一种像素结构、阵列基板、显示装置及制作方法.pdf

本发明提供一种像素结构、阵列基板、显示装置及制作方法，涉及液晶显示领域。像素结构包括：像素电极层以及信号线；所述像素电极层划分有多个畴显示区域，每个畴显示区域均具有各自对应的按既定角度延伸的多个条状电极；所述信号线与所述像素电极层为不同层设置；在所述像素电极层中，至少一部分畴显示区域之间的分界线落入所述信号线的区域内。本发明的技术方案提高液晶显示面板的显示效率。

权利要求书
1.  一种像素结构，包括：
像素电极层以及信号线；
所述像素电极层划分有多个畴显示区域，每个畴显示区域均具有各自对应的按既定角度延伸的多个条状电极；所述信号线与所述像素电极层为不同层设置；
其特征在于：
在所述像素电极层中，至少一部分畴显示区域之间的分界线落入所述信号线的区域内。

2.  根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，还包括：
位于所述信号线与所述像素电极层之间的信号屏蔽层。

3.  根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，
所述信号线包括数据线；
在所述像素电极层中，至少一部分亚像素之间的分界线落入所述数据线的区域内。

4.  根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，
所述信号线还包括栅线；
每个亚像素划分有多个畴显示区域，在每个亚像素中，至少一部分畴显示区域的分界线落入所述栅线的区域内。

5.  根据权利要求4所述的像素结构，其特征在于，
在相邻的两个像素单元中，同一颜色的亚像素的条状电极图案呈镜像对称。

6.  根据权利要求4所述的像素结构，其特征在于，
每个亚像素具体划分为上下相邻的两个畴显示区域，该上下相邻的两个畴显示区域的条状电极图案呈镜像对称。

7.  一种阵列基板，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的像素结构。

8.  一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7所述的阵列基板。

9.  一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上形成不同层的像素电极层和信号线的步骤；所述像素电极层划分多个畴显示区域，每个畴显示区域均具有各自对应的按既定角度延伸的多个条状电极，其特征在于：
在所述像素电极层中，至少一部分畴显示区域之间的分界线落入所述信号线的区域内。

10.  根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，
所述制作方法还包括：
在所述信号线与所述像素电极层之间，形成信号屏蔽层的步骤。

说明书一种像素结构、阵列基板、显示装置及制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，特别是一种像素结构、阵列基板、显示装置及制作方法。
背景技术
液晶显示面板一般由彩色滤光(Color Filter，CF)基板和阵列(Array)基板组成，CF基板和Array基板的可透光区域占总显示区域的比例(即开口率)是影响液晶显示面板透过率的主要因素之一，而液晶显示面板透过率低会增加液晶显示面板的功耗、耗费液晶显示面板的制造成本。
像素层(Pixel Layer)一般为Array基板的最后一层，在液晶显示面板中起到直接控制电场、对液晶分子的排列施加影响的作用。Pixel Layer的设计往往对Panel的透过率等光学特性有重要影响。
图1为现有技术中Pixel Layer的结构示意图，其中，A代表液晶显示面板的栅极(Gate)线及公共电极线(Common)，B为数据(Data)线，C为控制该Pixel显示的薄膜晶体管(TFT)，D所指的区域为Pixel Layer的像素电极区域，E及F为条形电极走向不同的两组狭缝(Slit)状开口。
在液晶显示面板显示图像时，随着显示内容的变化，TFT控制Pixel Layer的电压不断变化，从而Pixel Layer与公共电极层之间的电场发生变化，导致通过Pixel Layer的Slit状开口区域进入液晶盒内的电场线变化，液晶分子也随着电场的变化发生偏转。
由于垂直取向液晶显示存在明显的色偏，即正面看与侧面看差别较大，为进一步改善视角，降低色偏现象，如图1所示，目前提出了多畴显示区域(如图1中D1-D4)的条状电极图案。对不同畴显示区域施加不同的电压，使液晶分子旋转程度不一样，从而让液晶的显示特性是在畴显示区域空间上积分的平均效果。这样，从不同角度观察液晶显示装置时，看到的差别减小，视角得以 改善。
其中，只有衔接成“ㄑ”状结构的转折点的位置即为畴显示区域分界线，在图1中，例如D1与D3之间衔接成“ㄑ”状结构，因此两者之间的界线即为一个畴显示区域分界线。在现有的像素结构中，畴显示区域分界线都是设置在像素区域中，由于畴显示区域分界线附近的液晶分子会受到不同方向的电场力作用，在显示时转动会非常缓慢，致使液晶显示面板的显示效率大打折扣。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种像素结构、阵列基板、显示装置及制作方法，能够提高液晶显示面板的显示效率。
为解决上述技术问题，本发明的实施例提供一种像素结构，包括：
像素电极层以及信号线；
所述像素电极层划分有多个畴显示区域，每个畴显示区域均具有各自对应的按既定角度延伸的多个条状电极；所述信号线与所述像素电极层为不同层设置；
其中，在所述像素电极层中，至少一部分畴显示区域之间的分界线落入所述信号线的区域内。
其中，所述像素结构还包括：
位于所述信号线与所述像素电极层之间的信号屏蔽层。
其中，所述信号线包括数据线；在所述像素电极层中，至少一部分亚像素之间的分界线落入所述数据线的区域内。
其中，所述信号线还包括栅线；每个亚像素划分有多个畴显示区域，在每个亚像素中，至少一部分畴显示区域的分界线落入所述栅线的区域内。
其中，在相邻的两个像素单元中，同一颜色的亚像素的条状电极图案呈镜像对称。
其中，同一亚像素上下相邻的两个畴显示区域的条状电极图案呈镜像对称。
此外，本发明的另一实施例还提供一种阵列基板，包括有上述像素结构。
此外，本发明的另一实施例还提供一种包括上述阵列基板的显示装置。
此外，本发明的另一实施例还提供一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上形成不同层的像素电极层和信号线的步骤；所述像素电极层划分多个畴显示区域，每个畴显示区域均具有各自对应的按既定角度延伸的多个条状电极；
其中，在所述像素电极层中，至少一部分畴显示区域之间的分界线落入所述信号线的区域内。
其中，所述制作方法还包括：
在所述信号线与所述像素电极层之间形成信号屏蔽层的步骤。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
在本发明的方案中，将像素电极层至少一部分畴显示区域的分界线设置在与信号线对应的区域上，由于信号线位于液晶显示面板的非显示区域，因此分界线所对应的液晶分子并不用于显示，从而不再影响液晶显示面板的显示效率。
附图说明
图1为现有阵列基板上的像素电极层图案的示意图；
图2-图4为本发明的像素电极结构的几种实现方式的结构示意图；
图5为本发明的本发明的阵列基板在像素电极层与数据线之间设置透明电机层的结构示意图；
具体实施方式
为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
在现有技术的像素结构中，像素电极层的畴显示区域分界线设置在像素区域中，由于畴显示区域分界线位置上的液晶分子会受到不同方向上的电场干扰，因此旋转动作会变得缓慢，影响了显示效率。
针对上述问题，本发明的实施例提供一种可以解决的像素结构，包括：
像素电极层以及信号线；
像素电极层划分有多个畴显示区域，每个畴显示区域均具有各自对应的按 既定角度延伸的多个条状电极；信号线与所述像素电极层为不同层设置；
其中，在所述像素电极层中，至少一部分畴显示区域之间的分界线落入所述信号线的区域内。
与现有技术不同的是，在本实施例的像素结构中，将像素电极层至少一部分畴显示区域分界线设置在与信号线对应的区域上。由于信号线位于液晶显示面板的非显示区域，因此畴显示区域分界线附近液晶分子并不用于液晶显示面板显示，从而不再影响液晶显示面板的显示效率。
下面结合几个实现方式具体介绍本实施例的像素结构。
实现方式一
本实现方式一的像素电极结构如图2所示，包括：
横向相邻的两个像素单元(1个像素单元包括R\G\B3个亚像素，当然本实施例也适应于纵向相连的两个像素单元，本文不再举例赘述)。
其中，像素电极的信号线可以是数据线B。椭圆形虚线位置即为横向相邻的两个畴显示区域之间的分界线，这些畴显示区域分界线落入数据线B的区域上。而长方形虚线位置为上下相邻的两个畴显示区域之间的分界线，与现有技术一样，形成在像素区域中。此外，各亚像素之间的分界线也落入在数据线B的区域上，即亚像素分界线与畴显示区域分界线重合或无限接近。
在本实现方式一中，将横向相邻的两个畴显示区域之间的分界线与两个亚像素之间的分界线都设置在数据线B的区域上，可减小各亚像素之间的间隙，从而在一定程度上提高了开口率。
但是，上述方案使得数据线B落在了液晶区域中，由于数据线B上有数据信号生成，因此会产生一定的电场干扰，影响附近位置对应的液晶分子进行旋转。为消除这一影响，在上述基础上，像素结构还包括一信号屏蔽层G，该信号屏蔽层G用于间隔数据线B与像素电极层。具体地，信号屏蔽层G优选选为透明导电层，透明导电层作为一个导体，能够耦合掉数据线B上产生的信号干扰。
在实际的像素结构中，透明导电层与所述数据线之间可以通过第一绝缘层进行绝缘，且透明导电层与像素电极层之间通过第二绝缘层进行绝缘。
此外，如2所示，为保证水平方向上的视角不会发生色差现象，同一颜色的亚像素的条状电极图案呈镜像对称。同理，为保证竖直方向上的视角不会发生色差现象，同一亚像素又划分为上下相邻的两个畴显示区域(也可以划分出多个上下相邻的畴显示区域)，该上下相邻的两个畴显示区域的条状电极图案呈镜像对称。以绿色亚像素(即亚像素G)为例，图2中两个绿色亚像素被分为四个畴显示区域(即D1-D4)。其中D1与D3之间、D2与D4之间形成横向上的镜像对称，D1与D2之间、D3与D4之间形成纵向上的镜像对称。
需要说明的是，上述镜像对称的方案只是像素电极层图案的一种可行的实现方式，并不能限定对本发明的保护范围。
可见，本实现方式一的技术方案也能够达到图1改善视角色差的技术效果，但一个亚像素上只存在一个畴显示区域分界线，因此具有更高的显示效率。
实现方式二
实现方式二的信号线还进一步包括栅线。如图3所示，与实现方式一不同的是，实现方式二将每个亚像素中上下相邻的两个畴显示区域的分界线设置在栅线A的区域上。
相比于实现方式一，实现方式二的技术方案将所有畴显示区域分界线设置在非显示区域上，从而进一步提高了液晶显示面板的显示效率。
此外，栅线A也会产生一定的干扰电场，可能会影响附近显示区域的液晶分子的旋转。为消除这一影响，与耦合数据线B的信号的方案一样，在像素电极层与栅线A之间设置一信号屏蔽层。其中，信号屏蔽层可以是透明导电层，能够作为一个导体，耦合掉栅线A上的信号。在实际的像素结构中，栅线A可以通过第一绝缘层与该透明导电层绝缘，且该透明导电层通过第二绝缘层与像素电极层之间进行绝缘。
当然，在实际应用中，只需要在像素电极层与其最接近的信号线之间设置一信号屏蔽层即可保证像素电极层上的电场不受到干扰。例如在现有的底栅型像素结构中，数据线相比栅线，最接近像素电极层，因此在数据线与像素电极层之间设置一个信号屏蔽层。同理，在现有的顶栅型像素结构中，栅线往往要比数据线最接近像素电极层，因此在栅线与像素电极层之间设置一个信号屏蔽 层。
需要说明的是，上述实现方式一以及实现方式二是作为优选方案，介绍分本实施例将畴显示区域分界线设置在信号线区域内的技术方案，但不能限定像素结构中的条状电极的具体图案，也不能限定一个亚像素具体需要划分出多少数量的畴显示区域。例如图4所示，每个亚像素可作为一个畴显示区域，其中上下相邻的两个畴显示区域之间的分界线形成在栅线A对应的区域上，左右相邻的两个畴显示区域之间的分界线形成在数据线B对应的区域上。
综上所述，相比于现有技术，本实施例的像素结构能够显著提升液晶显示面板的显示效率以及开口率。
此外，本发明的另一实施例还提供一种阵列基板。该阵列基板包括有上述像素结构，因此同样能够具有较高的开口率以及显示效率。
其中，本发明的阵列基板在像素电极层与信号线之间加入一信号屏蔽层，该信号屏蔽层可屏蔽掉信号线的电场干扰。
可选地，上述信号线可以是数据线或栅线。在现有的底栅型TFT中，数据线相比栅线，最接近像素电极层，因此作为优选方案，只需要屏蔽掉数据线上的信号即可，即只在数据线与像素电极层之间设置一信号屏蔽层。同理，在现有的顶栅型TFT中，栅线可能要比数据线最接近像素电极层，因此作为优选方案，只需要屏蔽掉栅线信号即可，即只在栅线与像素电极层之间设置一信号屏蔽层。
具体地，信号屏蔽层可以为透明导电层，透明导电层可以作为导体，耦合掉信号线的干扰，
下面以常见的底栅型阵列基板为例，对透明导电层在阵列基板的设置进行示例性介绍。
如图5所示，本实施例的阵列基板包括：
衬底基板1；
形成在衬底基板上的栅电极2与栅线；
覆盖栅电极2与栅线的栅绝缘层3；
位于栅绝缘层3上方的半导体层4、源电极5、数据线(数据线与栅线连 接，在图5中未画出)以及漏电极6；
覆盖半导体层4、源电极5、数据线以及漏电极6的第一绝缘层7；
位于第一绝缘层7上方的透明导电层8；该透明导电层8可以采用氧化铟锡(ITO)材料，用于抵消数据线上的信号；
覆盖透明导电层8的第二绝缘层9，第二绝缘层9用于使透明导电层8与像素电极层10绝缘；
位于第二绝缘层9上方的像素电极层10；该像素电极层10通过过孔与漏电极6连接。
以上图5所示的结构只是本实施例阵列基板的一种可行的实现方式，用于示例性介绍透明导电层与数据线、像素电极层的位置关系。对于其它阵列基板结构(如顶栅型、像素电极不通过过孔与漏电极连接的方案等)，本文不再进行赘述。
此外，本发明的另一实施例还提供一种包括有上述阵列基板的显示装置，该显示装置可以是手机、PAD、电视等产品，具有很高的显示效率。
此外，本发明的另一实施例还提供一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上形成像素电极层和信号线的步骤；所述像素电极层划分多个畴显示区域，每个畴显示区域均具有各自对应的按既定角度延伸的多个条状电极，所述像素电极层所述信号线为不同层设置；
其中，在所述像素电极层中，至少一部分畴显示区域之间的分界线落入所述信号线的区域内。
通过本实施例制作方法得到的阵列基板中，像素电极层至少一部分畴显示区域的分界线设置在与信号线竖直重合的区域上。由于信号线位于液晶显示面板的非显示区域，因此分界线所对应的液晶分子并不用于液晶显示面板显示，从而不再影响液晶显示面板的显示效率。
此外，为防止信号线对显示区域的液晶分子产生干扰磁场，影响旋转，作为优选方案，本实施例的制作方法还包括：
在所述信号线与所述像素电极层之间形成信号屏蔽层的步骤。
通过上述描述可以知道，本实施例的制作方法通过信号屏蔽层，抵消掉信 号线产生的电场干扰。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。