掩膜装置及掩膜系统.pdf

本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统。掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于滚筒掩膜版内的光源组件。滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，光源组件的外表上设置有光源。在光源的照射下，滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。本发明在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。

权利要求书
1.  一种掩膜装置，其特征在于，所述掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。

2.  如权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版与所述光源组件之间相对静止，所述光源和所述掩膜图案对应设置。

3.  如权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版可相对所述光源组件转动，所述光源的照射方向为垂直向下。

4.  如权利要求2所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版为环形。

5.  如权利要求2所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版为多边形。

6.  如权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩模版为环形。

7.  如权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版为多边形。

8.  一种掩膜系统，其特征在于，所述掩膜系统包括至少两个同轴设置的掩膜装置，每一掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。

9.  如权利要求8所述的掩膜系统，其特征在于，所述至少两个同轴设置的掩膜装置为结构相同的掩膜装置。

10.  如权利要求8所述的掩膜系统，其特征在于，所述至少两个同轴设置的掩膜装置中至少有两个掩膜装置上的掩膜图案的形状不同。

说明书掩膜装置及掩膜系统
技术领域
本发明涉及液晶显示制造领域，特别涉及一种掩膜装置及掩膜系统。
背景技术
在大尺寸薄膜晶体管液晶显示领域中，常用接近式曝光机结合掩膜版对图层进行曝光构图。掩模版，也称光罩、光学掩模版。常见的掩模版有铬版、干版、菲林等，是指在薄膜、塑料或玻璃基材上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。目前光掩膜版的基板材料，常被使用的有石英玻璃和苏打玻璃两种。苏打玻璃较多被应用在STN-LCD(STN-LCD，超扭曲向列型液晶显示器)、TN-LCD(TN-LCD，扭曲向列型液晶显示器)、TP(TP，触摸面板)等产品的生产上。
如图1所示，一般情况下，掩膜版为一大平面，掩膜版上刻有需要掩模的图案，在掩膜版上方通过光线照射，可以在感光材料上形成需要的图案。而随着面板技术的迅速发展，玻璃基板尺寸越来越大，8.5代线玻璃基板的尺寸为2200mm×2500mm，相应地也就需要更大面积的掩膜版来曝光玻璃基板的感光材料，而制作更大面积的掩膜版又需要更好的技术和更多的成本。
发明内容
本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统，以在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。
本发明实施例公开的掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。
一个实施例中，所述滚筒掩膜版与所述光源组件之间相对静止，所述光源和所述掩膜图案对应设置。
一个实施例中，所述滚筒掩膜版可相对所述光源组件转动，所述光源的照射方向为垂直向下。
一个实施例中，所述滚筒掩膜版为环形。
一个实施例中，所述滚筒掩膜版为多边形。
本发明公开的掩膜系统包括至少两个同轴设置的掩膜装置，每一掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。
一个实施例中，所述至少两个同轴设置的掩膜装置为结构相同的掩膜装置。
一个实施例中，所述至少两个同轴设置的掩膜装置中至少有两个掩膜装置上的掩膜图案的形状不同。
与现有技术相比，本发明实施例具有以下有益效果：在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中掩膜版的立体视图；
图2是本发明第一实施例公开的掩膜装置连接机台的连接机构的立体视 图；
图3是图2中的掩膜装置的立体视图；
图4是图3中的掩膜装置的滚筒掩膜版的立体视图；
图5是图3中的掩膜装置的光源组件的立体视图；
图6是图2中的连接机构的立体视图；
图7是本发明第二实施例公开的掩膜装置的立体视图，与图2中的掩膜装置的不同之处在于掩膜图案的形状不同；
图8是本发明第三实施例公开的掩膜装置的立体视图，与图2中的掩膜装置的不同之处在于滚筒掩膜版的形状不同；
图9是本发明第四实施例公开的掩膜装置连接机台的连接机构的立体视图；
图10是图9中的掩膜装置的光源组件的立体视图；
图11是图9中的连接机构的立体视图；
图12是本发明第一实施例公开的掩膜系统连接机台的连接机构的立体视图；
图13是本发明第二实施例公开的掩膜系统连接机台的连接机构的立体视图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参考图2，本发明第一实施例中，掩膜装置100的两端分别转动连接于一机台的连接机构10。在机台的驱动下，连接机构10带动掩膜装置100在玻璃基板(未示意)上滚动，从而在玻璃基板的感光材料上形成掩膜装置100上 的掩膜图案1111。
进一步参考图3至图5，掩膜装置100包括滚筒掩膜版11及设置于滚筒掩膜版11内且与滚筒掩膜版11同轴设置的光源组件12。滚筒掩膜版11为中空，具有环形的外表面111及两个相对的环形端面112。外表面111上设置有成列分布的掩膜图案1111。本实施方式中，掩膜图案1111的形状为长方形。环形端面112上等间距设置有四个圆柱形连接孔1121。光源组件12具有环形外表面1211及两个相对的圆形端面1212。多个条形光源122设置于环形外表面1211上，每一光源122对应一列掩膜图案。端面1212的中心位置设置有一个四边形连接孔1213。
进一步参考图6，连接结构10包括连接臂101及转动连接于连接臂101的转盘102。转盘102具有相对的第一表面1021及第二表面1022。第一表面1021与连接臂101转动接触，第二表面1022上等间距设置有四个圆柱形连接销1023，每一连接销1023与一个连接孔1121配合，以将滚筒掩膜版11固定连接于转盘102。第二表面1022的中心位置设置有一个四边形连接销1024，与连接孔1213配合，以将光源组件12固定连接于转盘102。
本实施例中，滚筒掩膜版11及光源组件12都固定连接于转盘102，转盘102相对连接臂101转动。因此，在需要将滚筒掩膜版11上的掩膜图案1111转移到玻璃基板的感光材料上时，机台驱动转盘102、滚筒掩膜版11及光源组件12在玻璃基板上滚动，从而在光源122的照射下，可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。
本实施例中，将掩膜版11设置为环形滚筒结构，可大幅度缩小掩膜板面积，减少光源数量，从而节省成本。
参考图7，本发明第二实施例公开的掩膜装置200与实施例一中的掩膜装置100的不同之处在于，掩膜装置200上的掩膜图案2111的形状为圆形。
参考图8，本发明第三实施例公开的掩膜装置300与实施例一中的掩膜装置100的不同之处在于，本实施例中，滚筒掩膜版31为多边形结构。
参考图9及图10，本发明第四实施例公开的掩膜装置400的滚筒掩膜版 41的结构与第一实施例中滚筒掩膜版11的结构相同。与第一实施例不同之处在于，掩膜装置400的光源组件42上仅设置一个条形光源421。
进一步参考图11，与第一实施例相同，连接机构40的转盘402转动连接于连接臂401，且与滚筒掩膜版41固定连接。与第一实施例不同之处在于，本实施例中，连接臂401连接转盘402的一端设置有连接件，连接件包括圆柱形的第一连接部4012及自第一连接部4012的端面往外延伸的呈四边形的第二连接部4013。转盘402通过第一连接部4012转动连接于连接臂401，光源组件42通过光源组件42上的多边形连接孔4213与第二连接部4013的配合，固定连接于连接臂401。在光源组件42固定连接于连接臂401后，光源421的照射方向垂直向下。
本实施例中，滚筒掩膜版41固定连接转盘402，光源组件42固定连接连接臂401，转盘402转动连接于连接臂401，因此，在机台的驱动下，转盘402及滚筒掩膜版41在玻璃基板上滚动，光源组件42相对玻璃基板做平移运动。因为光源421的照射方向垂直向下，滚筒掩膜版41在玻璃基板上滚动时，可在玻璃基板的感光材料上形成滚筒掩膜版41上的掩膜图案4111。
相较于第一实施例，本实施例中仅设置一个条形光源则可实现在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，进一步节省了成本。
参考图12，本发明第一实施例公开的掩膜系统包括两个同轴设置的掩膜装置500及600。本实施例中，掩膜装置500及600的结构相同，与实施例一中的掩膜装置100的结构相同。掩膜装置500远离掩膜装置600的一端固定连接于连接机构50的转盘502，与实施例一中的掩膜装置100固定连接于连接机构10的转盘102的方式相同。掩膜装置600远离掩膜装置500的一端固定连接于另一连接机构50的转盘502，与实施例一中的掩膜装置100固定连接于连接结构10的转盘102的方式相同。掩膜装置500靠近掩膜装置600的一端固定连接于掩膜装置600。两者之间的固定可通过连接销与连接孔的配合实现，或者通过其他固定连接方式实现，本实施例对此不作限定。
本实施例中，掩膜系统包括两个同轴设置的掩膜装置，在不需要制作大 面积的掩膜装置的情况下，可在大面板的玻璃基板的感光材料上形成图案，既能节省成本，也能提高曝光效率。
参考图13，本发明第二实施例公开的掩膜系统包括三个同轴设置的掩膜装置700、800及900。掩膜装置700与900的结构相同，与实施例二中的掩膜装置200的结构相同，掩膜装置800与实施例一中的掩膜装置100的结构相同。
与实施例一公开的掩膜系统类似，掩膜装置700远离掩膜装置800的一端固定连接于连接机构60的转盘602，掩膜装置900远离掩膜装置800的一端固定连接于另一连接机构60的转盘602，掩膜装置800的两端分别固定连接于掩膜装置700及掩膜装置900的一端，固定方式可与实施例二中的掩膜系统中的掩膜装置500与600的固定方式相同或者不同，本实施例对此不作限定。
本实施例中，掩膜系统包括三个同轴设置的掩膜装置，且其中一个掩膜装置上的掩膜图案与另外两个掩膜装置上的掩膜图案不同，因此，在不需要制作大面积的掩膜装置的情况下，可在大面板的玻璃基板的感光材料上形成不同的掩膜图案，既能节省成本，也能提高曝光效率。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。