触控显示面板及其制备方法、触控显示装置.pdf

本发明公开了一种触控显示面板、其制备方法及具有该触控显示面板的触控显示装置。本发明在绝缘层和显示基板之间设置透明导电膜层，使得照射在触控电极层沟槽处的光线透过绝缘层照射到透明导电膜层的上表面，实现光线的反射，补偿了由于沟槽不能反射光线而造成的光线段差，使触控显示面板在不点亮或是低灰阶点亮的情况下能够反射出均匀的光线，避免了消影现象。

权利要求书
1.  一种触控显示面板，其特征在于，包括显示基板、触控电极层以及位于所述显示基板和所述触控电极层之间的绝缘层，其中所述触控电极层包括带有沟槽的触控图形；所述触控显示面板还包括透明导电膜层，通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。

2.  根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述透明导电膜层包括与所述触控图形互补的导电膜图案。

3.  根据权利要求2所述的触控显示面板，其特征在于，所述绝缘层在所述沟槽对应的区域覆盖在所述透明导电膜层的导电膜图案上，在其他区域设置在所述显示基板上。

4.  根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述绝缘层整层设置在所述透明导电膜层上。

5.  根据权利要求1至4任一项所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控电极层与所述透明导电膜层材质相同。

6.  根据权利要求5所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板还包括偏光片，所述偏光片设置在所述触控电极层上。

7.  一种触控显示装置，其特征在于，所述包括触控显示装置权利要求1-6任一项所述的触控显示面板。

8.  一种触控显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
提供显示基板；
在所述显示基板的上表面上形成透明导电膜层；
形成绝缘层；
在所述绝缘层上形成触控电极层，并在所述触控电极层中形成触控图形，其中所述透明导电膜层通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。

9.  根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法还包括以 下步骤：
在所述透明导电膜层中形成与所述触控图形互补的导电膜图案。

10.  根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤：
在所述触控电极层上贴合偏光片。

说明书触控显示面板及其制备方法、触控显示装置
技术领域
本发明涉及液晶显示屏技术领域，更具体涉及一种触控显示面板、其制备方法及具有该触控显示面板的触控显示装置。
背景技术
为了实现触控面板的薄型化和轻量化，将触控面板和液晶显示基板一体化的研究日渐盛行。其中，将具有触控面板功能的触控电极嵌入到液晶显示基板和上偏光片之间的单层On-Cell(盒上)触控方案，具有工艺简单、制造成本低等优点而受到人们的广泛关注。
在上述On-Cell触控方案中，对盒完成后，在彩膜基板上表面沉积一层触控电极，并经过一次掩膜工艺在触控电极上刻蚀出具有触控功能的特定图形。刻蚀过程中，触控图形的不同走线之间会被刻蚀出沟槽。因为受到触控电层材料、厚度及产线工艺能力等因素的影响，这些沟槽的宽度大致在5-15um的范围内。显示基板在不点亮或者低灰阶点亮时，在反射光照射下，走线之间的沟槽清晰可见。由于沟槽不能反射光线，导致显示面板的反射光线不均匀，从而产生严重的消影现象，而上述的消影现象很难通过刻蚀工艺的调整来彻底解决，从而严重影响产品的显示品质。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是如何消除由于触控电极的沟槽不能反射光线而造成的消影现象，提高显示品质。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种触控显示面板，所述 触控显示面板包括显示基板、触控电极层以及位于所述显示基板和所述触控电极层之间的绝缘层，其中所述触控电极层包括带有沟槽的触控图形；所述触控显示面板还包括透明导电膜层，通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。
优选地，所述透明导电膜层包括与所述触控图形互补的导电膜图案。
优选地，所述绝缘层在所述沟槽对应的区域覆盖在所述透明导电膜层的导电膜图案上，在其他区域设置在所述显示基板上。
优选地，所述绝缘层整层设置在所述透明导电膜层上。
优选地，所述触控电极层与所述透明导电膜层材质相同。
优选地，所述触控显示面板还包括偏光片，所述偏光片设置在所述触控电极层上。
本发明还公开了一种触控显示装置，包括上述触控显示面板。
本发明另外还公开了一种触控显示面板的制备方法，所述方法包括以下步骤：
提供显示基板；
在所述显示基板的上表面上形成透明导电膜层；
形成绝缘层；
在所述绝缘层上形成触控电极层，并在所述触控电极层中形成触控图形，其中所述透明导电膜层通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。
优选地，所述方法还包括以下步骤：
在所述透明导电膜层中形成与所述触控图形互补的导电膜图案。
优选地，所述方法还包括以下步骤：
在所述触控电极层上贴合偏光片。
(三)有益效果
本发明提供了一种触控显示面板、其制备方法及具有该触控显示面板的触控显示装置，本发明设置了透明导电膜层，并且所述导电膜 层通过绝缘层与触控电极层绝缘，此种设计使得照射在触控电极层沟槽处的光线透过绝缘层照射到透明导电膜层的上表面，实现光线的反射，补偿了由于沟槽不能反射光线而造成的光线段差，解决了由于触控电极层沟槽导致的反射光线不均匀，消影现象严重的问题，提高了显示屏的显示品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中On-Cell触控显示面板的结构示意图；
图2是现有技术中On-Cell触控显示面板的俯视图；
图3是本发明的一个较佳实施例的触控显示面板的结构示意图；
图4是本发明的一个较佳实施例的触控显示面板的俯视图；
图5是本发明的另一个较佳实施例的触控显示面板的结构示意图；
图6是本发明的触控显示面板的制备方法流程图。
注意在图中，带向下箭头的线条为入射光线，带向上箭头的线条为反射光线。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不能用来限制本发明的范围。
图1是现有技术中On-Cell触控显示面板的结构示意图，可以看到触控显示面板包括显示基板、触控电极层006以及位于所述显示基板和所述触控电极层006之间的绝缘层005，其中触控电极层006包括带有沟槽008的触控图形，显示基板从下到上包括下偏光片001、TFT(Thin Film Transistor薄膜晶体管)基板002以及彩膜基板003，并且在触控电极层006上设置有上偏光片007。现有的On-Cell触控显示面 板的触控电极层006的不同信号走线之间经过刻蚀形成沟槽008，如图2所示。由于沟槽008不能反射光线，形成光线段差，这种段差会造成在显示屏不加电或者低灰阶状态下明显的暗影，即导致显示面板在不点亮和低灰阶点亮的情况下出现反射光线不均匀的现象，如图1中光线的反射情况所示。从而产生了严重消影现象，降低了显示品质。
为解决上述技术问题，本发明公开了一种触控显示面板，触控显示面板包括显示基板、触控电极层以及位于所述显示基板和所述触控电极层之间的绝缘层，其中所述触控电极层包括带有沟槽的触控图形。触控显示面板还包括透明导电膜层，通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。触控显示面板的显示基板从下到上依次包括下偏光片、TFT基板以及彩膜基板。本发明的触控显示面板通过在绝缘层和显示基板之间设置透明导电膜层，使得照射在触控电极层的沟槽处的光线透过绝缘层照射到透明导电膜层的上表面，实现光线的反射，补偿了由于沟槽不能反射光线而造成的光线段差，触控显示面板在不点亮或是低灰阶点亮的情况下能够反射出均匀的光线，避免了消影现象。
应该理解，在本发明中，显示基板可以为单一的基板，例如为彩膜基板；也可以为基板的组合，例如彩膜基板和阵列基板对盒形成的显示面板；还可以包括偏光片等附属结构；“形成”例如包括通过溅射、沉积等工艺设置材料层和/或通过刻蚀等构图工艺在材料层上构造图形。
下面通过实施例一和实施例二来具体说明本发明的方案。
实施例一：
图3是本发明的一个较佳实施例的触控显示面板的结构示意图，本实施例的触控显示面板通过Array工艺(阵列制造工艺)制备的TFT基板002，在所述TFT基板002上制备彩膜基板003，并在ODF工艺(液晶滴下工艺)对盒完成后，制备触控电极层006以及透明导电膜层004，具体为：在彩膜基板003的上表面沉积一层透明导电膜层004，并经过一次掩膜工艺在透明导电膜层004上刻蚀出与触控电极层006中触控图形互补的特定图形，即导电膜图案，导电膜图案中图形的宽 度可根据工艺能力进行调节；刻蚀完成后，继续沉积一层绝缘层005，用于使透明导电膜层004和触控电极层006绝缘，绝缘层005的厚度可根据工艺能力尽可能的做薄；紧接着沉积触控电极层006，并经过掩膜工艺蚀刻出需要的触控图形，形成沟槽008，如图4所示，应该理解，绝缘层为透明绝缘材质，例如为氧化硅和氮化硅，其光线反射率远比导电材质(近似金属)的触控电极层和透明导电膜层要低，因此无助于消除暗影现象。此触控电极层的沟槽008处与透明导电膜层004的导电膜图案正好为互补关系，沟槽008的尺寸也可根据工艺能力和设计需要进行调节。
本实施例设计了透明导电膜图案与触控图形互补，因此在触控电极层006的沟槽008处下方设有透明导电膜层004，补偿了由于沟槽008不能反射光线而造成的光线段差，如图3示出的光线反射情况所示，增加的透明导电膜层004可以很好的达到消影的效果，提高显示屏的品质。
本实施例中所述绝缘层005在所述沟槽008对应的区域覆盖在所述透明导电膜层004的导电膜图案上，在其他区域设置在所述显示基板的彩膜基板003上，此种设计相当于绝缘层005和透明导电膜层004同层，有利于降低触控显示面板的厚度。
进一步地，触控电极层006的材质与透明导电膜层004的材质相同，因此两者对光线的反射率相同，有利于形成均匀的反射光线。相同的材质例如为氧化铟锡等透明导电材料。
进一步地，在触控电极层006的上方设置上偏光片007，起到保护和偏光的作用。
实施例二：
图5是本发明的另一个较佳实施例的触控显示面板的结构示意图，本实施例的触控显示面板通过Array(阵列)工艺制备的TFT基板002，在所述TFT基板002上制备彩膜基板003，并在ODF(液晶滴注)工艺对盒完成后，制备触控电极层006以及透明导电膜层004，具体为： 在彩膜基板003的上表面沉积一层透明导电膜层004，不经过掩膜工艺，继续沉积一层绝缘层005，用于阻绝透明导电膜层004和触控电极层006，绝缘层005的厚度可根据工艺能力尽可能的做薄；紧接着沉积触控电极层006，并经过掩膜工艺蚀刻出需要的触控图形，形成沟槽008，沟槽008的尺寸可根据工艺能力和设计需要进行调节。
本实施例设计了透明导电膜层004为未经构图工艺处理的整层，绝缘层005整层设置在所述透明导电膜层004上，触控电极层006的沟槽008处都会有透明导电膜层004的存在，使得照射在触控电极层006的沟槽008处的光线透过绝缘层005照射到透明导电膜层004的上表面，实现光线的反射，如图5示出的光线反射情况所示，补偿了由于沟槽008不能反射光线而造成的光线段差，所以增加的透明导电膜层004可以很好的达到消影的效果，提高显示屏的品质。另外，本实施例不需要刻蚀透明导电层，可以减少一道掩膜工艺，提高了生产效率，同时使绝缘层平整。
进一步地，触控电极层006的材质与透明导电膜层004的材质相同，因此两者对光线的反射率相同，有利于形成均匀的反射光线。相同的材质例如为氧化铟锡等透明导电材料。
进一步地，在触控电极层006的上方设置上偏光片007，起到保护和偏光的作用。
本发明还提供了一种触控显示装置，包括上述触控显示面板。触控显示装置例如为平板电脑、手机、电视机、导航仪、摄像机、照相机、数码相框等具有触控和显示功能的产品或部件。
本发明另外还提供了一种触控显示面板的制备方法，如图6所示，所述方法包括以下步骤：
S1、提供显示基板；
S2、在所述显示基板的上表面上形成透明导电膜层；
S3、形成绝缘层；
S4、在所述绝缘层上形成触控电极层，并在所述触控电极层中形 成触控图形，其中所述透明导电膜层通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。
利用本发明的触控显示面板的制备方法制备的触控显示面板，形成所述触控图形的同时形成了沟槽，通过在绝缘层和显示基板之间形成透明导电膜层，使得照射在触控电极层沟槽处的光线透过绝缘层照射到透明导电膜层的上表面，实现光线的反射，使触控显示面板在不点亮或是低灰阶点亮的情况下能够反射出均匀的光线，避免了消影现象。
进一步地，显示基板从下到上包括下偏光片、阵列基板以及彩膜基板。本发明的方法还包括在触控电极层上贴合上偏光片的步骤，起到保护和偏光的作用。
进一步地，为了形成实施例一提供的产品结构，本发明的方法还包括在透明导电膜层中形成与所述触控图形互补的导电膜图案的步骤，绝缘层在沟槽对应的区域覆盖在透明导电膜层的导电膜图案上，在其他区域设置在所述显示基板上。此设计通过设置透明导电膜图案与触控图形互补，在触控电极层的沟槽处设有导电膜层，补偿了由于沟槽不能发射光线而造成的光线段差，同时此种结构相当于绝缘层和透明导电膜层同层，从而降低面板厚度。
进一步地，为了形成实施例二提供的产品结构，利用本发明的方法制备的透明导电膜层或者为未经构图工艺处理的整层，绝缘层整层设置在所述透明导电膜层上，此种设计不需刻蚀透明导电膜层，减少了工艺，同时使绝缘层平整。
进一步地，利用本发明的方法形成的触控电极层的材质与透明导电膜层的材质相同，因此两者对光线的反射率相同，有利于形成均匀的反射光。相同的材质例如为氧化铟锡等透明导电材料。
以上实施方式仅用于说明本发明，而非对本发明的限制。尽管参照实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，对本发明的技术方案进行各种组合、修改或者等同替换，都不脱离本 发明技术方案的精神和范围，均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。