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1、(10)申请公布号 CN 103191576 A(43)申请公布日 2013.07.10CN103191576A*CN103191576A*(21)申请号 201210005917.1(22)申请日 2012.01.10B01D 9/02(2006.01)C07C 25/08(2006.01)C07C 17/392(2006.01)(71)申请人江苏鹏宇化工有限公司地址 225200 江苏省扬州市江都区小纪镇工业园区鹏宇路1号(72)发明人沈正阳 沈波(74)专利代理机构北京连和连知识产权代理有限公司 11278代理人奚衡宝(54) 发明名称降膜分布器(57) 摘要本发明涉及一种降膜分布器。包。
2、括筒体和设置在筒体内的由若干个连续四方形孔形成的物料分布通道。本发明采用四方形孔作为降膜分布器的通道，其原因是采用四方形孔其通道设置方式可连续且均匀，相邻孔和孔之间没有间断，从而保证降膜分布器其各个部分物料能沿其截面均匀分布、物料流动稳定；进一步的本发明的方形孔为菱形，菱形的结构设置进一步保证了单个孔上的各个部分物料分布均匀，使降膜分布器整体受力均匀，保证物料流动的稳定性，从而使物料结晶效率和质量得到保证。(51)Int.Cl.权利要求书1页 说明书1页 附图1页(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书1页 说明书1页 附图1页(10)申请公布号 CN 1031915。
3、76 ACN 103191576 A1/1页21.降膜分布器，其特征在于，包括筒体和设置在筒体内的由若干个连续四方形孔形成的物料分布通道。2.根据权利要求1所述的降膜分布器，其特征在于，所述四方形孔为菱形。权 利 要 求 书CN 103191576 A1/1页3降膜分布器技术领域0001 本发明涉及一种降膜分布器，属于降膜结晶器部件。背景技术0002 在对（邻）二氯苯结晶过程中，降膜分布器的结构对于结晶效率和质量均具有很重要的影响；为了提高物料结晶效率，降膜分布器的设置应使物料均匀分布、流动稳定；而现有的降膜分布器其结构形式不能很好的满足上述要求，导致物料的结晶效率、质量受到很大影响，均进一步。
4、改进。发明内容0003 本发明针对上述缺陷，目的在于提供一种使物料布料使能均匀分布、且流动稳定的降膜分布器。0004 为此本发明采用的技术方案是：本发明包括筒体和设置在筒体内的由若干个连续四方形孔形成的物料分布通道。0005 所述四方形孔为菱形。0006 本发明的优点是：本发明采用四方形孔作为降膜分布器的通道，其原因是采用四方形孔其通道设置方式可连续且均匀，相邻孔和孔之间没有间断，从而保证降膜分布器其各个部分物料能沿其截面均匀分布、物料流动稳定；进一步的本发明的方形孔为菱形，菱形的结构设置进一步保证了单个孔上的各个部分物料分布均匀，使降膜分布器整体受力均匀，保证物料流动的稳定性，从而使物料结晶效率和质量得到保证。附图说明0007 图1为本发明的结构示意图。0008 图中1为筒体、2为四方形孔。具体实施方式0009 本发明包括筒体1和设置在筒体1内的由若干个连续四方形孔2形成的物料分布通道。0010 优选的，本发明的所述四方形孔2为菱形。0011 本发明的四方形孔2沿结晶器截面均匀分布，相互四方形孔2之间连续无间断。说 明 书CN 103191576 A1/1页4图1说 明 书 附 图CN 103191576 A。