一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法.pdf

摘要
申请专利号：	CN201310356415.8	申请日：	2013.08.15
公开号：	CN103488057A	公开日：	2014.01.01
当前法律状态：	授权	有效性：	有权
法律详情：	授权\|\|\|实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20130815\|\|\|公开
IPC分类号：	G03F7/20; G03F9/00; G02B5/30	主分类号：	G03F7/20
申请人：	京东方科技集团股份有限公司
发明人：	武延兵
地址：	100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
优先权：
专利代理机构：	北京路浩知识产权代理有限公司 11002	代理人：	王莹
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内容摘要

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺。该设备包括基台，其用于放置待取向显示面板，与待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；第一基板上设有第一偏振片，第一偏振片上设有光取向层；从第二基板射向第一基板的光为线性偏振光；第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，第二曝光光源射出的光为线性偏振光，线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。本发明提供的自对位曝光设备，避免采用掩膜版制作相位差板，最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。

权利要求书

权利要求书
1.  一种自对位曝光取向设备，其特征在于，包括：
基台，所述基台用于放置待取向显示面板，所述基台与所述待取向显示面板显示区域对应的区域透明设置；
与所述待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，所述待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；在所述显示面板驱动系统的控制下，控制所述待取向显示面板与所述第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与所述第二像素组相对应的区域为遮光状态；
所述待取向显示面板包括第一基板和第二基板，所述第一基板上设有第一偏振片，所述第一偏振片上设有光取向层；从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光；
第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；
第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，所述第二曝光光源射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。

2.  如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：
所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述自然光通过所述第二偏振片射向所述第一基板。

3.  如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：
所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述线性偏振光的偏振方向与所述第二偏振片的透光轴方向相平行；
或者，所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上不设置第二偏振片。

4.  如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：
所述基台上设置石英板，所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述自然光通过所述石英板射向所述第一基板。

5.  如权利要求1-4任一项所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述自对位曝光取向设备还包括第一光源控制系统，所述第一光源控制系统具有弧形导轨，控制所述第一曝光光源沿所述弧形导轨运动对所述待取向显示面板进行曝光。

6.  如权利要求5所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述弧形导轨的圆心位置位于所述待取向显示面板出光侧的最佳观看点。

7.  如权利要求5所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述自对位曝光取向设备还包括第二光源控制系统，控制所述第二曝光光源能够在与所述待取向显示面板平行的平面内进行水平移动对所述待取向显示面板进行曝光。

8.  一种采用权利要求1-7任一项所述的自对位曝光取向设备进行制作相位差板的工艺方法，其特征在于，包括：
将待取向显示面板放置在基台上，将所述待取向显示面板与显示面板驱动系统连接，并且控制所述待取向显示面板与第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与第二像素组相对应的区域为遮光状态；
打开第一曝光光源，使所述第一曝光光源的出射光透过所述基台，透过第一像素组，对与所述第一像素组对应的光取向材料进行曝光取向；
所述第一曝光光源在第一光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第一像素组对应的光取向层的曝光取向；
关闭所述第一曝光光源，打开第二曝光光源，对与所述第二像素组对应的光取向材料进行曝光取向；
所述第二曝光光源在第二光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第二像素组对应的光取向层的曝光取向；取向完成后，滴入液晶，将第一基板和第二基板进行对盒设置，并对所述液晶进行固化处理。

说明书

说明书一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺。
背景技术
随着显示技术的不断发展，立体显示已经成为显示领域的一大趋势。而立体显示的根本原理就是视差产生立体，即使人的左眼看到左眼图像，右眼看到右眼图像。其中左右眼图像为有视差的一对立体图像对。
实现立体的其中一种方式为采用串行式，即在第一时刻，显示器显示左眼画面，此时只让观看者的左眼看到显示画面；第二时刻，显示器显示右眼画面，只让观看者的右眼看到显示画面，利用图像在人眼视网膜的暂留性，使人感觉到左右眼同时看到了左右眼画面，从而产生立体感觉。
实现立体的另外一种方式为采用并行式，即在同一时刻,显示器上一部分像素显示左眼画面的内容，另一部分像素显示右眼画面的内容，通过光栅、偏光眼镜等方式使一部分像素的显示只能被右眼看到，另一部分只能被左眼看到，从而产生立体的感觉。
为了呈现较好的立体视觉效果，目前通常采用偏光眼镜式进行立体显示。该显示技术的基本结构是在显示面板前安装一个可以调节出射光偏光方向的器件。这种器件可以为相位差板，也可以为液晶盒，或者其它可以调节不同像素出射光偏光方向的器件。
该相位差板立体显示的原理如图1所示。显示面板7’上，一行显示右眼图，一行显示左眼图，在其前面放置一块相位差板5’，一行λ/2延迟，一行0延迟，这样出射画面6’可以使λ/2延迟的像素出射光的偏光方向旋转90°。这样，戴着左右眼偏振方向正交的偏光眼镜，就可以右眼只看到右眼像素发出的光，左眼只看到左眼像素发出的光，从而产生立体效果。
在数种偏光眼镜立体显示中，采用相位差板（pattern retarder）的技术又最受青睐。它的基本结构是在显示面板上精确对位后，贴附一块相位差板，利用相位差板上不同区域可以产生不同的相位延迟，从而使不同像素的光以不同偏振方向出射，观看者佩带偏光眼镜就可以看到3D效果。
如图2所示，现有技术中制作相位差板的工艺方法如下：
（1）在基板1’上涂覆光取向材料2’；
（2）将掩膜版3’放置在光取向材料2’上；
（3）用偏振光4’经过掩膜版3’，对未被掩膜版3’遮挡的光取向材料进行照射，完成曝光固化；
（4）撤掉掩膜版3’，对另一部分光取向材料2’进行曝光固化；
（5）涂覆反应物质，进行取向固化。
在实际制作相位差板的工艺中，由于需要采用掩膜版，导致加工成本昂贵，且对位精度不高。
发明内容
（一）要解决的技术问题
本发明解决如下技术问题，提供一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法，以克服现有技术中采用掩膜版制作相位差板造成的成本高且对位精度不高等缺陷。
（二）技术方案
为了解决上述技术问题，本发明提供一种自对位曝光取向设备，包括：
基台，所述基台用于放置待取向显示面板，所述基台与所述待取向显示面板显示区域对应的区域透明设置；
与所述待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，所述待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；在所述显示面板驱动系统的控制下，控制所述待取向显示面板与所述第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与所述第二像素组相对应的区域为遮光状态；
所述待取向显示面板包括第一基板和第二基板，所述第一基板上设有第一偏振片，所述第一偏振片上设有光取向层；从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光；
第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；
第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，所述第二曝光光源射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。
优选地，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：
所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述自然光通过所述第二偏振片射向所述第一基板。
优选地，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：
所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述线性偏振光的偏振方向与所述第二偏振片的透光轴方向相平行；
或者，所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上不设置第二偏振片。
优选地，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：
所述基台上设置石英板，所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述自然光通过所述石英板射向所述第一基板。
优选地，所述自对位曝光取向设备还包括第一光源控制系统，所述第一光源控制系统具有弧形导轨，控制所述第一曝光光源沿所述弧形导轨运动对所述待取向显示面板进行曝光。
优选地，所述弧形导轨的圆心位置位于所述待取向显示面板出光侧的最佳观看点。
优选地，所述自对位曝光取向设备还包括第二光源控制系统，控制所述第二曝光光源能够在与所述待取向显示面板平行的平面内进行水平移动对所述待取向显示面板进行曝光。
另一方面，本发明还提供述利用自对位曝光取向设备进行制作相位差板的工艺方法，包括：
将待取向显示面板放置在基台上，将所述待取向显示面板与显示面板驱动系统连接，并且控制所述待取向显示面板与第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与第二像素组相对应的区域为遮光状态；
打开第一曝光光源，使所述第一曝光光源的出射光透过所述基台，透过第一像素组，对与所述第一像素组对应的光取向材料进行曝光取向；
所述第一曝光光源在第一光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第一像素组对应的光取向层的曝光取向；
关闭所述第一曝光光源，打开第二曝光光源，对与所述第二像素组对应的光取向材料进行曝光取向；
所述第二曝光光源在第二光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第二像素组对应的光取向层的曝光取向；
取向完成后，滴入液晶，将第一基板和第二基板进行对盒设置，并对所述液晶进行固化处理。
（三）有益效果
本发明提供一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法，避免采用掩膜版制作相位差板，最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。
附图说明
图1为现有技术中相位差板立体显示的原理示意图；
图2为现有技术相位差板制作工艺示意图；
图3为本发明实施例自对位曝光取向设备结构示意图；
图4为本发明实施例显示面板像素示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
如图3和图4所示，本发明提供一种自对位曝光取向设备，包括：
基台1，该基台1用于放置待取向显示面板2，所述基台1与待取向显示面板2显示区对应的区域透明设置；
与所述待取向显示面板2连接的显示面板驱动系统3，待取向显示面板2上间隔分布第一像素组21和第二像素组22；在显示面板驱动系统3的控制下，控制待取向显示面板2上与第一像素组21相对应的区域为透光状态，控制待取向显示面板2上与第二像素组22相对应的区域为遮光状态；其中，该第一像素组21和第二像素组22可以行形式、列形式或矩阵形式来间隔分布。
所述待取向显示面板2包括第一基板23和第二基板24，所述第一基板23上设有第一偏振片7，第一偏振片7上设有光取向层9，从第二基板24射向第一基板23的光（显示面板2中的箭头方向为光出射方向）为线性偏振光；
第一曝光光源4，位于靠近所述第二基板24的一侧；
第二曝光光源6，其设置在第一基板23的一侧，该第二曝光光源6射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与第一偏振片7的透光轴方向相垂直。
其中，从第二基板24射向第一基板23的光为线性偏振光的实现方式具体包括如下几种：
设置所述第一曝光光源4发出的光为自然光，所述第二基板24上设有第二偏振片8，所述自然光通过第二偏振片8射向第一基板23。
或者，设置第一曝光光源4发出的光为线性偏振光，所述第二基板24上设有第二偏振片8，所述线性偏振光的偏振方向与第二偏振片8的透光轴方向相平行；或者，当第一曝光光源4发出的光为线性偏振光时，所述第二基板24上可以不设置第二偏振片8。
再或者，在基台上设置石英板，所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述自然光通过石英板后出射的光为线性偏振光，所述线性偏振光射向第一基板23。
上述几种情况都能确保从第二基板24射向第一基板23的光为线性偏振光。
另外，该自对位曝光取向设备还包括第一光源控制系统和第二光源控制系统，所述第一光源控制系统具有弧形导轨5，控制所述第一曝光光源4沿所述弧形导轨5运动对所述待取向显示面板进行曝光。其中，弧形导轨5的圆心位置位于待取向显示面板出光侧的最佳观看点。
该第二光源控制系统控制第二曝光光源6能够在与所述待取向显示面板平行的平面内进行水平移动对所述待取向显示面板2进行曝光，从而保证各个区域的曝光均匀。
需要说明的是，本实施例中的显示面板可以为TN模式、ADS模式、IPS模式或其他任何显示模式。
下面具体描述采用自对位曝光取向设备进行制作相位差板的工艺方法，具体包括：
将待取向显示面板2放置在基台1上，待取向显示面板2与显示面板驱动系统3连接，并且控制待取向显示面板与第一像素组相对应的区域为透光状态，控制待取向显示面板与第二像素组相对应的区域为遮光状态；
打开第一曝光光源4，使得该第一曝光光源4射向第一基板23的光源为线性偏振光，该线性偏振光透过基台1，透过待取向显示面板2上与第一像素组21对应的区域，对第一像素组21对应的光取向材料进行曝光固化；
第一曝光光源4在光源控制系统的控制下，对光取向层中与待取向显示面板2中第一像素组21对应的部分进行曝光取向；
关闭第一曝光光源4，打开第二曝光光源6，对光取向层中与待取向显示面板2中第二像素组22对应的部分进行曝光取向；
取向完成后，滴入液晶，将第一基板23和第二基板24进行对盒设置，并对液晶进行固化处理，即完成了相位差板的制作。
本发明提供的制作相位差板的工艺方法，避免采用掩膜版制作相位差板，最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。

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1、(10)申请公布号 CN 103488057 A(43)申请公布日 2014.01.01CN103488057A(21)申请号 201310356415.8(22)申请日 2013.08.15G03F 7/20(2006.01)G03F 9/00(2006.01)G02B 5/30(2006.01)(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人武延兵(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司 11002代理人王莹(54) 发明名称一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法(57) 摘要本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种自对位曝光。

2、取向设备及制作相位差板的工艺。该设备包括基台，其用于放置待取向显示面板，与待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；第一基板上设有第一偏振片，第一偏振片上设有光取向层；从第二基板射向第一基板的光为线性偏振光；第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，第二曝光光源射出的光为线性偏振光，线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。本发明提供的自对位曝光设备，避免采用掩膜版制作相位差板，最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。(51)Int.Cl.权利要求书2页说明书5页附图2页(19)中华人。

3、民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书2页说明书5页附图2页(10)申请公布号 CN 103488057 ACN 103488057 A1/2页21.一种自对位曝光取向设备，其特征在于，包括：基台，所述基台用于放置待取向显示面板，所述基台与所述待取向显示面板显示区域对应的区域透明设置；与所述待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，所述待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；在所述显示面板驱动系统的控制下，控制所述待取向显示面板与所述第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与所述第二像素组相对应的区域为遮光状态；所述待取向显示面板包括第一基板和第二基板，所。

4、述第一基板上设有第一偏振片，所述第一偏振片上设有光取向层；从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光；第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，所述第二曝光光源射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。2.如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述自然光通过所述第二偏振片射向所述第一基板。3.如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板。

5、的光为线性偏振光具体实现方式包括：所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述线性偏振光的偏振方向与所述第二偏振片的透光轴方向相平行；或者，所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上不设置第二偏振片。4.如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：所述基台上设置石英板，所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述自然光通过所述石英板射向所述第一基板。5.如权利要求1-4任一项所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述自对位曝光取向设备还包括第一光源控制系统，所述第一光源控制系统具有弧形导轨，控。

6、制所述第一曝光光源沿所述弧形导轨运动对所述待取向显示面板进行曝光。6.如权利要求5所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述弧形导轨的圆心位置位于所述待取向显示面板出光侧的最佳观看点。7.如权利要求5所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述自对位曝光取向设备还包括第二光源控制系统，控制所述第二曝光光源能够在与所述待取向显示面板平行的平面内进行水平移动对所述待取向显示面板进行曝光。8.一种采用权利要求1-7任一项所述的自对位曝光取向设备进行制作相位差板的工艺方法，其特征在于，包括：将待取向显示面板放置在基台上，将所述待取向显示面板与显示面板驱动系统连接，并且控制所述待取向显示面板与第一像素组相。

7、对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与第二像素组相对应的区域为遮光状态；打开第一曝光光源，使所述第一曝光光源的出射光透过所述基台，透过第一像素组，对权利要求书CN 103488057 A2/2页3与所述第一像素组对应的光取向材料进行曝光取向；所述第一曝光光源在第一光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第一像素组对应的光取向层的曝光取向；关闭所述第一曝光光源，打开第二曝光光源，对与所述第二像素组对应的光取向材料进行曝光取向；所述第二曝光光源在第二光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第二像素组对应的光取向层的曝光取向；取向完成后，滴入液。

8、晶，将第一基板和第二基板进行对盒设置，并对所述液晶进行固化处理。权利要求书CN 103488057 A1/5页4一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法技术领域0001 本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺。背景技术0002 随着显示技术的不断发展，立体显示已经成为显示领域的一大趋势。而立体显示的根本原理就是视差产生立体，即使人的左眼看到左眼图像，右眼看到右眼图像。其中左右眼图像为有视差的一对立体图像对。0003 实现立体的其中一种方式为采用串行式，即在第一时刻，显示器显示左眼画面，此时只让观看者的左眼看到显示画面；第二时刻，显示器显示右眼画。

9、面，只让观看者的右眼看到显示画面，利用图像在人眼视网膜的暂留性，使人感觉到左右眼同时看到了左右眼画面，从而产生立体感觉。0004 实现立体的另外一种方式为采用并行式，即在同一时刻,显示器上一部分像素显示左眼画面的内容，另一部分像素显示右眼画面的内容，通过光栅、偏光眼镜等方式使一部分像素的显示只能被右眼看到，另一部分只能被左眼看到，从而产生立体的感觉。0005 为了呈现较好的立体视觉效果，目前通常采用偏光眼镜式进行立体显示。该显示技术的基本结构是在显示面板前安装一个可以调节出射光偏光方向的器件。这种器件可以为相位差板，也可以为液晶盒，或者其它可以调节不同像素出射光偏光方向的器件。0006 该相位。

10、差板立体显示的原理如图1所示。显示面板7上，一行显示右眼图，一行显示左眼图，在其前面放置一块相位差板5，一行/2延迟，一行0延迟，这样出射画面6可以使/2延迟的像素出射光的偏光方向旋转90。这样，戴着左右眼偏振方向正交的偏光眼镜，就可以右眼只看到右眼像素发出的光，左眼只看到左眼像素发出的光，从而产生立体效果。0007 在数种偏光眼镜立体显示中，采用相位差板（pattern retarder）的技术又最受青睐。它的基本结构是在显示面板上精确对位后，贴附一块相位差板，利用相位差板上不同区域可以产生不同的相位延迟，从而使不同像素的光以不同偏振方向出射，观看者佩带偏光眼镜就可以看到3D效果。0008 。

11、如图2所示，现有技术中制作相位差板的工艺方法如下：0009 （1）在基板1上涂覆光取向材料2；0010 （2）将掩膜版3放置在光取向材料2上；0011 （3）用偏振光4经过掩膜版3，对未被掩膜版3遮挡的光取向材料进行照射，完成曝光固化；0012 （4）撤掉掩膜版3，对另一部分光取向材料2进行曝光固化；0013 （5）涂覆反应物质，进行取向固化。0014 在实际制作相位差板的工艺中，由于需要采用掩膜版，导致加工成本昂贵，且对位精度不高。说明书CN 103488057 A2/5页5发明内容0015 （一）要解决的技术问题0016 本发明解决如下技术问题，提供一种自对位曝光取向设备及制作相位差板。

12、的工艺方法，以克服现有技术中采用掩膜版制作相位差板造成的成本高且对位精度不高等缺陷。0017 （二）技术方案0018 为了解决上述技术问题，本发明提供一种自对位曝光取向设备，包括：0019 基台，所述基台用于放置待取向显示面板，所述基台与所述待取向显示面板显示区域对应的区域透明设置；0020 与所述待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，所述待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；在所述显示面板驱动系统的控制下，控制所述待取向显示面板与所述第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与所述第二像素组相对应的区域为遮光状态；0021 所述待取向显示面板包括第一基板和第二基板，所。

13、述第一基板上设有第一偏振片，所述第一偏振片上设有光取向层；从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光；0022 第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；0023 第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，所述第二曝光光源射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。0024 优选地，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：0025 所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述自然光通过所述第二偏振片射向所述第一基板。0026 优选地，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：0027。

14、所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述线性偏振光的偏振方向与所述第二偏振片的透光轴方向相平行；0028 或者，所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上不设置第二偏振片。0029 优选地，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：0030 所述基台上设置石英板，所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述自然光通过所述石英板射向所述第一基板。0031 优选地，所述自对位曝光取向设备还包括第一光源控制系统，所述第一光源控制系统具有弧形导轨，控制所述第一曝光光源沿所述弧形导轨运动对所述待取向显示面板进行曝光。0032 优选地，所述弧形导。

15、轨的圆心位置位于所述待取向显示面板出光侧的最佳观看点。0033 优选地，所述自对位曝光取向设备还包括第二光源控制系统，控制所述第二曝光说明书CN 103488057 A3/5页6光源能够在与所述待取向显示面板平行的平面内进行水平移动对所述待取向显示面板进行曝光。0034 另一方面，本发明还提供述利用自对位曝光取向设备进行制作相位差板的工艺方法，包括：0035 将待取向显示面板放置在基台上，将所述待取向显示面板与显示面板驱动系统连接，并且控制所述待取向显示面板与第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与第二像素组相对应的区域为遮光状态；0036 打开第一曝光光源，使所述第一曝。

16、光光源的出射光透过所述基台，透过第一像素组，对与所述第一像素组对应的光取向材料进行曝光取向；0037 所述第一曝光光源在第一光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第一像素组对应的光取向层的曝光取向；0038 关闭所述第一曝光光源，打开第二曝光光源，对与所述第二像素组对应的光取向材料进行曝光取向；0039 所述第二曝光光源在第二光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第二像素组对应的光取向层的曝光取向；0040 取向完成后，滴入液晶，将第一基板和第二基板进行对盒设置，并对所述液晶进行固化处理。0041 （三）有益效果0042 本发明提供一种自对位曝光取向。

17、设备及制作相位差板的工艺方法，避免采用掩膜版制作相位差板，最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。附图说明0043 图1为现有技术中相位差板立体显示的原理示意图；0044 图2为现有技术相位差板制作工艺示意图；0045 图3为本发明实施例自对位曝光取向设备结构示意图；0046 图4为本发明实施例显示面板像素示意图。具体实施方式0047 下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。0048 如图3和图4所示，本发明提供一种自对位曝光取向设备，包括：0049 基台1，该基台1用于放置待取向显示面板2，所述基台1与待取向显示。

18、面板2显示区对应的区域透明设置；0050 与所述待取向显示面板2连接的显示面板驱动系统3，待取向显示面板2上间隔分布第一像素组21和第二像素组22；在显示面板驱动系统3的控制下，控制待取向显示面板2上与第一像素组21相对应的区域为透光状态，控制待取向显示面板2上与第二像素组22相对应的区域为遮光状态；其中，该第一像素组21和第二像素组22可以行形式、列形式或矩阵形式来间隔分布。0051 所述待取向显示面板2包括第一基板23和第二基板24，所述第一基板23上设有说明书CN 103488057 A4/5页7第一偏振片7，第一偏振片7上设有光取向层9，从第二基板24射向第一基板23的光（显示面板。

19、2中的箭头方向为光出射方向）为线性偏振光；0052 第一曝光光源4，位于靠近所述第二基板24的一侧；0053 第二曝光光源6，其设置在第一基板23的一侧，该第二曝光光源6射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与第一偏振片7的透光轴方向相垂直。0054 其中，从第二基板24射向第一基板23的光为线性偏振光的实现方式具体包括如下几种：0055 设置所述第一曝光光源4发出的光为自然光，所述第二基板24上设有第二偏振片8，所述自然光通过第二偏振片8射向第一基板23。0056 或者，设置第一曝光光源4发出的光为线性偏振光，所述第二基板24上设有第二偏振片8，所述线性偏振光的偏振方向与第二偏振片8。

20、的透光轴方向相平行；或者，当第一曝光光源4发出的光为线性偏振光时，所述第二基板24上可以不设置第二偏振片8。0057 再或者，在基台上设置石英板，所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述自然光通过石英板后出射的光为线性偏振光，所述线性偏振光射向第一基板23。0058 上述几种情况都能确保从第二基板24射向第一基板23的光为线性偏振光。0059 另外，该自对位曝光取向设备还包括第一光源控制系统和第二光源控制系统，所述第一光源控制系统具有弧形导轨5，控制所述第一曝光光源4沿所述弧形导轨5运动对所述待取向显示面板进行曝光。其中，弧形导轨5的圆心位置位于待取向显示面板出光侧的最佳观看点。0060 该第二。

21、光源控制系统控制第二曝光光源6能够在与所述待取向显示面板平行的平面内进行水平移动对所述待取向显示面板2进行曝光，从而保证各个区域的曝光均匀。0061 需要说明的是，本实施例中的显示面板可以为TN模式、ADS模式、IPS模式或其他任何显示模式。0062 下面具体描述采用自对位曝光取向设备进行制作相位差板的工艺方法，具体包括：0063 将待取向显示面板2放置在基台1上，待取向显示面板2与显示面板驱动系统3连接，并且控制待取向显示面板与第一像素组相对应的区域为透光状态，控制待取向显示面板与第二像素组相对应的区域为遮光状态；0064 打开第一曝光光源4，使得该第一曝光光源4射向第一基板23的光源为线性。

22、偏振光，该线性偏振光透过基台1，透过待取向显示面板2上与第一像素组21对应的区域，对第一像素组21对应的光取向材料进行曝光固化；0065 第一曝光光源4在光源控制系统的控制下，对光取向层中与待取向显示面板2中第一像素组21对应的部分进行曝光取向；0066 关闭第一曝光光源4，打开第二曝光光源6，对光取向层中与待取向显示面板2中第二像素组22对应的部分进行曝光取向；0067 取向完成后，滴入液晶，将第一基板23和第二基板24进行对盒设置，并对液晶进行固化处理，即完成了相位差板的制作。0068 本发明提供的制作相位差板的工艺方法，避免采用掩膜版制作相位差板，最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。说明书CN 103488057 A5/5页80069 以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。说明书CN 103488057 A1/2页9图1图2说明书附图CN 103488057 A2/2页10图3图4说明书附图CN 103488057 A10。

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