aa、θ3ba、θ3bb、θ3cb、θ3cc、θ3dc，这是通过在相邻的像素部与像素部之间配置非像素部300d、300e来实现的。对此，接着加入与墨3060a、3060b、3060c的涂敷之间的关系来进行说明。
2.显示面板30的制造方法
关于显示面板30的制造方法，取出作为特征的工序，使用图18进行说明。此外，关于图18所示的工序以外的工序，与上述实施方式1是同样的。
如图18的（a）所示，使用喷墨法等对由堤305a和堤305b区划出的开口部（子像素预定区域3000a）涂覆含有有机发光材料的墨3060a。在涂敷墨3060a时，在堤305a的左侧以及堤305b的右侧未涂覆墨，因此蒸汽浓度的分布大致一样。
接着，如图18的（b）所示，同样使用喷墨法等对由堤305b和堤305区划出的开口部（子像素预定区域3000b）涂覆含有有机发光材料的墨3060b。在此，如上所述，将堤305c的面部305cb的倾斜角度θ3cb（参照图17）设定成满足上述式7的关系（相对较大），因此对于堤305c的面部305cb的墨3060b的锁住位置Q3cb成为比其他的锁住位置Q3aa、Q3ba、Q3bb高的位置。
然后，如图18的（c）所示，同样使用喷墨法等对由堤305c和堤305d区划出的开口部（子像素预定区域3000c）涂覆含有有机发光材料的墨3060c。在此，在本实施方式中，在子像素预定区域3000c的右侧存在不涂覆墨的非像素部3000d，因此子像素3000c的右侧的蒸汽浓度比左侧的蒸汽浓度低。因此，关于堤305d，与堤305c的面部305cb的倾斜角度θ3cd同样地，也使堤305d的子像素预定区域3000c侧的面部305dc的倾斜角度θ3dc（参照图17）满足上述式7、式8的关系（相对较大）。由此，与墨3060b的锁住位置Q3cb同样地，对于堤305d的面部305dc的墨3060c的锁住位置Q3dc也变高。
此外，虽然省略了图示，但之后执行墨的干燥，然后依次层叠形成电子注入层、阴极以及封止层等，从而形成显示面板30。
通过采用如上所述的结构，在相邻的像素部与像素部之间设置非像素部300d、300e的情况下，也能够抑制全体子像素300a、300b、300c中的有机发光层的膜厚不匀，能够形成高发光特性的显示面板30。
此外，关于本实施方式中省略说明的事项，可以采用与上述实施方式1同样的结构。
[其他事项]
首先，在上述实施方式1、2及变形例1、2中，示意地表示为堤105、105a～105d、105x、105y、305a～305e的各面部为平面，但对于堤的面部，可以不一定为平面。例如，如图19的（a）所示，在堤605的情况下，点P61到点P62之间的面和点P62到点P63之间的面相交叉。在该情况下，涂覆墨时的锁住位置Qy1存在于点P62到点P63之间的面。并且，引出通过点P62的假象直线L1时所形成的面部的倾斜角度θy2在与锁住位置的关系上是重要的。
但是，在堤605的形成中，通过控制作为基底层的空穴注入输送层104和堤605的点P61到点P62之间的面所成的角度θy1，角度θy2也受到控制，所以实质上能够通过控制倾斜角度θy1来得到如上所述的效果。即，，在形成了从点P71到P72之间的面的角度θy11比图19的（a）所示的角度θy1大的堤705的情况下（图19的（b）），如图19的（b）所示，从点P72到点P73之间的面和假象直线L2所成的角度θy12也比图19的（a）的角度θy2大。
此外，在上述实施方式1、2及变形例1、2中，没有限定显示面板10、30中的上述结构的适用区域，但既可以对显示面板的整个区域应用上述结构，也可以限定于一部分区域而应用上述结构。如图20所示，对于显示面板10，可以在沿其面的方向上形式上区分为配置于中央部的区域10a和配置于其周边的区域10b。在此，区域10a是阳电极与形成于其下部的TFT层的源电极或漏电极连接的对发光有用的区域，相对地，区域10b是阳电极与形成于其下部的TFT层的源电极和漏极都不连接的无助于发光的区域。并且，认为：在将区域10a进一步在形式上分为中央区域10a1和周边区域10a2的情况下，根据涂覆墨时的蒸汽浓度的分布状态，会在周边区域10a2更显著地产生子像素内的有机发光层的膜厚不匀。
认为合并了周边区域10a2和区域10b的区域为面板的外周部的0.5%～几%左右（例如1%）的像素部。这是考虑不调整堤的面部的倾斜角度的情况下的有机发光层的膜厚不均而确定的。
在上述实施方式1、2及变形例1、2中，为了易于理解地说明本发明的结构和作用效果而采用作为一个例子的各结构，本发明除了本质部分以外并不限定于上述方式。例如，在上述实施方式中，如图2所示，采用了相对于有机发光层106在其Z轴方向下侧配置有阳电极102的结构来作为一个例子，但本发明不限于此，也可以采用如相对于有机发光层106在其Z轴方向下侧配置有阴电极108的结构。
在为相对于有机发光层106在其Z轴方向下侧配置阴电极108的结构的情况下，由于为顶部发射构造，所以采用使阴电极108为反射电极层、在其上形成电极覆盖层103的结构。
另外，在上述实施方式1、2等中，虽未示出显示装置1的具体外观形状，但例如可以为如图21所示的系统的一部分。此外。由于有机EL显示装置不需要如液晶显示装置那样的背光源，所以适于薄型化，从系统设计的观点来看，能发挥优异的特性。
另外，在上述实施方式1、2及变形例1、2中，作为堤105、105a～105d、105x、105y、305a～305e、605、705的形态，采用了如图3所示的所谓的线堤构造，但也可以采用如图22所示的由在Y轴方向上延伸的堤部件805a和在X轴方向上延伸的堤部件805b构成的像素堤805来构成显示面板80。
如图22所示，在采用像素堤805的情况下，对于规定各子像素800a、800b、800c的堤805，通过增大其X轴方向和Y轴方向的各外侧的侧壁部的倾斜角度，能够得到上述同样的效果。具体而言，能够通过适当调整箭头B1、B2、B3、B4所指示的面部的倾斜角度来得到上述效果。
另外，对于上述实施方式1、2及变形例1、2中所采用的堤的面部的倾斜角度的调整，可以根据制造时形成有机发光层所涉及的墨涂覆工序和干燥工序中的蒸汽浓度分布而个别地适当进行变更。例如，在如因干燥装置的构造等而墨干燥时的蒸汽流为由面板外周部朝向面板中央部的方向的情况下，与有机发光层的膜厚厚的部位对应地增大堤侧面部的倾斜角度即可。由此，能够使有机发光层的膜厚均匀化，能够降低面板整体的辉度不匀。
另外，在上述实施方式1、2及变形例1、2中，在各发光色（红色、绿色、蓝色），对堤面部的倾斜角度（锥角）的设定没有加以区别，但认为含有有机发光材料的墨的特性会根据发光色而变化，所以在该情况下，可以根据各发光色的墨特性来规定对应的堤的面部的倾斜角度。
产业上的可利用性
本发明对于实现辉度不匀少、具有高画质性能的有机发光面板及有机显示装置是有用的。