吡唑啉酮盐的制造方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201180053786.8

申请日:

2011.11.01

公开号:

CN103209965A

公开日:

2013.07.17

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C07D 231/52申请日:20111101|||公开

IPC分类号:

C07D231/52

主分类号:

C07D231/52

申请人:

住友化学株式会社

发明人:

三浦正哉; 小盐正夫

地址:

日本东京都

优先权:

2010.11.12 JP 2010-253567

专利代理机构:

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人:

金世煜;赵曦

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内容摘要

经过对含有烃溶剂和式A+OH-表示的碱金属氢氧化物的混合物进行脱水处理的第1工序、以及使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应的第2工序而制造的式(4)表示的盐可用于制造植物病害防除剂的有效成分。

权利要求书

权利要求书
1.   一种式(4)表示的盐的制造方法,其特征在于,包括以下工序:
第1工序,对含有烃溶剂和式A+OH‑表示的碱金属氢氧化物的混合物进行脱水处理,其中该混合物不含下述式(2)表示的化合物,式A+OH‑中,A+表示碱金属阳离子;以及
第2工序,使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应;

式(2)中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基,该烃基所含的‑CH2‑可置换成杂原子或羰基;

式(4)中,A+、Ar和R1分别表示与上述相同的意思。

2.   根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物边脱水边进行反应的工序。

3.   根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,第2工序是边将第2工序的反应液所含的水量调整到0.8重量%以下边使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物进行反应的工序。

4.   根据权利要求2或3所述的制造方法,其特征在于,第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物在减压下、20~100℃的温度范围下边共沸脱水边进行反应的工序。

5.   根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其特征在于,第1工序中经脱水处理得到的混合物所含的水量为0.8重量%以下。

6.   根据权利要求1~5中任一项所述的制造方法,其特征在于,第1工序是在减压下、20~100℃的温度范围下进行共沸脱水的工序。

7.   根据权利要求1~6中任一项所述的制造方法,其特征在于,碱金属氢氧化物为氢氧化锂。

8.   根据权利要求1~7中任一项所述的制造方法,其特征在于,烃溶剂为芳香族烃溶剂。

9.   根据权利要求1~8中任一项所述的制造方法,其特征在于,第2工序是在醚溶剂的存在下使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应的工序。

10.   一种式(1)表示的吡唑啉酮衍生物的制造方法,其特征在于,包括以下工序:
第1工序,对含有烃溶剂和式A+OH‑表示的碱金属氢氧化物的混合物进行脱水处理,其中该混合物不含下述式(2)表示的化合物,式A+OH‑中,A+表示碱金属阳离子;
第2工序,使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应;以及
第3工序,使第2工序中得到的生成物与式(3)表示的化合物反应;

式(2)中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基,该烃基所含的‑CH2‑可置换成杂原子或羰基;
R2‑O‑SO2R3 (3)
式(3)中,R2表示可具有取代基的烃基,R3表示可具有取代基的苯基或碳原子数1~10的烷基;

式(1)中,Ar、R1和R2分别表示与上述相同的意思。

说明书

说明书吡唑啉酮盐的制造方法
技术领域
本发明涉及吡唑啉酮盐的制造方法。
背景技术
US6294567中已知某种吡唑啉酮化合物作为植物病害防除剂的有效成分是有用的。
另外,US5869684中记载了式(1A)表示的化合物的制造方法。

发明内容
本发明提供一种能够以优异的收率制造吡唑啉酮衍生物的方法。
本发明如下所述。
<1>一种式(4)表示的盐的制造方法,其特征在于,包括:
第1工序,对含有烃溶剂和式A+OH‑(式中,A+表示碱金属阳离子)表示的碱金属氢氧化物的混合物(其中不含下述式(2)表示的化合物)进行脱水处理;以及
第2工序,使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物“以下,有时记为化合物(2)”反应;

式(2)中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基,该烃基所含的‑CH2‑可置换成杂原子或羰基;

式(4)中,A+、Ar和R1分别表示与上述相同的意思。
<2>根据<1>所述的制造方法,其特征在于,第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物边脱水边进行反应的工序。
<3>根据<2>所述的制造方法,其特征在于,第2工序是边将第2工序的反应液所含的水量调整到0.8重量%以下边使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物进行反应的工序。
<4>根据<2>或<3>所述的制造方法,其特征在于,第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物在减压下、20~100℃的温度范围下边共沸脱水边进行反应的工序。
<5>根据<1>~<4>中任一项所述的制造方法,其特征在于,第1工序中经脱水处理得到的混合物所含的水量为0.8重量%以下。
<6>根据<1>~<5>中任一项所述的制造方法,其特征在于,第1工序是在减压下、20~100℃的温度范围下进行共沸脱水的工序。
<7>根据<1>~<6>中任一项所述的制造方法,其特征在于,碱金属氢氧化物为氢氧化锂。
<8>根据<1>~<7>中任一项所述的制造方法,其特征在于,烃溶剂为芳香族烃溶剂。
<9>根据<1>~<8>中任一项所述的制造方法,其特征在于,第2工序是在醚溶剂的存在下使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应的工序。
<10>一种式(1)表示的吡唑啉酮衍生物(以下,有时记为衍生物(1))的制造方法,其特征在于,包括:
第1工序,对含有烃溶剂和式A+OH‑(式中,A+表示碱金属阳离子)表示的碱金属氢氧化物的混合物(其中不含下述式(2)表示的化合物)进行脱水处理;
第2工序,使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应;以及
第3工序,使第2工序中得到的生成物与式(3)表示的化合物反应;

式(2)中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基,该烃基所含的‑CH2‑可置换成杂原子或羰基;
R2‑O‑SO2R3   (3)
式(3)中,R2表示可具有取代基的烃基,R3表示可具有取代基的苯基或碳原子数1~10的烷基;

式(1)中,Ar、R1和R2分别表示与上述相同的意思。
附图说明
图1是表示第1工序和第2工序中使用的反应装置的一个例子。
具体实施方式
对式(4)表示的盐(以下,有时记为盐(4))的制造方法进行说明。
盐(4)的制造方法包含第1工序和第2工序。
第1工序是对含有烃溶剂和下述式表示的碱金属氢氧化物的混合物(其中,不含有下述式(2)表示的化合物。)进行脱水处理的工序。
A+OH‑
(式中,A+表示碱金属阳离子。)
作为第1工序中使用的烃溶剂,例如可举出正戊烷、正己烷、正庚烷等脂肪族烃,环戊烷、环己烷等脂环式烃,以及苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香族烃。作为第1工序中使用的烃溶剂,优选举出芳香族烃,更优选举出例如甲苯和二甲苯。
第1工序中的烃溶剂的使用量相对于碱金属氢氧化物1重量份通常为0.1~1000重量份,优选为1~50重量份的范围。
第1工序可以在除了烃溶剂还存在醚溶剂的条件下进行。
作为可在第1工序中使用的醚溶剂,例如可举出二乙醚等碳原子数2~20的二烷基醚、四氢呋喃、1,3‑二氧六环、1,4‑二氧六环等环构成原子数为5~12的环状醚、以及二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚等碳原子数4~12的(聚)烷撑二醇二烷基醚。作为可在第1工序中使用的醚溶剂,优选举出环构成原子数为5~12的环状醚,更优选举出四氢呋喃。
第1工序中使用醚溶剂的情况下,醚溶剂的使用量相对于烃溶剂1重量份通常为1重量份以下,优选为0.25重量份以下。
作为第1工序中使用的碱金属氢氧化物,例如可举出氢氧化锂、氢氧化钠、以及氢氧化钾。作为第1工序中使用的碱金属氢氧化物,优选举出氢氧化锂。碱金属氢氧化物可以为水溶液,也可以为水合物。
对于烃溶剂含有的水分、碱金属氢氧化物含有的水分(也包括水合物的水分)以及第1工序的脱水处理中使用的反应槽等上附着的水分,利用第1工序进行脱水处理。第1工序结束后的混合物(以下,有时记为混合物[1])所含的水量优选为0.8重量%以下,更优选为0.5重量%以下。
若具体说明第1工序,例如可举出如下方法:从含有碱金属氢氧化物和烃溶剂的混合液所存在的反应槽中将含有水的烃溶剂在常压下或减压下在20℃~100℃的温度范围内、优选为40℃~80℃的温度范围内馏去,另外混合含水量被调整到0.8重量%以下、优选为0.5重量%以下的烃溶剂的方法(以下,有时记为A法);以及将与上述同样地从该反应槽中馏去的烃溶剂进行分液,使水分减少了的烃溶剂回流到该反应槽中的方法(以下,有时记为B法)。利用B法进行第1工序的情况下,为了在上述温度范围内回流,优选在减压下进行。
第1工序中得到的碱金属氢氧化物和含烃溶剂溶液的混合物所含的烃溶剂的含量相对于碱金属氢氧化物1重量份通常为0.1~1000重量份,优选为1~50重量份。
第1工序的处理时间只要是含水量被调整至0.8重量%以下,就没有特别限制。第1工序的处理时间通常为1~24小时的范围。
从盐(4)和衍生物(1)的收率的观点考虑,在第1工序的反应溶液中不含有化合物(2)。所谓第1工序的反应溶液中不含有化合物(2),意味着相对于后述的第2工序中使用的化合物(2)100重量份,第1工序的反应溶液所含的化合物(2)的含量为5重量份以下,优选为1重量份以下,更优选为0.1重量份以下。
第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物即化合物(2)反应的工序。

(式中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基。该烃基所含的‑CH2‑可置换成杂原子或羰基。)
化合物(2)中的Ar表示式(5)表示的苯基等可具有取代基的苯基。

式(5)中的R4~R8各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷氧基烷基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、氰基、硝基、可具有取代基的苯基或可具有取代基的苯氧基,或者R4~R8中邻接的2个在末端键合而表示以‑CH=CH‑CH=CH‑表示的基团、可具有卤素原子的亚甲二氧基、或可具有烷基的亚烷基。该亚烷基中包含的亚甲基(‑CH2‑)可被置换成氧原子(‑O‑)。
此处,作为R4~R8表示的卤素原子,例如可举出氟原子、氯原子、溴原子、以及碘原子。
作为R4~R8表示的烷基,例如可举出直链状或支链状的碳原子数1~5(以下,有时记为C1~C5)的烷基,具体而言,例如可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、以及叔丁基。卤代烷基是指上述烷基的氢原子的一部分或全部被卤素原子取代而成的基团。作为R4~R8表示的卤代烷基,例如可举出卤代烷基中具有1~11个卤素原子的直链状或支链状的C1~C5烷基,具体而言,例如可举出三氟甲基、四氟乙基、以及五氟丙基。
作为R4~R8表示的烷氧基,例如可举出直链状或支链状的C1~C5的烷氧基,具体而言,例如可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、以及异丙氧基。作为R4~R8表示的烷氧基烷氧基,例如可举出直链状或支链状的(C1~C3)烷氧基(C1~C3)烷氧基,具体而言,例如可举出甲氧基甲氧基。作为R4~R8表示的卤代烷氧基,例如可举出被相同或不同的1~11个卤素原子取代的直链状或支链状的C1~C5烷氧基,具体而言,例如可举出三氟甲氧基、二氟甲氧基和四氟乙氧基。
作为R4~R8表示的烷硫基,例如可举出直链状或支链状的C1~C5烷硫基,具体而言,例如可举出甲硫基、乙硫基。作为R4~R8表示的卤代烷硫基,例如可举出被相同或不同的1~11个卤素原子取代而成的直链状或支链状的C1~C5烷硫基,具体而言,例如可举出三氟甲硫基。
R4~R8表示的可具有取代基的苯基是指可具有1~5个相同或不同的取代基的苯基。R4~R8表示的可具有取代基的苯氧基是指可具有1~5个相同或不同的取代基的苯氧基。作为苯基或苯氧基的取代基,例如可举出卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、以及碘原子)、C1~C5烷基(例如,甲基和乙基)、C1~C5烷氧基(例如,甲氧基和乙氧基)、C1~C5烷硫基(例如,甲硫基和乙硫基)、C1~C5卤代烷基(例如三氟甲基等C1~C2卤代烷基)、C1~C5卤代烷氧基(例如三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1~C2卤代烷氧基)、C1~C5卤代烷硫基(例如三氟甲硫基等C1~C2卤代烷硫基)、氰基。
作为R4~R8表示的可具有卤素原子的亚甲二氧基,例如可举出亚甲二氧基和二氟亚甲二氧基。
作为R4~R8表示的可具有烷基(例如甲基等C1~C4烷基)的亚烷基(例如C2~C6亚烷基),例如可举出三亚甲基和四亚甲基。作为亚烷基所含的亚甲基被置换成氧原子而得的亚烷基,例如可举出‑OCH2CH2Cl表示的基团和‑OCH2CH(CH3)Cl表示的基团。
作为Ar,优选举出苯基、邻甲苯基、2,6‑二甲基苯基、2‑氯苯基、2,6‑二氯苯基等。
作为R1表示的可具有取代基的烃基,例如可举出:
直链状或支链状的C1~C10烷基(例如,甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、2‑甲基丁基、2‑乙基丙基、以及叔丁基);
直链状或支链状的C2~C10烯基(例如,1‑甲基‑2‑丙烯基);
直链状或支链状的C2~C10炔基(例如,1‑甲基‑2‑丙炔基);
被相同或不同的1~21个卤素原子取代的直链状或支链状的C1~C10烷基;
被相同或不同的1~19个卤素原子取代的直链状或支链状的C2~C10烯基;
被相同或不同的1~17个卤素原子取代的直链状或支链状的C2~C10炔基;
直链状或支链状的具有C1~C5烷氧基的C1~C5烷基(例如,甲氧基甲基以及1‑甲氧基乙基);
直链状或支链状的具有C1~C5烷硫基的C1~C5烷基(例如,甲硫基甲基和1‑甲硫基乙基);
具有含有相同或不同的1~11个卤素原子的C1~C5烷氧基,且具有相同或不同的1~10个卤素原子的直链状或支链状的C1~C5烷基;
具有含有相同或不同的1~11个卤素原子的C1~C5烷硫基,且具有相同或不同的1~10个卤素原子的直链状或支链状的C1~C5烷基;
具有氰基的直链状或支链状的C1~C5烷基(例如,1‑氰基乙基);
具有C1~C5烷氧基羰基的直链状或支链状的C1~C5烷基(例如,1‑(甲氧基羰基)乙基);
可具有卤素原子、可含有不饱和键的C3~C8环烷基(例如,环己基和环戊基);
C2~C6烷基羰基(例如,乙酰基、丙酰基、丁酰基、以及戊酰基);
C3~C6烯基羰基(例如,3‑丁烯酰基);
C2~C6烷氧基羰基(例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基、以及丙氧基羰基);
C3~C6烯基氧羰基(例如,烯丙基氧羰基);
C2~C6烷硫基羰基(例如,甲硫基羰基、乙硫基羰基、以及丙硫基羰基);
C3~C6烯基硫羰基(例如,烯丙基硫羰基);
可具有1~5个相同或不同的取代基的苯基{作为该取代基,例如可举出卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、以及碘原子)、C1~C5烷基(例如,甲基和乙基)、C1~C5烷氧基(例如,甲氧基和乙氧基)、C1~C5烷硫基(例如,甲硫基和乙硫基)、C1~C5卤代烷基(例如,三氟甲基等C1~C2卤代烷基)、C1~C5卤代烷氧基(例如,三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1~C2卤代烷氧基)、C1~C5卤代烷硫基(例如,三氟甲硫基等C1~C2卤代烷硫基)、氰基等。};以及
可具有1~5个相同或不同的取代基的C7~C17芳烷基(例如,苄基、α‑甲基苄基、以及α,α‑二甲基苄基等){作为该取代基,例如可举出卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、以及碘原子)、C1~C5烷基(例如,甲基和乙基)、C1~C5烷氧基(例如,甲氧基和乙氧基)、C1~C5烷硫基(例如,甲硫基和乙硫基)、C1~C5卤代烷基(例如三氟甲基等C1~C2卤代烷基)、C1~C5卤代烷氧基(例如,三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1~C2卤代烷氧基)、C1~C5卤代烷硫基(例如,三氟甲硫基等C1~C2卤代烷硫基)、以及氰基。}。
作为化合物(2),例如可举出表1记载的化合物。
表1

化合物(2)可溶解于例如烃溶剂和/或醚溶剂、优选为烃溶剂和醚溶剂的混合溶剂而加入到混合物[1]中。作为这种情况下使用的烃溶剂和醚溶剂,可分别例示与上述相同的物质。
第2工序优选在烃溶剂和醚溶剂的混合溶剂的存在下进行,更优选在烃溶剂和四氢呋喃的混合溶剂的存在下进行。
第2工序在烃溶剂和醚溶剂的混合溶剂存在的条件下进行时,对于烃溶剂和醚溶剂的重量比,相对于醚溶剂1重量份,通常烃溶剂为1~5重量份的范围。第2工序中的烃溶剂的使用量相对于化合物(2)1重量份通常为0.1~1000重量份的范围,优选为1~10重量份的范围。
由于通过化合物(2)和碱金属氢氧化物反应而生成水分,所以第2工序优选边脱水边进行反应。具体而言,可举出在减压下、在20~100℃、优选为40~80℃的温度范围下使化合物(2)和混合物[1]混合的方法。
从盐(4)和衍生物(1)的收率的观点出发,优选第2工序的反应液通过进行脱水,含水量被调整到0.8重量%以下、优选为0.5重量%以下。
另外,在第2工序中,通过将混合物[1]和化合物(2)缓缓混合,从而能够容易地将第2工序的反应液的含水量调整到0.8重量%以下、优选为0.5重量%以下。
只要将混合物[1]的含水量调整到0.8重量%以下、优选为0.5重量%以下,第2工序的反应时间就没有特别限制。第2工序的反应时间通常为1~18小时的范围。
若具体说明第2工序,则例如可举出<2‑I>边使烃溶剂回流脱水边在混合物[1]中混合化合物(2)的方法;<2‑II>边使烃溶剂回流脱水边一并混合混合物[1]和化合物(2)的方法;以及<2‑III>边使烃溶剂回流脱水边在含有化合物(2)的溶液中混合混合物[1]的方法。本发明的第2工序优选按<2‑I>的方法进行。
若进行本发明的第1工序和第2工序,则可得到含有式(4)表示的盐(以下,有时记为盐(4))的溶液。

(式中,A+、Ar和R1分别表示与上述相同的意思。)
根据本发明,抑制了化合物(2)的R1重排到羰基的α位的氮原子而成的盐、即式(4')表示的盐的生成。

(式中,A+、Ar和R1表示与上述相同的意思。)
另外,认为在含有盐(4)的溶液中,不仅存在具有式(4)表示的结构的盐,还存在具有式(4")表示的结构的盐、即盐(4)的互变异构体,如上所述,在进行第1工序和第2工序而得到的溶液中混合有水时,能够高收率地得到化合物(2),对该溶液进行后述的第3工序时,能够高收率地制造衍生物(1)。

(式中,A+、Ar和R1表示与上述相同的意思。)。
在含有盐(4)的溶液中,通过进行使式(3)表示的化合物(以下,有时记为化合物(3))反应的工序(以下,有时记为第3工序),可得到式(1)表示的吡唑啉酮衍生物。
R2‑O‑SO2R3   (3)
(式中,R2表示可具有取代基的烃基,R3表示可具有取代基的苯基或碳原子数1~10的烷基。)

(式中,Ar、R1和R2表示与上述相同的意思。)
作为化合物(3)中的R2表示的可具有取代基的烃基,例如可举出:
直链状或支链状的C1~C10烷基(例如,乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、2‑甲基丁基、以及2‑乙基丙基);
直链状或支链状的C2~C10烯基(例如,1‑甲基‑2‑丙烯基等);
直链状或支链状的C2~C10炔基(例如,1‑甲基‑2‑丙炔基);
具有相同或不同的1~21个卤素原子的直链状或支链状的C1~C10烷基;
具有相同或不同的1~19个卤素原子的直链状或支链状的C2~C10烯基;
具有相同或不同的1~17个卤素原子的直链状或支链状的C2~C10炔基;
直链状或支链状的具有C1~C5烷氧基的C1~C5烷基(例如,1‑甲基‑2‑甲氧基乙基);
直链状或支链状的具有C1~C5烷硫基的C1~C5烷基(例如,1‑甲基‑2‑甲硫基乙基);
具有含有相同或不同的1~11个卤素的C1~C5烷氧基,且被相同或不同的1~10个的卤素取代的直链状或支链状的C1~C5烷基;
具有被相同或不同的1~11个卤素取代的C1~C5烷硫基,且具有相同或不同的1~10个卤素原子的直链状或支链状的C1~C5烷基;
被氰基取代的直链状或支链状的C1~C5烷基(例如,1‑甲基‑2‑氰基乙基);
具有C1~C5烷氧基羰基的直链状或支链状的C1~C5烷基(例如,2‑甲氧基羰基乙基);
可具有卤素原子、可含有不饱和键的C3~C8环烷基(例如,环己基和环戊基);
可被1~5个相同或不同的取代基取代的C7~C17芳烷基(例如,苄基和α‑甲基苄基){作为该取代基,例如可举出卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、以及碘原子)、C1~C5烷基(例如,甲基和乙基)、C1~C5烷氧基(例如,甲氧基和乙氧基)、C1~C5烷硫基(例如,甲硫基和乙硫基)、C1~C5卤代烷基(例如三氟甲基等C1~C2卤代烷基)、C1~C5卤代烷氧基(例如三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1~C2卤代烷氧基)、C1~C5卤代烷硫基(例如三氟甲硫基等C1~C2卤代烷硫基)、以及氰基。}。
作为R3表示的C1~C10烷基,例如可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、以及叔丁基。作为R3表示的可具有取代基的苯基,例如可举出苯基、2‑甲基苯基、3‑甲基苯基、4‑甲基苯基、2‑甲氧基苯基、3‑甲氧基苯基、4‑甲氧基苯基、2‑氟苯基、3‑氟苯基、4‑氟苯基、2‑氯苯基、3‑氯苯基、4‑氯苯基、2‑溴苯基、3‑溴苯基、以及4‑溴苯基。
作为化合物(3),例如可举出表2记载的化合物。
表2

作为盐(4)与化合物(3)的混合比率,相对于盐(4)的制备中使用的化合物(2)1摩尔,使化合物(3)例如为0.9~1.5摩尔的范围。
第3工序的反应温度通常为40℃~120℃的范围,优选为60℃~100℃的范围。
若具体说明第3工序,例如可举出<3‑I>在含有盐(4)的溶液中,混合含有化合物(3)的溶液的方法;<3‑II>在烃溶剂和/或醚溶剂中,一并混合含有盐(4)的溶液和含有化合物(3)的溶液的方法;以及<3‑III>在含有化合物(3)的溶液中,混合含有盐(4)的溶液的方法。第3工序优选按<3‑II>的方法进行。
第3工序中的反应的进行优选利用气相色谱法、高效液相色谱法等方法确认化合物(3)的消耗量,反应至不消耗化合物(3)为止。第3工序的反应时间通常为5分钟~72小时的范围。
在第3工序中,反应不生成水分,但优选在第3工序的反应体系内不添加水分。具体而言,使第3工序的反应液所含的水量为0.8重量%以下、优选为0.5重量%以下、更优选为0.3重量%以下。
作为衍生物(1),例如可举出表3记载的化合物。
表3

表3续

根据本发明,以优异的收率得到衍生物(1)。另外,由于抑制了上述式(4')表示的盐的生成,所以在第3工序中得到的反应生成物中有衍生物(1)的R1和R2交替的杂质的生成得到抑制的趋势,因而优选。并且,可在不进行从烃溶剂向醚溶剂置换的情况下高收率地得到衍生物(1)。
含有通过第3工序得到的衍生物(1)和烃溶剂的溶液例如通过对烃溶剂进行减压浓缩等方法而得到衍生物(1)。得到的衍生物(1)可通过重结晶、色谱法等进行精制。
实施例
以下,基于实施例进一步详细说明本发明。实施例、参考例中的“%”和“份”只要没有特别记载就表示重量%和重量份。反应液的含水量利用卡尔费休法求得。
(实施例1)
第1工序使用图1的装置(10)而进行。首先,说明图1。反应槽(1)以可进行加热的方式具备夹套。反应槽(1)经由配管(2)与冷凝器(3)连接,冷凝器(3)经由配管(4)与分离器(9)连接。分离器(9)的上层(6)与反应槽(1)经由配管(5)连接。
[第1工序]
向反应槽(1)中,投入二甲苯159重量份、氢氧化锂一水合物12.1重量份,减压至表压约为10kPa。接下来,反应槽(1)内的二甲苯溶液升温至约67℃后,水与二甲苯的共沸蒸气经由配管(2)被冷凝器(3)冷却,转移至分离器(9)。在分离器(9)内分液得到的二甲苯经由配管(5)回流至反应槽(1)内。从分离器(9)的下层(7)回收4.7重量份的水。
反应槽(1)内的混合物[1]的含水量为0.19重量%。
[第2工序]
接下来,在反应槽(1)内的混合物[1]中,经11小时从配管(8)滴加含有5‑氨基‑3‑氧代‑4‑邻甲苯基‑2,3‑二氢吡唑‑1‑硫代羧酸S‑烯丙基酯(表1中的化合物编号(2‑1)表示的化合物)80重量份、二甲苯240重量份、四氢呋喃80重量份的溶液。滴加中,水和二甲苯的共沸蒸气经由配管(2)被冷凝器(3)冷却,转移至分离器(9)。从分离器(9)的下层(7)回收4.7重量份的水。
从反应槽(1)内每1小时进行取样求出含水量,其结果为0.19~0.22重量%。
对滴加结束后的溶液[2]取样,向该样品中添加水利用液相色谱法测定,其结果是相当于化合物(2)的5‑氨基‑3‑氧代‑4‑邻甲苯基‑2,3‑二氢吡唑‑1‑硫代羧酸S‑烯丙基酯为100%(色谱图的面积),5‑氨基‑3‑氧代‑4‑邻甲苯基‑2,3‑二氢吡唑‑2‑硫代羧酸S‑烯丙基酯(式(1)中的Ar为2‑甲基苯基、R1为氢原子、R2为CH2=CH‑CH2‑S‑C(=O)‑的化合物,即式(4')表示的化合物的氮阴离子为NH的化合物)为1.72%(色谱图的面积)。可知锂阳离子被化合物(2)的与羰基的α位的氮原子键合的氢原子选择性地置换。
[第3工序]
向与上述反应槽(1)和(1')不同但相同形状的反应槽(1")中,投入四氢呋喃241重量份,升温至85℃,使其回流。接下来,向反应槽(1")中经1.5小时滴加第2工序中得到的溶液[2]273重量份(作为5‑氨基‑3‑氧代‑4‑邻甲苯基‑2,3‑二氢吡唑‑1‑硫代羧酸S‑烯丙基酯为84重量份)和含有甲磺酸异丙酯51.9重量份的二甲苯溶液,并且,以相同温度回流20小时。
利用液相色谱法(内部标准法)对得到的反应溶液定量,其结果5‑氨基‑2‑异丙基‑3‑氧代‑4‑邻甲苯基‑2,3‑二氢吡唑‑1‑硫代羧酸S‑烯丙基酯(式(1)中的Ar为2‑甲基苯基、R1为异丙基、R2为CH2=CH‑CH2‑S‑C(=O)‑。表3中的化合物编号(1‑1)表示的化合物)的收率为82.3%。
(参考例1)
在具备回流冷却器的反应槽中,加入二甲苯500重量份和5‑氨基‑3‑氧代‑4‑邻甲苯基‑2,3‑二氢吡唑‑1‑硫代羧酸S‑烯丙基酯105重量份,将得到的混合物升温至约78℃。减压至该混合物沸腾后,馏去二甲苯,并且加入氢氧化锂一水合物15.2重量份。得到的反应液进一步以相同温度经4小时进行二甲苯的馏去(作为二甲苯的馏去量为360重量份)。
向得到的反应液中加入水,利用液相色谱法进行测定,其结果是相当于化合物(2)的5‑氨基‑3‑氧代‑4‑邻甲苯基‑2,3‑二氢吡唑‑1‑硫代羧酸S‑烯丙基酯为100%(色谱图的面积),5‑氨基‑3‑氧代‑4‑邻甲苯基‑2,3‑二氢吡唑‑2‑硫代羧酸S‑烯丙基酯(相当于式(1)中的Ar为2‑甲基苯基、R1为氢原子、R2为CH2=CH‑CH2‑S‑C(=O)‑的化合物,式(4')表示的化合物的氮阴离子为NH的化合物)为16.7%(色谱法的面积)。可知馏去二甲苯时,化合物(2)中的与羰基的β位键合的CH2=CH‑CH2‑S‑C(=O)‑大量重排到羰基的α位。
产业上的可利用性
本发明作为能够以优异的收率制造衍生物(1)的方法而能在产业上应用。
符号说明
(1)反应槽
(2)从反应槽(1)向冷凝器(3)的配管
(3)冷凝器
(4)从冷凝器(3)向分离器(9)的配管
(5)从分离器(9)的上层(6)向反应槽(1)的配管
(6)分离器(9)的上层,实施例中为二甲苯层
(7)分离器(9)的下层,实施例中为水层
(8)向反应槽(1)的装料用配管
(9)分离器
(10)反应装置

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1、(10)申请公布号 CN 103209965 A(43)申请公布日 2013.07.17CN103209965A*CN103209965A*(21)申请号 201180053786.8(22)申请日 2011.11.012010-253567 2010.11.12 JPC07D 231/52(2006.01)(71)申请人住友化学株式会社地址日本东京都(72)发明人三浦正哉 小盐正夫(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司 11227代理人金世煜 赵曦(54) 发明名称吡唑啉酮盐的制造方法(57) 摘要经过对含有烃溶剂和式A+OH-表示的碱金属氢氧化物的混合物进行脱水处理的第1工序、以。

2、及使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应的第2工序而制造的式(4)表示的盐可用于制造植物病害防除剂的有效成分。(30)优先权数据(85)PCT申请进入国家阶段日2013.05.08(86)PCT申请的申请数据PCT/JP2011/075648 2011.11.01(87)PCT申请的公布数据WO2012/063791 JA 2012.05.18(51)Int.Cl.权利要求书2页 说明书14页 附图1页(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书2页 说明书14页 附图1页(10)申请公布号 CN 103209965 ACN 103209965 A1。

3、/2页21.一种式(4)表示的盐的制造方法,其特征在于,包括以下工序:第1工序,对含有烃溶剂和式A+OH-表示的碱金属氢氧化物的混合物进行脱水处理,其中该混合物不含下述式(2)表示的化合物,式A+OH-中,A+表示碱金属阳离子;以及第2工序,使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应;式(2)中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基,该烃基所含的-CH2-可置换成杂原子或羰基;式(4)中,A+、Ar和R1分别表示与上述相同的意思。2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物边脱水边进行反应的。

4、工序。3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,第2工序是边将第2工序的反应液所含的水量调整到0.8重量%以下边使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物进行反应的工序。4.根据权利要求2或3所述的制造方法,其特征在于,第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物在减压下、20100的温度范围下边共沸脱水边进行反应的工序。5.根据权利要求14中任一项所述的制造方法,其特征在于,第1工序中经脱水处理得到的混合物所含的水量为0.8重量%以下。6.根据权利要求15中任一项所述的制造方法,其特征在于,第1工序是在减压下、20100的温度范围下进行共沸脱水的工序。。

5、7.根据权利要求16中任一项所述的制造方法,其特征在于,碱金属氢氧化物为氢氧化锂。8.根据权利要求17中任一项所述的制造方法,其特征在于,烃溶剂为芳香族烃溶剂。9.根据权利要求18中任一项所述的制造方法,其特征在于,第2工序是在醚溶剂的存在下使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应的工序。10.一种式(1)表示的吡唑啉酮衍生物的制造方法,其特征在于,包括以下工序:第1工序,对含有烃溶剂和式A+OH-表示的碱金属氢氧化物的混合物进行脱水处理,其中该混合物不含下述式(2)表示的化合物,式A+OH-中,A+表示碱金属阳离子;权 利 要 求 书CN 103209965 A2/2页3。

6、第2工序,使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应;以及第3工序,使第2工序中得到的生成物与式(3)表示的化合物反应;式(2)中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基,该烃基所含的-CH2-可置换成杂原子或羰基;R2-O-SO2R3(3)式(3)中,R2表示可具有取代基的烃基,R3表示可具有取代基的苯基或碳原子数110的烷基;式(1)中,Ar、R1和R2分别表示与上述相同的意思。权 利 要 求 书CN 103209965 A1/14页4吡唑啉酮盐的制造方法技术领域0001 本发明涉及吡唑啉酮盐的制造方法。背景技术0002 US6294567中已知某种吡唑啉。

7、酮化合物作为植物病害防除剂的有效成分是有用的。0003 另外,US5869684中记载了式(1A)表示的化合物的制造方法。0004 发明内容0005 本发明提供一种能够以优异的收率制造吡唑啉酮衍生物的方法。0006 本发明如下所述。0007 1一种式(4)表示的盐的制造方法,其特征在于,包括:0008 第1工序,对含有烃溶剂和式A+OH-(式中,A+表示碱金属阳离子)表示的碱金属氢氧化物的混合物(其中不含下述式(2)表示的化合物)进行脱水处理;以及0009 第2工序,使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物“以下,有时记为化合物(2)”反应;0010 0011 式(2)中,Ar。

8、表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基,该烃基所含的-CH2-可置换成杂原子或羰基;0012 说 明 书CN 103209965 A2/14页50013 式(4)中,A+、Ar和R1分别表示与上述相同的意思。0014 2根据1所述的制造方法,其特征在于,第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物边脱水边进行反应的工序。0015 3根据2所述的制造方法,其特征在于,第2工序是边将第2工序的反应液所含的水量调整到0.8重量%以下边使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物进行反应的工序。0016 4根据2或3所述的制造方法,其特征在于,第2工序是使。

9、第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物在减压下、20100的温度范围下边共沸脱水边进行反应的工序。0017 5根据14中任一项所述的制造方法,其特征在于,第1工序中经脱水处理得到的混合物所含的水量为0.8重量%以下。0018 6根据15中任一项所述的制造方法,其特征在于,第1工序是在减压下、20100的温度范围下进行共沸脱水的工序。0019 7根据16中任一项所述的制造方法,其特征在于,碱金属氢氧化物为氢氧化锂。0020 8根据17中任一项所述的制造方法,其特征在于,烃溶剂为芳香族烃溶剂。0021 9根据18中任一项所述的制造方法,其特征在于,第2工序是在醚溶剂的存在下使第1工。

10、序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应的工序。0022 10一种式(1)表示的吡唑啉酮衍生物(以下,有时记为衍生物(1)的制造方法,其特征在于,包括:0023 第1工序,对含有烃溶剂和式A+OH-(式中,A+表示碱金属阳离子)表示的碱金属氢氧化物的混合物(其中不含下述式(2)表示的化合物)进行脱水处理;0024 第2工序,使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物反应;以及0025 第3工序,使第2工序中得到的生成物与式(3)表示的化合物反应;0026 0027 式(2)中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基,该烃基所含说 明 书CN 10320。

11、9965 A3/14页6的-CH2-可置换成杂原子或羰基;0028 R2-O-SO2R3(3)0029 式(3)中,R2表示可具有取代基的烃基,R3表示可具有取代基的苯基或碳原子数110的烷基;0030 0031 式(1)中,Ar、R1和R2分别表示与上述相同的意思。附图说明0032 图1是表示第1工序和第2工序中使用的反应装置的一个例子。具体实施方式0033 对式(4)表示的盐(以下,有时记为盐(4)的制造方法进行说明。0034 盐(4)的制造方法包含第1工序和第2工序。0035 第1工序是对含有烃溶剂和下述式表示的碱金属氢氧化物的混合物(其中,不含有下述式(2)表示的化合物。)进行脱水处理。

12、的工序。0036 A+OH-0037 (式中,A+表示碱金属阳离子。)0038 作为第1工序中使用的烃溶剂,例如可举出正戊烷、正己烷、正庚烷等脂肪族烃,环戊烷、环己烷等脂环式烃,以及苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香族烃。作为第1工序中使用的烃溶剂,优选举出芳香族烃,更优选举出例如甲苯和二甲苯。0039 第1工序中的烃溶剂的使用量相对于碱金属氢氧化物1重量份通常为0.11000重量份,优选为150重量份的范围。0040 第1工序可以在除了烃溶剂还存在醚溶剂的条件下进行。0041 作为可在第1工序中使用的醚溶剂,例如可举出二乙醚等碳原子数220的二烷基醚、四氢呋喃、1,3-二氧六环、1,4-二氧六环等。

13、环构成原子数为512的环状醚、以及二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇二甲醚等碳原子数412的(聚)烷撑二醇二烷基醚。作为可在第1工序中使用的醚溶剂,优选举出环构成原子数为512的环状醚,更优选举出四氢呋喃。0042 第1工序中使用醚溶剂的情况下,醚溶剂的使用量相对于烃溶剂1重量份通常为1重量份以下,优选为0.25重量份以下。0043 作为第1工序中使用的碱金属氢氧化物,例如可举出氢氧化锂、氢氧化钠、以及氢氧化钾。作为第1工序中使用的碱金属氢氧化物,优选举出氢氧化锂。碱金属氢氧化物可以为水溶液,也可以为水合物。0044 对于烃溶剂含有的水分、碱金属氢氧化物含有的水分(也包括水合物的水分)以。

14、及说 明 书CN 103209965 A4/14页7第1工序的脱水处理中使用的反应槽等上附着的水分,利用第1工序进行脱水处理。第1工序结束后的混合物(以下,有时记为混合物1)所含的水量优选为0.8重量%以下,更优选为0.5重量%以下。0045 若具体说明第1工序,例如可举出如下方法:从含有碱金属氢氧化物和烃溶剂的混合液所存在的反应槽中将含有水的烃溶剂在常压下或减压下在20100的温度范围内、优选为4080的温度范围内馏去,另外混合含水量被调整到0.8重量%以下、优选为0.5重量%以下的烃溶剂的方法(以下,有时记为A法);以及将与上述同样地从该反应槽中馏去的烃溶剂进行分液,使水分减少了的烃溶剂回。

15、流到该反应槽中的方法(以下,有时记为B法)。利用B法进行第1工序的情况下,为了在上述温度范围内回流,优选在减压下进行。0046 第1工序中得到的碱金属氢氧化物和含烃溶剂溶液的混合物所含的烃溶剂的含量相对于碱金属氢氧化物1重量份通常为0.11000重量份,优选为150重量份。0047 第1工序的处理时间只要是含水量被调整至0.8重量%以下,就没有特别限制。第1工序的处理时间通常为124小时的范围。0048 从盐(4)和衍生物(1)的收率的观点考虑,在第1工序的反应溶液中不含有化合物(2)。所谓第1工序的反应溶液中不含有化合物(2),意味着相对于后述的第2工序中使用的化合物(2)100重量份,第1。

16、工序的反应溶液所含的化合物(2)的含量为5重量份以下,优选为1重量份以下,更优选为0.1重量份以下。0049 第2工序是使第1工序中经脱水处理得到的混合物和式(2)表示的化合物即化合物(2)反应的工序。0050 0051 (式中,Ar表示可具有取代基的苯基,R1表示可具有取代基的烃基。该烃基所含的-CH2-可置换成杂原子或羰基。)0052 化合物(2)中的Ar表示式(5)表示的苯基等可具有取代基的苯基。0053 0054 式(5)中的R4R8各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷氧基烷基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、氰基、硝基、可具有取代基的苯基或可具有取代基的苯氧基,。

17、或者R4R8中邻接的2个在末端键合而表示以-CHCH-CHCH-表示的基团、可具有卤素原子的亚甲二氧基、或可具有烷基的亚烷基。该亚烷基中包含的亚甲基说 明 书CN 103209965 A5/14页8(-CH2-)可被置换成氧原子(-O-)。0055 此处,作为R4R8表示的卤素原子,例如可举出氟原子、氯原子、溴原子、以及碘原子。0056 作为R4R8表示的烷基,例如可举出直链状或支链状的碳原子数15(以下,有时记为C1C5)的烷基,具体而言,例如可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、以及叔丁基。卤代烷基是指上述烷基的氢原子的一部分或全部被卤素原子取代而成的基团。作为R4R8表示的卤代烷基,例如可举。

18、出卤代烷基中具有111个卤素原子的直链状或支链状的C1C5烷基,具体而言,例如可举出三氟甲基、四氟乙基、以及五氟丙基。0057 作为R4R8表示的烷氧基,例如可举出直链状或支链状的C1C5的烷氧基,具体而言,例如可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、以及异丙氧基。作为R4R8表示的烷氧基烷氧基,例如可举出直链状或支链状的(C1C3)烷氧基(C1C3)烷氧基,具体而言,例如可举出甲氧基甲氧基。作为R4R8表示的卤代烷氧基,例如可举出被相同或不同的111个卤素原子取代的直链状或支链状的C1C5烷氧基,具体而言,例如可举出三氟甲氧基、二氟甲氧基和四氟乙氧基。0058 作为R4R8表示的烷硫基,例如可举出直。

19、链状或支链状的C1C5烷硫基,具体而言,例如可举出甲硫基、乙硫基。作为R4R8表示的卤代烷硫基,例如可举出被相同或不同的111个卤素原子取代而成的直链状或支链状的C1C5烷硫基,具体而言,例如可举出三氟甲硫基。0059 R4R8表示的可具有取代基的苯基是指可具有15个相同或不同的取代基的苯基。R4R8表示的可具有取代基的苯氧基是指可具有15个相同或不同的取代基的苯氧基。作为苯基或苯氧基的取代基,例如可举出卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、以及碘原子)、C1C5烷基(例如,甲基和乙基)、C1C5烷氧基(例如,甲氧基和乙氧基)、C1C5烷硫基(例如,甲硫基和乙硫基)、C1C5卤代烷基(例如三氟甲基。

20、等C1C2卤代烷基)、C1C5卤代烷氧基(例如三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1C2卤代烷氧基)、C1C5卤代烷硫基(例如三氟甲硫基等C1C2卤代烷硫基)、氰基。0060 作为R4R8表示的可具有卤素原子的亚甲二氧基,例如可举出亚甲二氧基和二氟亚甲二氧基。0061 作为R4R8表示的可具有烷基(例如甲基等C1C4烷基)的亚烷基(例如C2C6亚烷基),例如可举出三亚甲基和四亚甲基。作为亚烷基所含的亚甲基被置换成氧原子而得的亚烷基,例如可举出-OCH2CH2Cl表示的基团和-OCH2CH(CH3)Cl表示的基团。0062 作为Ar,优选举出苯基、邻甲苯基、2,6-二甲基苯基、2-氯苯基、2,6-二氯苯基。

21、等。0063 作为R1表示的可具有取代基的烃基,例如可举出:0064 直链状或支链状的C1C10烷基(例如,甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、2-甲基丁基、2-乙基丙基、以及叔丁基);0065 直链状或支链状的C2C10烯基(例如,1-甲基-2-丙烯基);0066 直链状或支链状的C2C10炔基(例如,1-甲基-2-丙炔基);0067 被相同或不同的121个卤素原子取代的直链状或支链状的C1C10烷基;0068 被相同或不同的119个卤素原子取代的直链状或支链状的C2C10烯基;0069 被相同或不同的117个卤素原子取代的直链状或支链状的C2C10炔基;说 明 书CN 1032。

22、09965 A6/14页90070 直链状或支链状的具有C1C5烷氧基的C1C5烷基(例如,甲氧基甲基以及1-甲氧基乙基);0071 直链状或支链状的具有C1C5烷硫基的C1C5烷基(例如,甲硫基甲基和1-甲硫基乙基);0072 具有含有相同或不同的111个卤素原子的C1C5烷氧基,且具有相同或不同的110个卤素原子的直链状或支链状的C1C5烷基;0073 具有含有相同或不同的111个卤素原子的C1C5烷硫基,且具有相同或不同的110个卤素原子的直链状或支链状的C1C5烷基;0074 具有氰基的直链状或支链状的C1C5烷基(例如,1-氰基乙基);0075 具有C1C5烷氧基羰基的直链状或支链状。

23、的C1C5烷基(例如,1-(甲氧基羰基)乙基);0076 可具有卤素原子、可含有不饱和键的C3C8环烷基(例如,环己基和环戊基);0077 C2C6烷基羰基(例如,乙酰基、丙酰基、丁酰基、以及戊酰基);0078 C3C6烯基羰基(例如,3-丁烯酰基);0079 C2C6烷氧基羰基(例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基、以及丙氧基羰基);0080 C3C6烯基氧羰基(例如,烯丙基氧羰基);0081 C2C6烷硫基羰基(例如,甲硫基羰基、乙硫基羰基、以及丙硫基羰基);0082 C3C6烯基硫羰基(例如,烯丙基硫羰基);0083 可具有15个相同或不同的取代基的苯基作为该取代基,例如可举出卤素原子(氟原子、。

24、氯原子、溴原子、以及碘原子)、C1C5烷基(例如,甲基和乙基)、C1C5烷氧基(例如,甲氧基和乙氧基)、C1C5烷硫基(例如,甲硫基和乙硫基)、C1C5卤代烷基(例如,三氟甲基等C1C2卤代烷基)、C1C5卤代烷氧基(例如,三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1C2卤代烷氧基)、C1C5卤代烷硫基(例如,三氟甲硫基等C1C2卤代烷硫基)、氰基等。;以及0084 可具有15个相同或不同的取代基的C7C17芳烷基(例如,苄基、-甲基苄基、以及,-二甲基苄基等)作为该取代基,例如可举出卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、以及碘原子)、C1C5烷基(例如,甲基和乙基)、C1C5烷氧基(例如,甲氧基和乙氧基)、C1。

25、C5烷硫基(例如,甲硫基和乙硫基)、C1C5卤代烷基(例如三氟甲基等C1C2卤代烷基)、C1C5卤代烷氧基(例如,三氟甲氧基、二氟甲氧基等C1C2卤代烷氧基)、C1C5卤代烷硫基(例如,三氟甲硫基等C1C2卤代烷硫基)、以及氰基。0085 作为化合物(2),例如可举出表1记载的化合物。0086 表1说 明 书CN 103209965 A7/14页100087 0088 化合物(2)可溶解于例如烃溶剂和/或醚溶剂、优选为烃溶剂和醚溶剂的混合溶剂而加入到混合物1中。作为这种情况下使用的烃溶剂和醚溶剂,可分别例示与上述相同的物质。0089 第2工序优选在烃溶剂和醚溶剂的混合溶剂的存在下进行,更优选在。

26、烃溶剂和四氢呋喃的混合溶剂的存在下进行。0090 第2工序在烃溶剂和醚溶剂的混合溶剂存在的条件下进行时,对于烃溶剂和醚溶剂的重量比,相对于醚溶剂1重量份,通常烃溶剂为15重量份的范围。第2工序中的烃溶剂的使用量相对于化合物(2)1重量份通常为0.11000重量份的范围,优选为110重量份的范围。0091 由于通过化合物(2)和碱金属氢氧化物反应而生成水分,所以第2工序优选边脱水边进行反应。具体而言,可举出在减压下、在20100、优选为4080的温度范围下使化合物(2)和混合物1混合的方法。0092 从盐(4)和衍生物(1)的收率的观点出发,优选第2工序的反应液通过进行脱水,含水量被调整到0.8。

27、重量%以下、优选为0.5重量%以下。0093 另外,在第2工序中,通过将混合物1和化合物(2)缓缓混合,从而能够容易地将第2工序的反应液的含水量调整到0.8重量%以下、优选为0.5重量%以下。0094 只要将混合物1的含水量调整到0.8重量%以下、优选为0.5重量%以下,第2工序的反应时间就没有特别限制。第2工序的反应时间通常为118小时的范围。0095 若具体说明第2工序,则例如可举出2-I边使烃溶剂回流脱水边在混合物1中混合化合物(2)的方法;2-II边使烃溶剂回流脱水边一并混合混合物1和化合物(2)的方法;以及2-III边使烃溶剂回流脱水边在含有化合物(2)的溶液中混合混合物1的方法。本发明的第2工序优选按2-I的方法进行。0096 若进行本发明的第1工序和第2工序,则可得到含有式(4)表示的盐(以下,有时记为盐(4)的溶液。0097 说 明 书CN 103209965 A10。

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