液晶显示面板用基板、液晶显示面板、液晶显示面板用基板的制造方法以及基板检查方法.pdf

液晶显示面板（1）具备以通过有源基板（12）或者对置基板（11）被按压从而电导通的方式由配设于有源基板（12）的开关电极（52）和配设于对置基板（11）的开关PS电极（51）构成的触摸开关（50），还具备反射膜（39、38），该反射膜（39、38）分别配设于有源基板（12）、对置基板（11），分别对开关电极（52）、开关PS电极（51）进行层叠，对从傅立叶变换红外分光光度计射出的红外光进行反射。由此，提供一种能高效地判别配设于内嵌型带触摸传感器功能的液晶显示面板内部的触摸开关上有无取向膜的手法。

权利要求书一种液晶显示面板用基板，通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，其特征在于，具备：
开关用电极，与配设于所述其他基板的电极构成一对开关，所述开关用电极以如下方式配设，即，在与所述其他基板对置配置时，通过自身或者所述其他基板被按压，从而与配设于所述其他基板的电极电导通；以及
反射膜，配设于所述开关用电极的下方，对红外光进行反射。
根据权利要求1所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，
具备：取向膜，所述取向膜以如下方式形成，即，将所述开关用电极的表面作为选择性地不形成取向膜的取向膜的非形成区域，
在对所述液晶显示面板用基板进行俯视时，在所述非形成区域内配设有所述反射膜。
根据权利要求1或者2所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，所述反射膜由金属材料构成。
根据权利要求3所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，构成所述反射膜的所述金属材料是与形成于所述液晶显示面板用基板中的有源基板的布线或者电极的任一个相同的材料。
根据权利要求3或者4所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，所述反射膜将钽、钼、钛、铜、铝的任一个作为主要成分。
根据权利要求1～5的任一项所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，所述开关用电极具备透明电极。
根据权利要求6所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，具备在与所述透明电极相同的工序中形成的像素电极。
根据权利要求6所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，具备在与所述透明电极相同的工序中形成的共用电极。
根据权利要求6～8的任一项所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，所述开关用电极由所述透明电极和层叠了该透明电极的凸形状的结构物构成。
根据权利要求9所述的液晶显示面板用基板，其特征在于，所述结构物由丙烯酸树脂构成。
一种液晶显示面板，其特征在于，具备：
权利要求7或者8所述的液晶显示面板用基板；以及
所述其他基板，与该液晶显示面板用基板对置配置。
一种液晶显示面板，具备有源基板和隔着液晶层与该有源基板对置配置的对置基板，其特征在于，
具备：以通过所述有源基板或者所述对置基板被按压从而电导通的方式由配设于所述有源基板的第一开关用电极和配设于所述对置基板的第二开关用电极构成的开关，
还具备：配设于所述有源基板并层叠有所述第一开关用电极的反射红外光的第一反射膜和配设于所述对置基板并层叠有所述第二开关用电极的反射红外光的第二反射膜中的至少一方。
根据权利要求12所述的液晶显示面板，其特征在于，具备所述第一反射膜和所述第二反射膜这两者。
根据权利要求12或者13所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一开关用电极和所述第二开关用电极中的至少一方为凸形状。
根据权利要求14所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一开关用电极和所述第二开关用电极为凸形状。
一种液晶显示面板用基板的制造方法，所述液晶显示面板用基板通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，所述制造方法的特征在于，具有：
反射膜形成工序，形成反射红外光的反射膜；以及
开关用电极形成工序，在所述反射膜形成工序中形成的反射膜的上方形成开关用电极，其中，该开关用电极与配设于所述其他基板的电极构成一对开关，在与所述其他基板对置配置时，通过所述液晶显示面板用基板或者所述其他基板被按压，从而与配设于所述其他基板的电极电导通。
根据权利要求16所述的液晶显示面板用基板的制造方法，其特征在于，具有：取向膜形成工序，将在所述开关用电极形成工序中形成的开关用电极的表面作为选择性地不对取向膜进行成膜的取向膜的非形成区域，在该取向膜的非形成区域的周围形成取向膜。
根据权利要求17所述的液晶显示面板用基板的制造方法，其特征在于，具有：
红外光射出工序，对所述取向膜的非形成区域射出红外光；
反射光取得工序，取得在所述红外光射出工序中射出的红外光中的来自所述反射膜的反射光；以及
频谱显示工序，显示在所述反射光取得工序中取得的反射光的频谱。
根据权利要求18所述的液晶显示面板用基板的制造方法，其特征在于，具有：判定工序，根据在所述反射光取得工序中取得的反射光的频谱，判定所述取向膜的有无。
一种基板检查方法，对液晶显示面板用基板进行检查，该液晶显示面板用基板通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，所述基板检查方法的特征在于，具有：
红外光射出工序，对开关用电极射出红外光，其中，该开关用电极与配设于所述其他基板的电极构成一对开关，在与所述其他基板对置配置时，通过所述液晶显示面板用基板或者所述其他基板被按压，从而与配设于所述其他基板的电极电导通；以及
反射光取得工序，取得在所述红外光射出工序中射出的红外光中的来自反射膜的反射光，其中，该反射膜在对所述液晶显示面板用基板进行俯视时形成于所述开关用电极内并对红外光进行反射。
根据权利要求20所述的基板检查方法，其特征在于，具有：频谱显示工序，显示在所述反射光取得工序中取得的反射光的频谱。
根据权利要求20或者21所述的基板检查方法，其特征在于，具有：判定工序，根据在所述反射光取得工序中取得的反射光的频谱，判定所述开关用电极的表面的取向膜的有无。
根据权利要求20～22的任一项所述的基板检查方法，其特征在于，具有：频谱变换工序，将在所述反射光取得工序中取得的反射光变更为频谱。
根据权利要求23所述的基板检查方法，其特征在于，在所述频谱变换工序中，进行频谱变换的红外光是波数值为4000cm‑1～650cm‑1的中红外区域。
根据权利要求23所述的基板检查方法，其特征在于，具有下述工序：判定在所述频谱变换工序中进行变换后的频谱中是否产生了由C‐H伸缩、C＝O伸缩、苯环CC伸缩、C‐N伸缩、C‐O伸缩、还有苯环CH面外弯曲导致的分子振动。

说明书液晶显示面板用基板、液晶显示面板、液晶显示面板用基板的制造方法以及基板检查方法
技术领域
本发明涉及构成触摸开关（touch switch）配设于内部的内嵌（in‑cell）型的液晶显示面板的液晶显示面板用基板、液晶显示面板、液晶显示面板用基板的制造方法、以及基板检查方法。
背景技术
作为触摸面板，开发了在液晶面板内形成有作为触摸开关而发挥作用的“开关光电间隔物（photo spacer）（以下有时称为开关PS）”的内嵌型触摸面板。
图21是表示形成有一般的开关PS的内嵌型触摸面板的结构的图。
如图21所示那样，内嵌型触摸面板300具备表面成为笔等的被检查位置的对象物的触摸面的第一基板301、以及隔着液晶层302与第一基板301对置配置的第二基板303。在第一基板301的背面（与第二基板303的对置面），按各子像素的每1个配设有滤色器（color filter）311，在各子像素间配设有BM（黑底）312。
进而，在第一基板301的背面配设有向第二基板303的表面（与第一基板的对置面）方向突出的开关PS313。该开关PS313与第二基板303分离配设。
在第二基板303的表面配设有透明树脂层321，在透明树脂层321的表面按各子像素的每1个配设有像素电极322。
此外，在第二基板303的表面，在与开关PS313对置的位置配设有开关电极323。
另外，在第一基板301与第二基板303之间，配设有主PS304，利用该主PS304，规定第一基板301与第二基板303的距离（液晶层302的厚度）。
在像这样构成的液晶面板300中，第一基板301的表面由用户用笔等直接按压。由此，开关PS313变成与配设于第二基板303的开关电极323相接触，能进行位置检测。
在此，一般来说，液晶面板为了限制液晶的取向，在与液晶层接触的基板表面（或者背面）配设有取向膜。
但是，当该取向膜配设于开关PS313与开关电极323的接触面时，会在分别接触时引起导通不良。
在专利文献1中，记载了将配设于突起部的表面和与该突起部接触的电极部的表面的取向膜除去的情况。
使用图22，对专利文献1的液晶显示面板进行说明。
如图22所示那样，液晶显示面板401利用像素电极414和对置传感器电极422来构成电阻型触摸传感器。
在设置于第一基板410的像素电极414，设置有多个狭缝414A和多个边缘414B。而且，在夹着液晶430对置配置的第二基板420设置有第二空间控制柱401B，在该第二空间控制柱401B的背面设置有对置传感器电极422。
根据液晶显示面板401的结构，在边缘414B中，构成为有取向膜415变得比较薄的趋势，边缘414B从取向膜415露出。
此外，以约2.5μm的高度形成第二空间控制柱401B，因该高度，配设于第二基板420侧的取向膜423不能完全追随，由此几乎未形成到第二空间控制柱401B的顶端部。
在像这样形成的液晶显示面板401中，通过用手指等从第二基板420的表面侧按下，从而与边缘414B对置配设的对置传感器电极422，与像素电极414中的露出的边缘414B接触。由此，变成用对置传感器电极422和边缘414B取得导通，抑制了位置检测的不稳定性。
进而，在专利文献1中，通过进行取向膜415的摩擦（rubbing）处理，从而使边缘414露出，或者进而，通过在形成了取向膜415之后且在进行摩擦处理之前追加进行灰化（ashing）处理的工序，从而减少取向膜415的厚度，易使边缘414B露出。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本国公开专利公报“特开2009‐251110号公报（2009年10月29日公开）”。
发明内容
发明要解决的课题
在像这样的内嵌型触摸面板中，当在开关PS或者开关电极的抵接面即便稍微残留有取向膜时，在按下了液晶显示面板时，也会引起导通不良，会产生不能进行正确的位置检测的课题。
虽然通过如图21、22所示的开关PS313、对置传感器电极422那样，使形状为突起状，从而能使在开关PS313、对置传感器电极422的与开关电极423、边缘414B的抵接面成膜的取向膜弹开，但实际上，不能高效地确认（检查）取向膜是否未形成于开关PS313、对置传感器电极422的与开关电极323、边缘414B的抵接面。
即，一般来说，作为确认有无取向膜的手法，采取操作者使用光学显微镜来进行目视确认的方法。但是，在这种情况下，操作者只会仅利用取向膜的色调来判断取向膜的有无。因此，该判断会因个人差异而有偏差。
此外，虽然也考虑了用SEM观察剖面的方法，但在这样的方法中，由于非常麻烦和非常花费时间，另外而且还需要破坏液晶显示面板，所以无法面向实际的生产线。
虽然在专利文献1中，如上所述，进行摩擦处理或追加进行灰化处理的工序，或使边缘414B易于露出，但对其也是同样地，为了确认是否从边缘414的表面真正地除去了取向膜，仅用SEM来确认剖面，不能以非破坏方式来确认取向膜的有无。
像这样，难以高效且可靠地确认取向膜的有无。
本发明是为了解决上述的问题而做出的，其目的在于提供一种能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构的液晶显示面板用基板、液晶显示面板、液晶显示装置、液晶显示面板的检查方法。
用于解决课题的方案
为了解决上述的课题，本发明的液晶显示面板用基板是，一种液晶显示面板用基板，通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，其特征在于，具备：开关用电极，与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，该开关用电极以如下方式配设，即，在与上述其他基板对置配置时，通过自身或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通；以及反射膜，配设于上述开关用电极的下方，对红外光进行反射。
根据上述结构，在与上述其他基板对置配置时，配设于上述其他基板的电极和上述开关用电极成为一对，构成上述开关。而且，通过上述液晶显示面板用基板、或者上述其他基板被按压，从而上述开关电导通，因此能使该开关例如作为感测该导通的位置的传感器发挥作用。
进而，根据上述结构，反射红外光的反射膜配设于上述开关用电极的下方。由此，能用上述反射膜反射在与上述其他基板对置配置之前从上述开关用电极的表面侧入射的红外光。因此，通过测定在上述反射膜的反射光的频谱，从而能检查成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面。
由此，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
为了解决上述的课题，本发明的液晶显示面板是，一种液晶显示面板，具备有源基板和隔着液晶层与该有源基板对置配置的对置基板，其特征在于，具备以通过上述有源基板或者上述对置基板被按压从而电导通的方式由配设于上述有源基板的第一开关用电极和配设于上述对置基板的第二开关用电极构成的开关，还具备配设于上述有源基板并层叠有上述第一开关用电极的反射红外光的第一反射膜和配设于上述对置基板并层叠有上述第二开关用电极的反射红外光的第二反射膜中的至少一方。
根据上述结构，关于上述开关，通过上述有源基板或者对置基板被按压，从而使上述第一开关用电极和上述第二开关用电极电导通。因此，能使上述开关例如作为感测该导通的位置的传感器发挥作用。
进而，根据上述结构，具备配设于上述有源基板并层叠有上述第一开关用电极的反射红外光的第一反射膜和配设于上述对置基板并层叠有上述第二开关用电极的反射红外光的第二反射膜中的至少一方。
因此，能利用上述第一反射膜和第二反射膜中的至少一方来反射在上述有源基板与上述对置基板被对置配置之前从第一开关用电极或者第二开关用电极的表面侧入射的红外光。因此，通过测定在上述第一反射膜和第二反射膜的反射光的频谱，从而能检查成为在上述第一开关用电极与上述第二开关用电极之间取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于第一开关用电极或者第二开关用电极中的至少一方的表面。
由此，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
为了解决上述的课题，本发明的液晶显示面板用基板的制造方法是，一种液晶显示面板用基板的制造方法，该液晶显示面板用基板通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，该制造方法的特征在于，具有：反射膜形成工序，形成反射红外光的反射膜；以及开关用电极形成工序，在上述反射膜形成工序中形成的反射膜的上方形成开关用电极，其中，该开关用电极与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，在与上述其他基板对置配置时，通过上述液晶显示面板用基板或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通。
根据上述结构，在上述开关用电极形成工序中，在上述反射膜形成工序中形成的反射红外光的上述反射膜的上方形成上述开关用电极。由此，能够制造能用上述反射膜来反射从上述开关用电极的表面侧入射的红外光的液晶显示面板用基板。
由此，通过测定在上述反射膜的反射光的频谱，从而能够制造如下这样的液晶显示面板用基板，即，能够对成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面。
由此，能够制造如下这样的液晶显示面板用基板，即，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
为了解决上述的课题，本发明的液晶显示面板用基板的基板检查方法是，一种基板检查方法，对液晶显示面板用基板进行检查，该液晶显示面板用基板通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，该基板检查方法的特征在于，具有：红外光射出工序，对开关用电极射出红外光，其中，该开关用电极与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，在与上述其他基板对置配置时，通过上述液晶显示面板用基板或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通；以及反射光取得工序，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自反射膜的反射光，其中，该反射膜在对上述液晶显示面板用基板进行俯视时形成于上述开关用电极内并对红外光进行反射。
根据上述结构，在上述红外光射出工序中，对上述开关用电极射出红外光，在上述反射光取得工序中，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自层叠上述开关用电极的上述反射膜的反射光。由此，能根据该取得的反射光，判定成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面。
因此，根据上述结构，能高效、可靠地检查有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
发明效果
本发明的液晶显示面板是，一种液晶显示面板用基板，通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，其特征在于，具备：开关用电极，与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，该开关用电极以如下方式配设，即，在与上述其他基板对置配置时，通过自身或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通；以及反射膜，配设于上述开关用电极的下方，对红外光进行反射。
本发明的液晶显示面板是，一种液晶显示面板，具备有源基板和隔着液晶层与该有源基板对置配置的对置基板，其特征在于，具备：以通过上述有源基板或者上述对置基板被按压从而电导通的方式由配设于上述有源基板的第一开关用电极和配设于上述对置基板的第二开关用电极构成的开关，还具备：配设于上述有源基板并层叠有上述第一开关用电极的反射红外光的第一反射膜和配设于上述对置基板并层叠有上述第二开关用电极的反射红外光的第二反射膜中的至少一方。
本发明的液晶显示面板用基板的制造方法是，一种液晶显示面板用基板的制造方法，该液晶显示面板用基板通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，该制造方法的特征在于，具有：反射膜形成工序，形成反射红外光的反射膜；以及开关用电极形成工序，在上述反射膜形成工序中形成的反射膜的上方形成开关用电极，其中，该开关用电极与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，在与上述其他基板对置配置时，通过上述液晶显示面板用基板或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通。
本发明的基板检查方法是，一种基板检查方法，对液晶显示面板用基板进行检查，该液晶显示面板用基板通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，该基板检查方法的特征在于，具有：红外光射出工序，对开关用电极射出红外光，其中，该开关用电极与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，在与上述其他基板对置配置时，通过上述液晶显示面板用基板或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通；以及反射光取得工序，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自反射膜的反射光，其中，该反射膜在对上述液晶显示面板用基板进行俯视时形成于上述开关用电极内并对红外光进行反射。
由此，起到能高效、可靠地进行成为开关中产生不良的原因的、结构的有无存在的确认的效果。
附图说明
图1是图2、图3所示的A‐A’线向视剖面图。
图2是表示本发明一实施方式的液晶显示装置中的对置基板的结构的平面图。
图3是表示本发明一实施方式的液晶显示装置中的有源基板的结构的平面图。
图4是图3的V‐V’线向视剖面图。
图5是表示本发明的液晶显示面板的等效电路的图。
图6是说明本发明的液晶显示面板的制造工序的流程图。
图7是说明本发明的液晶显示面板的对置基板的制造方法的图。
图8是说明本发明的将对置基板的开关PS电极的顶端部的取向膜除去的方法的图。
图9是表示本发明的对置基板的开关PS电极的变形例的图。
图10是说明本发明的有源基板的制造方法的图。
图11中（a）是表示对在开关用电极有PI的残渣的基板进行检查的样子的图，（b）是说明对在开关用电极没有PI的残渣的基板进行检查的样子的图。
图12是表示显示于显示部的有PI残渣的情况下的频谱的图。
图13是表示显示于显示部的没有PI残渣的频谱的图。
图14是说明由红外吸收决定的分子振动位置的图。
图15是表示本发明第二实施方式的配设于液晶显示面板的触摸开关的结构的剖面图。
图16是表示本发明第二实施方式的有源基板的开关电极的结构的平面图。
图17是表示本发明第三实施方式的配设于液晶显示面板的触摸开关的结构的剖面图。
图18是表示本发明第四实施方式的开关用电极检查装置的结构的图。
图19是表示显示于显示部的、PI残渣的有无的判定结果的图。
图20是表示在开关电极的表面不存在PI残渣的频谱的图。
图21是表示以往的形成有开关PS的内嵌型触摸面板的结构的图。
图22是表示以往的液晶显示面板的结构的剖面图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式详细地进行说明。
〔实施方式1〕
（液晶显示装置的概略结构）
首先，使用图1～图3，对本实施方式的液晶显示装置的概略结构进行说明。
图2是表示本实施方式的液晶显示装置中的对置基板的结构的平面图。图3是表示本实施方式的液晶显示装置中的有源基板的结构的平面图。
图1是图2、图3所示的A‐A’线向视剖面图。
如图1所示那样，液晶显示装置3具备液晶显示面板1和背光灯（backlight）2。此外，液晶显示装置3具备对液晶显示面板1以及背光灯2各自的驱动进行控制的驱动控制电路（未图示）等。
液晶显示面板1是作为在内部作为触摸传感器形成有触摸开关（开关）50的触摸面板而发挥作用的内嵌型带触摸传感器功能的液晶显示面板。
根据本实施方式，能提供一种能高效地判别配设于这样的内嵌型带触摸传感器功能的液晶显示面板内部的触摸开关上有无取向膜的手法。
液晶显示面板1具备有源基板（第二基板）12和隔着液晶层10与有源基板12对置配置的对置基板（第一基板）11。
背光灯2是对液晶显示面板1进行照明的照明装置，配设于有源基板12的背面侧（与配设有液晶层10的一侧相反的一侧）。
在对置基板（液晶显示面板用基板、其他基板）11与有源基板（其他基板、液晶显示面板用基板）12之间，形成有间隔物33。间隔物33是所谓的光电间隔物，利用该间隔物33，规定了对置基板11与有源基板12的间隔（所谓的单元间隙）。间隔物33是主PS（光电间隔物）。
对置基板11至少具备玻璃基板25、滤色器层26、反射膜（第二反射膜）38、开关PS电极（开关用电极、配设于其他基板的电极、第二开关用电极）51和取向膜21。
玻璃基板25例如具有0.7mm以下程度的厚度。而且，在玻璃基板25的表面（与有源基板12的对置面相反一侧的面）配设有未图示的偏振片。该偏振片的表面是用户的手指、笔等被检测位置的对象物所触摸（接触）的触摸面。该触摸面也是被上述对象物按压的面。
滤色器层26配设于玻璃基板25的背面（与有源基板12的对置面）。
反射膜38配设于滤色器层26的背面（与有源基板12的对置面）。反射膜38由金属材料构成，特别是，由反射从傅立叶变换红外分光光度计等射出的红外光的材质构成。
进而，优选构成反射膜38的金属材料是与形成于构成液晶显示面板1的有源基板12的布线或者电极的任一个相同的材料。由此，无需为了形成反射膜38而新准备金属材料，能抑制制造成本上升。
优选反射膜38由单层构成，并以钽（Ta）、钼（Mo）、钛（Ti）、铜（Cu）、铝（Al）的任一个为主要成分。由此，能使用在有源基板12内的布线中使用的金属材料来形成反射膜38。
因此，无需为了形成反射膜38而新准备金属材料，能抑制制造成本上升。
另外，反射膜38未必需要由单层形成，也可以由以上述的钽（Ta）、钼（Mo）、钛（Ti）、铜（Cu）、铝（Al）的任一个为主要成分的多个层构成。
反射膜38的厚度不特别进行限定，只要是不对在形成反射膜38后成膜的构件产生影响的程度的厚度即可。作为一个例子，以50nm左右形成反射膜38。
开关PS电极51配设于反射膜38的背面（与有源基板12的对置面）。开关PS电极51如后所述，由柱状的透明树脂材料和覆盖透明树脂材料的表面的作为共用电极的透明电极构成。
开关PS电极51设置成从反射膜38的背面向有源基板12侧突出，开关PS电极51与设置于有源基板12的开关电极52（将在后面叙述）分离。即，开关PS电极51构成为凸形状。另外，开关PS电极51的详细的结构将在后面叙述。
取向膜21例如由聚酰亚胺（PI）构成。取向膜21配设于除了开关PS电极51的顶端面（与开关电极52的对置面）之外的、对置基板11的与液晶层10的边界。另外，对置基板11层叠有在图1中未图示的作为共用电极的透明电极。
取向膜21隔着该透明电极覆盖了滤色器层26、反射膜38、开关PS电极51的侧面、间隔物33的侧面。即，开关PS电极51的顶端面露出了上述透明电极。
有源基板12至少具备玻璃基板35、像素电极15、反射膜（第一反射膜）39、开关电极52和取向膜32。
玻璃基板35例如具有0.7mm以下程度的厚度。而且，在玻璃基板35的背面（与背光灯2的对置面）配设有未图示的偏振片。
反射膜39配设于开关电极52的形成区域内，并配设于与开关PS电极51对置的区域。
反射膜39与反射膜38同样地由金属材料构成，特别是由反射从傅立叶变换红外分光光度计等射出的红外光的材质构成。
优选反射膜39由单层构成，并以钽（Ta）、钼（Mo）、钛（Ti）、铜（Cu）、铝（Al）的任一个为主要成分。
由此，能使用在有源基板12内的布线中使用的金属材料来形成反射膜39。由此，无需为了形成反射膜39而新准备金属材料，能抑制制造成本上升。
另外，反射膜39未必需要由单层形成，也可以由以上述的钽（Ta）、钼（Mo）、钛（Ti）、铜（Cu）、铝（Al）的任一个为主要成分的多个层构成。
反射膜39的厚度不特别进行限定，只要是不对在形成反射膜39后成膜的构件产生影响的程度的厚度即可。作为一个例子，以50nm左右形成反射膜39。
开关电极52层叠于反射膜39。开关电极52配设于与开关PS51对置的区域。即，开关电极52形成于与被按压的开关PS51抵接的位置。
开关PS电极51和后面叙述的开关电极52是设置于液晶显示面板1内的作为触摸传感器发挥作用的触摸开关50。
像这样，关于触摸开关50，开关PS电极51和开关电极52中的开关PS电极51形成为凸形状。由此，通过按压对置基板11和有源基板12的任一个，从而相互接触，进行电导通。像这样，构成了触摸开关50。
另外，在本实施方式中，开关电极52如后所述还兼作触摸开关50的位置检测用TFT的漏极电极。
取向膜32例如由聚酰亚胺（PI）构成。取向膜32配设于除了开关电极52的表面之外的、有源基板12的与液晶层10的边界面。即，取向膜32覆盖了玻璃基板35、像素电极15以及间隔物33的侧面。
（滤色器层的结构）
接着，使用图2，对滤色器层26进行说明。
如图2所示那样，滤色器层26具备配设于各像素5内的着色层26R、26G、26B和配设于相邻着色层26R、26G、26B间的遮光层（黑底）26M。即，着色层26R、26G、26B分别配设于由遮光层26M划分的区域内。
着色层26R选择性地透射红色的波长的光，着色层26G选择性地透射绿色的波长的光，着色层26B选择性地透射蓝色的波长的光。
此外，遮光层26M具有突出部26Ma，该突出部26Ma在俯视对置基板11时在对置基板11的垂直方向上延伸的遮光层26M中的一部分向像素5内突出而形成。该突出部26Ma形成为覆盖用于控制触摸开关50的驱动的检测用TFT（将在后面叙述）。反射膜38以及开关PS电极51配设于该突出部26Ma的背面。
（有源基板的结构）
图3是表示有源基板12的结构的平面图。
在有源基板12配设有：相互平行的多个栅极布线13、相互平行的多个检测用布线43和相互平行的源极布线14。
栅极布线13、检测用布线43、以及源极布线14由以钽（Ta）、钼（Mo）、钛（Ti）、铜（Cu）、铝（Al）的任一个为主要成分的金属材料构成。
多个栅极布线13与多个检测用布线43平行配设，多个源极布线14配设成与多个栅极布线13以及多个检测用布线43交叉。在俯视有源基板12时，多个栅极布线13以及多个检测用布线43在水平方向上延伸配设，多个源极布线14在垂直方向上延伸配设。
在俯视液晶显示面板1时，由栅极布线13、检测用布线43和源极布线14划分的格子状图案为像素5。
在像素5内形成有TFT（Thin Film Transistor，薄膜晶体管）16、像素电极15和开关电极52。
TFT16具备栅极电极17、源极电极18和漏极电极19。栅极电极17、源极电极18以及漏极电极19由以钽（Ta）、钼（Mo）、钛（Ti）、铜（Cu）、铝（Al）的任一个为主要成分的金属材料构成。
在栅极电极17与源极电极18以及漏极电极19之间插入地配设有半导体层34。栅极电极17与栅极布线13连接，源极电极18与源极布线14连接，漏极电极19连接于像素电极15。
漏极电极19被层间绝缘膜（未图示）覆盖。而且，在该层间绝缘膜中形成有接触孔23，经由该接触孔23，漏极电极19和像素电极15被连接。
像素电极15由ITO等的透明电极构成。像素电极15配设于与着色层26R、26G、26B分别对置的区域。当由TFT16对像素电极15施加电压时，在像素电极15与配设于对置基板11的共用电极之间产生电位差。由此，通过进行液晶层10的液晶的驱动控制，从而能使液晶显示面板1显示图像。
此外，在像素5内配设有触摸开关50用的位置的检测用TFT53。检测用TFT53具备栅极电极55、源极电极56和作为开关电极52的漏极电极。栅极电极55、源极电极56由以钽（Ta）、钼（Mo）、钛（Ti）、铜（Cu）、铝（Al）的任一个为主要成分的金属材料构成。
在栅极电极55与源极电极56以及开关电极52（漏极电极）之间插入地配设有半导体层57。栅极电极55与检测用布线43连接，源极电极56与源极布线14连接。
开关电极52至少配设于与开关PS电极51对置的区域。开关电极52由ITO等的透明电极构成，能用与像素电极15相同的工序形成。
（触摸开关附近的剖面结构）
接着，使用图4，对有源基板12以及对置基板11的触摸开关50附近的剖面结构进行说明。
图4是图3的V‐V’线向视剖面图。
首先，对有源基板12的剖面的结构进行说明。
如图4所示那样，在玻璃基板35的表面形成有栅极电极55。而且，覆盖栅极电极55地在玻璃基板35的表面形成有栅极绝缘膜36。
在栅极绝缘膜36的表面中的覆盖栅极电极55的区域形成有半导体层57。在栅极绝缘膜36的表面中的开关电极52的形成区域内，即，在与开关PS电极51对置的区域，形成有反射膜39。
而且，形成有覆盖反射膜39以及半导体层57的一部分的开关电极52。此外，覆盖栅极绝缘膜36的表面以及半导体层57的另外的一部分地形成有源极电极56。
覆盖源极电极56地在栅极绝缘膜36上以及半导体层57上形成有层间绝缘膜37。
层间绝缘膜37例如由具有透光性的树脂构成。层间绝缘膜37进一步优选由具有透明性的树脂构成。具体地说，层间绝缘膜37由丙烯酸树脂构成。而且，在层间绝缘膜37的表面层叠有取向膜32。
开关电极52的表面（与对置基板11的对置面）未被层间绝缘膜37以及取向膜32所覆盖，而是露出着。
另外，反射膜39与半导体层57可以相接，也可以不接触，只要配设成开关电极52和半导体层57取得电导通即可。
接着，说明对置基板11侧的剖面的结构。
在玻璃基板25的背面形成有遮光层26M。在遮光层26M的背面中的与开关电极52对置的区域内形成有反射膜38。在反射膜38的背面形成有多个柱状的开关PS电极51。在本实施方式中，对1个共用的反射膜38形成有3个开关PS电极51。
开关PS电极51由形成于反射膜38的开关PS（结构物）58和覆盖该开关PS58的透明电极27构成。而且，覆盖遮光层26M、开关PS58以及反射膜38地形成有透明电极27。
而且，透明电极27中的开关PS电极51的顶端面以外被取向膜21覆盖。即，开关PS电极51的顶端部分露出了透明电极27。
开关PS58具有凸形状。开关PS58由丙烯酸树脂构成。像这样，通过用丙烯酸树脂构成开关PS58，从而能用与配设于有源基板12的层间绝缘膜37相同的材料构成。因此，由于无需为了形成开关PS58而新使用另外的材料，所以能防止制造成本上升。
（触摸位置的检测方法）
接着，使用图5，对在液晶显示面板1的触摸位置的检测方法进行说明。
图5是表示液晶显示面板1的等效电路的图。
对某检测用布线43施加规定的扫描电压。于是，连接于该检测用布线43的检测用TFT53变为ON（导通）状态，开关电极52与源极电极56导通。
在此，通过用户按压液晶显示面板1的触摸面，从而当形成于开关PS电极51的顶端的透明电极27和开关电极52接触时，透明电极27和开关电极52成为导通状态。由此，与施加到透明电极27的共用电压相应的电流流到源极布线14，通过感测该源极布线14中流动的电流，从而能感测触摸位置。
通过依次切换（扫描）多个检测用布线43中的施加扫描电压的检测用布线43，从而能在液晶显示面板1内二维地感测位置。
（液晶显示面板的主要的优点）
像这样，液晶显示面板1具备触摸开关50，该触摸开关50由配设于有源基板12的开关电极52以及配设于对置基板11的开关PS电极51构成使得有源基板12或者对置基板11通过被按压而电导通。
因此，作为触摸面的对置基板11的表面或者有源基板12的背面（与背光灯2的对置面）例如被手指、笔等按压，由此该被按压的区域局部弯曲。而且，当形成于该弯曲的区域内的开关PS电极51的顶端面的透明电极27与开关电极52接触时，开关PS电极51与开关电极52电导通。因此，能将触摸开关50作为感测电导通的位置（即被按压的位置）的传感器而发挥作用。
进而，液晶显示面板1具备配设于有源基板12并层叠有开关电极52的反射红外光的反射膜39、以及配设于对置基板11并层叠有开关PS电极51的反射红外光的反射膜38这两者。
因此，能用反射膜38反射在对置基板11与有源基板12被对置配置之前从对置基板11的开关PS电极51的表面（顶端面）侧入射的红外光。因此，通过测定来自该反射膜38的反射光的频谱，从而能对成为在开关PS电极51与有源基板12侧的开关电极52之间取得电导通时产生不良的原因的结构即取向膜21的残渣是否存在于开关PS电极51的表面（顶端面）进行检查。
进而，能用反射膜39反射在对置基板11与有源基板12被对置配置之前从有源基板12的开关电极52的表面侧入射的红外光。因此，通过测定来自该反射膜39的反射光的频谱，从而能检查成为在开关电极52与对置基板11侧的开关PS电极51之间取得电导通时产生不良的原因的结构即取向膜32的残渣是否存在于开关电极52的表面。
像这样，由于根据液晶显示面板1，具备反射膜38和反射膜39这两者，所以能对开关PS电极51与开关电极52这两者的表面均检查成为在开关PS电极51与开关电极52之间取得电导通时产生不良的原因的结构即取向膜21、32的残渣是否存在。
由此，与用显微镜进行目视确认的情况相比较，能高效、更可靠地确认有无存在成为触摸开关50中产生不良的原因的结构。
此外，液晶显示面板1也可以是配设有反射膜38和反射膜39中的至少一方的结构。由此，能用反射膜38和反射膜39中的至少一方反射在有源基板12和对置基板11被对置配置之前从开关PS电极51以及开关电极52的表面侧入射的红外光。
因此，通过测定在反射膜38和反射膜39的反射光的频谱，从而能检查成为在开关PS电极51与开关电极52之间取得电导通时产生不良的原因的取向膜21、32的残渣是否存在于开关PS电极51或者开关电极52中的至少一方的表面。
由此，与利用显微镜进行目视确认的情况相比较，能高效、可靠地确认有无成为触摸开关50中产生不良的原因的取向膜21、32的残渣。
此外，有源基板12的开关电极52具备作为透明电极的开关电极52。即，有源基板12具备用与构成开关电极52的透明电极相同的工序形成的像素电极15。
由此，能用与将一般形成在液晶显示面板用基板中的有源基板12处的像素电极15形成的工序相同的工序，形成开关电极52。
因此，无需设置仅用于形成开关电极52的工序，能防止制造成本上升。
另一方面，对置基板11的开关PS电极51具备透明电极27。即，对置基板11具备用与构成开关PS电极51的透明电极27相同的工序形成的作为共用电极（公共电极）的透明电极27。
由此，能用与将一般形成在液晶显示面板用基板中的对置基板处的共用电极形成的工序相同的工序，形成开关PS电极51所具备的透明电极27。
因此，无需设置仅用于形成开关PS电极51所具备的透明电极27的工序，能防止制造成本上升。
虽然在本实施方式中，假设TFT16和检测用TFT53连接于共用的源极布线14并进行了说明，但也可以采用在连接有TFT16的源极布线14之外另设置连接检测用TFT53的源极布线14的结构。
像这样，通过在连接像素5的驱动控制用的TFT16的源极布线14之外另设置连接检测用TFT53的源极布线14，从而能与像素5的驱动控制独立地进行触摸位置的感测，因此能使感测精度提高。
虽然在本实施方式中，假设在1个像素5内设置1个触摸开关50并进行了说明，但不局限于此，也可以采用在配设有着色层26R、着色层26G、或者着色层26B的像素5中的任1个像素5设置触摸开关50的结构。进而，也可以采用对任意的像素5设置1个触摸开关50的结构。
虽然在本实施方式中，假设对共用的1个反射膜38设置有3个开关PS电极51并进行了说明，但不局限于此，关于开关PS电极51，可以对1个反射膜38设置4个以上或2个，或者也可以仅设置1个。
但是，如上所述，通过对共用的1个反射膜38设置3个左右的多个开关PS电极51，从而能在开关PS电极51被按压到开关电极52时使施加在开关PS电极51的负荷分散。因此，能防止开关PS电极51、形成有开关PS电极51的反射膜38、以及形成有反射膜38的遮光层26M遭到破坏。
（液晶显示面板的制造工序的概略）
接着，使用图6，对制造液晶显示面板1的工序的概略进行说明。图6是说明液晶显示面板1的制造工序的流程图。
首先，说明对置基板11的制造工序（制造方法）的概略。
在反射膜形成工序中，在形成于玻璃基板25的表面的滤色器层26的表面，形成反射红外光的反射膜38。该反射膜38形成于形成有开关PS电极51的区域。
接着，在开关PS电极形成工序（开关用电极形成工序）中，在用反射膜形成工序形成的反射膜39的上方即层叠于反射膜39地形成开关PS电极51。
在本实施方式的对置基板11中，开关PS电极形成工序具有开关PS形成工序和透明电极形成工序。
首先，在开关PS形成工序中，在用反射膜形成工序形成的反射膜38的上方即层叠于反射膜38地形成开关PS58。
接着，在透明电极形成工序中，通过覆盖用开关PS形成工序形成的开关PS58、用反射膜形成工序以前的滤色器形成工序形成的滤色器层26，对ITO进行构图，从而形成透明电极27。由此，形成共用电极，并且，形成开关PS电极51。
接着，在取向膜形成工序中，在用透明电极形成工序形成的透明电极27的表面，形成取向膜21。取向膜21是通过在透明电极27的表面涂敷聚酰亚胺溶液，对该涂敷的聚酰亚胺溶液进行烧制而形成的。
此外，在俯视对置基板11时，将用开关PS电极形成工序形成的开关PS电极51的顶端面（表面）51a作为选择性地不对取向膜21进行成膜的取向膜21的非形成区域，在取向膜形成工序中，在取向膜21的非形成区域的周围形成取向膜21。
关于在开关PS电极51的顶端面51a选择性地不形成取向膜21的方法，将在后面叙述。
接着，在开关PS电极检查工序中，对在取向膜形成工序中在作为取向膜21的非形成区域的开关PS电极51的顶端面51a有无取向膜21即聚酰亚胺（PI）的残渣进行检查。作为一个例子，通过进行FT‐IR测定来进行该PI残渣的有无的检查。关于该PI残渣的有无的检查，也可以通过判定附着的PI是否超过了容许量来进行判定。该开关PS电极检查工序的细节将在后面叙述。
当在开关PS电极检查工序中判定为在开关PS电极51的顶端面51a有PI的残渣时，该被判定的基板接着被转移到PI除去工序。
当在开关PS电极检查工序中判定为在开关PS电极51的顶端面51a没有PI的残渣时，作为合格品的对置基板11被转移到下一工序。
通过判定为在开关PS电极51的顶端面51a有PI的残渣而被转移到PI除去工序的基板在该PI除去工序中，例如进行灰化处理等，除去附着于开关PS电极51的顶端面51a的PI。
而且，在PI除去工序中，除去了附着于开关PS电极51的顶端面51a的PI的基板作为合格品的对置基板11被转移到下一工序。
接着，对有源基板12的制造工序的概略进行说明。
在反射膜形成工序中，在形成于玻璃基板35的表面的栅极绝缘膜36的表面，形成反射红外光的反射膜39。该反射膜39形成于形成有开关电极52的区域。
在用与构成TFT16、检测用TFT53的任一电极、半导体层相同的材料形成该反射膜39的情况下，也可以用与形成由该相同的材料构成的电极、半导体层的工序相同的工序形成。
开关电极形成工序在本实施方式中兼作透明电极形成工序。在开关电极形成工序中，通过以覆盖在反射膜形成工序中形成的反射膜39的方式对ITO进行构图，从而形成开关电极52。此外，在开关电极形成工序中，一并在层叠于栅极绝缘膜36而形成的层间绝缘膜37的表面，还形成像素电极15。
接着，在取向膜形成工序中，在用开关电极形成工序形成的像素电极15、层间绝缘膜37的表面，形成取向膜32。取向膜32是通过在像素电极15、层间绝缘膜37的表面涂敷聚酰亚胺溶液，对该涂敷的聚酰亚胺溶液进行烧制而形成的。
此外，在本实施方式中，在有源基板12的取向膜形成工序中包含PI除去工序。
在该PI除去工序中，例如通过进行灰化处理等，在俯视有源基板12时，将在开关电极形成工序中形成的开关电极52的表面52a作为选择性地不对取向膜32进行成膜的取向膜32的非形成区域，除去在开关电极52的表面52a成膜的取向膜32即PI。
像这样，在取向膜形成工序中，在取向膜32的非形成区域的周围形成取向膜32。另外，关于除去开关电极52的表面52a的PI的方法，将在后面叙述。
接着，在开关电极检查工序中，对在取向膜形成工序中在作为取向膜32的非形成区域的开关电极52的表面52a有无取向膜32即PI的残渣进行检查。作为一个例子，通过进行FT‐IR测定来进行该PI残渣的有无的检查。关于该PI残渣的有无的检查，也可以通过判定附着的PI是否超过了容许量来进行判定。该开关电极检查工序的细节将在后面叙述。
当在开关电极检查工序中判定为在开关电极52的表面52a有PI的残渣时，该被判定的基板接着被转移到PI除去工序。
当在开关电极检查工序中判定为在开关电极52的表面52a没有PI的残渣时，作为合格品的有源基板12被转移到下一工序。
通过判定为在开关电极52的表面52a有PI的残渣而被转移到PI除去工序的基板在该PI除去工序中，例如进行灰化处理等，除去附着于开关电极52的表面52a的PI。
而且，当在PI除去工序中，除去了附着于开关电极52的表面52a的PI时，作为合格品的有源基板12被转移到下一工序。
接着，在密封形成工序中，对完成了的有源基板12涂敷、印刷密封用树脂。而且，在该有源基板12滴下液晶，与上述完成了的对置基板11进行粘合。而且，通过在对置基板11、有源基板12的外侧面分别配设偏振片，从而完成液晶显示面板1。而且，通过在液晶显示面板1配设驱动电路、背光灯2等，从而完成液晶显示装置。
接着，具体地说明对置基板11、有源基板12的制造方法。
（对置基板的制造方法）
首先，使用图7的（a）～（f），说明对置基板11的制造方法。
图7的（a）～（f）是说明对置基板11的制造方法的图。
首先，在滤色器层形成工序中，在玻璃基板25上形成遮光层26M和着色层26R、26G、26B。
如图7的（a）所示那样，在玻璃基板25的表面形成规定图案的遮光层26M。
例如，通过在玻璃基板25的表面涂敷黑色树脂材料之后，利用光刻法，除去该涂敷的黑色树脂材料中的不需要的部分，从而能形成遮光层26M。
接着，如图7的（b）所示那样，在遮光层26M的非形成区域即成为像素5的区域内，形成着色层26R、26G、26B。
首先，在玻璃基板25上涂敷包含着色层材料的彩色抗蚀剂，经由具有规定图案的开口的光掩模照射紫外线。由此，使该规定图案部分的彩色抗蚀剂固化且不熔化。接着，利用显影液，除去作为未固化部分的不需要的彩色抗蚀剂。而且，通过对未除去且构图后的彩色抗蚀剂进行烘焙从而使其固化。
通过对红、绿、蓝的着色层材料进行该工序，从而形成着色层26R、26G、26B。
由此，形成滤色器层26。
另外，滤色器层26的形成方法不限定于上述方法，能使用公知的方法。
接着，如图7的（c）所示那样在滤色器层26中的遮光层26M的表面形成反射膜38（反射膜形成工序）。例如，利用溅射法，在遮光层26M的表面对构成反射膜38的金属材料的薄膜进行成膜，由此能形成反射膜38。
接着，如图7的（d）所示那样，在反射膜38的表面形成开关PS58（开关PS电极形成工序）。
首先，在反射膜38以及滤色器层26的表面涂敷包含构成开关PS51的透明树脂材料的抗蚀剂。
接着，经由具有规定图案的开口的光掩模照射紫外线。由此，使该规定图案部分的抗蚀剂固化且不熔化。接着，利用显影液，除去作为未固化部分的不需要的抗蚀剂。而且，通过对未除去且构图后的抗蚀剂进行烘焙，从而使其固化。
由此，开关PS58形成于反射膜38的表面。
另外，开关PS58不限定于透明树脂材料，也可以使用形成了着色层26R、26G、26B的彩色抗蚀剂的任一个来形成。
接着，如图7的（e）所示那样，以覆盖滤色器层26、反射膜38以及开关PS58的方式，形成成为共用电极的透明电极27（透明电极形成工序）。
例如，利用溅射法，形成构成透明电极27的ITO的薄膜，由此能形成透明电极27。
由此，形成共用电极，并且，形成由开关PS58和透明电极27构成的开关PS电极51。
接着，如图7的（f）所示那样，在遮光层26M的上方且在透明电极27的表面，形成作为主要的PS的间隔物33（间隔物形成工序）。
首先，在透明电极27的表面涂敷包含构成间隔物33的树脂材料的抗蚀剂。
接着，经由具有规定图案的开口的光掩模照射紫外线。由此，使该规定图案部分的抗蚀剂固化且不熔化。接着，利用显影液，除去作为未固化部分的不需要的抗蚀剂。而且，通过对未除去且构图后的抗蚀剂进行烘焙，从而使其固化。
由此，间隔物33形成在透明电极27的表面，且形成在遮光层26M的上方。
接着，如图7的（g）所示那样，在透明电极27的表面形成取向膜21（取向膜形成工序）。通过在透明电极27的表面涂敷构成取向膜21的聚酰亚胺溶液（PI溶液），并对其进行烧制（烘焙），从而使其固化。该固化后的膜为取向膜21。
在此，开关PS电极51、间隔物33具有某种程度的高度地突出形成。因此，构成取向膜21的聚酰亚胺不能完全追随于开关PS电极51、间隔物33的形状，在开关PS电极51的顶端面（与开关电极52的对置面）、间隔物33的顶端面（与有源基板12的抵接面），不成膜地使聚酰亚胺固化。作为一个例子，在本实施方式中，开关PS电极51的高度为2.5μm，以3μm左右形成间隔物33的高度。
由此，在除了开关PS电极51的顶端面、间隔物33的顶端面之外的透明电极27的表面，形成取向膜21。
像这样，能将开关PS电极51的顶端面51a作为选择性地不形成取向膜21的区域即取向膜21的非形成区域。也就是说，能将开关PS电极51的顶端面51a作为不形成PI的区域。像这样，形成对置基板11。
进而，为了更可靠地除去开关PS电极51的顶端面51a的PI的残渣，也可以追加PI除去工序。
以下，对PI除去工序的具体例进行说明。
图8的（a）～（c）是说明将开关PS电极的顶端部的取向膜21除去的方法的图。
如图8的（a）所示那样，在将取向膜21成膜后，以还覆盖开关PS电极51的顶端面51a的方式，在对置基板11的整个表面对抗蚀剂62进行成膜。
接着，如图8的（b）所示那样，除去抗蚀剂62中的开关PS电极51的顶端面51a的抗蚀剂62。
接着，对露出的开关PS电极51的顶端面51a，进行使用了氧等离子体的灰化。
然后，如图8的（c）所示那样，通过清洗残留的抗蚀剂62从而将其除去。由此，完成开关PS电极51的顶端面51a的PI的残渣被除去了的对置基板11。
此外，也可以通过使开关PS电极为图9所示的形状，从而在开关PS电极的顶端面不形成取向膜。
图9是表示开关PS电极的变形例的图。
此外，如图9所示那样，开关PS电极（开关用电极、配设于其他基板的电极、第二开关用电极）61通过使顶端面（取向膜的非形成区域）61a成为凸形状的曲面，从而做成容易弹开取向膜21的形状。
如在图7的（d）中所说明的那样，在反射膜38的表面形成了开关PS58之后，加入对该形成的开关PS58施加热的热处理工序。
在该热处理工序中，例如对开关PS58施加约220℃左右的热。于是，开关PS58的顶端面的周围软化、变形，从开关PS58的顶端面到侧面成为坡度小的凸形状。由此，形成图9的开关PS68。
接着，如图7的（e）中所示出的那样，以覆盖滤色器层26、反射膜38以及开关PS58的方式，形成成为共用电极的透明电极27。由此，层叠在成为凸形状的开关PS的顶端面的透明电极27也成为凸形状。由此，如图8所示那样，形成顶端面61a为凸形状的开关PS电极61。
关于以后的工序，由于与使用图7的（f）～（g）进行说明的工序是同样的，所以省略。
像这样，能形成配设有开关PS电极61的对置基板11，该开关PS电极61具有作为凸形状的曲面的顶端面61a。
像这样，根据对置基板11的制造方法，具有：反射膜形成工序，形成反射红外光的反射膜38；以及开关PS电极形成工序，在反射膜形成工序中形成的反射膜38的上方形成开关PS电极51，其中，该开关PS电极51与配设于有源基板12的开关电极52构成一对触摸开关50，在与有源基板12对置配置时，通过对置基板11或者有源基板12被按压，从而与配设于有源基板12的开关电极52电导通。
由此，在上述开关PS电极形成工序中，在上述反射膜形成工序中形成的反射膜38的上方，形成开关PS电极51。因此，能够制造能用反射膜38反射从开关PS电极51的顶端面（取向膜的非形成区域）51a侧入射的红外光的对置基板11。
由此，通过测定在反射膜38的反射光的频谱，从而能够制造如下这样的对置基板11，即，能够对成为在与配设于有源基板12的开关电极52取得电导通时产生不良的原因的取向膜21的残渣（PI残渣）是否存在于开关PS电极的顶端面51a进行检查。
由此，能够制造如下这样的对置基板11，即，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
此外，具有：取向膜形成工序，将在上述开关用电极形成工序中形成的开关PS电极51的顶端面51a作为选择性地不对取向膜21进行成膜的取向膜21的非形成区域，在取向膜21的非形成区域的周围形成取向膜21。
因此，能将成为在与配设于对置配置的有源基板12的开关电极52之间取得电导通时产生不良的原因的取向膜21不形成在开关PS电极51的顶端面51a，而形成在对置基板11。由此，能够制造形成有防止了导通不良的产生的开关PS电极51的对置基板11。
（对置基板11的主要的优点）
接着，说明通过隔着液晶层10与有源基板12对置配置而构成液晶显示面板1的对置基板11的主要的优点。
对置基板11具备：开关PS电极51，与配设于有源基板12的开关电极52构成一对触摸开关50，该开关PS电极51以如下方式配设，即，在与有源基板12对置配置时，通过自身（即对置基板11）或者有源基板12被按压，从而与配设于有源基板12的开关电极52电导通；以及反射膜38，配设于开关PS电极51的下方，对红外光进行反射。
由此，对于对置基板11，在与有源基板12对置配置时，配设于有源基板12的开关电极52与开关PS电极51成为一对，构成触摸开关50。而且，通过对置基板11或者有源基板12被按压，从而触摸开关50电导通，因此能使触摸开关50作为感测位置的传感器发挥作用。
进而，根据对置基板11，反射红外光的反射膜38配设于开关PS电极51的下方。由此，能用反射膜38反射在与有源基板12对置配置之前从开关PS电极51的顶端面（表面）51a侧入射的红外光。因此，能通过使测定装置等测定在反射膜38的反射光的频谱，从而能够对成为在与配设于有源基板12的开关电极52取得电导通时产生不良的原因的取向膜21的残渣是否存在于开关PS电极51的顶端面（表面）51a进行检查。
由此，与利用显微镜通过检查者进行目视确认来进行检查的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为触摸开关50中产生不良的原因的结构。
此外，对置基板11具备取向膜21，该取向膜21是将开关PS电极51的顶端面51a作为选择性地不形成取向膜21的取向膜的非形成区域而形成的。而且，在俯视对置基板11时，在取向膜21的非形成区域内配设有反射膜38。
由此，由于在俯视对置基板11时，在取向膜21的非形成区域（即开关PS电极51的顶端面51a）内配设有反射膜38，所以当使红外光射出到取向膜21的非形成区域内时，能用反射膜38反射该红外光。
因此，能通过使测定装置等测定来自反射膜38的反射光的频谱，从而能检查在取向膜21的非形成区域内是否存在作为取向膜21的残渣的PI残渣。由此，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地检查有无成为触摸开关50中产生不良的原因的开关PS电极51的顶端面51a的PI残渣。
此外，对置基板11的开关PS电极51由透明电极27和层叠了透明电极27的凸形状的开关PS（结构物）58构成。
即，由于开关PS电极51由构成为凸形状的开关PS58和层叠于开关PS58的透明电极27构成，所以开关PS电极51也成为凸形状。因此，在与有源基板12对置配置时，在对置基板（自身）11或者有源基板12的任一个被按压时，能可靠地在开关PS电极51与配设于有源基板12的开关电极52之间进行电导通。
（有源基板的制造方法）
接着，使用图10的（a）～（e），对有源基板12的制造方法进行说明。
图10的（a）～（e）是说明有源基板12的制造方法的图。
如图10的（a）所示那样，例如，利用溅射法，在玻璃基板35的表面形成栅极电极55。此外，在与该栅极电极55的形成工序相同的工序中，在玻璃基板35的表面还形成检测用布线43、栅极布线13以及构成像素5驱动用的TFT16的栅极电极17。
然后，例如，利用溅射法，以覆盖栅极电极55的方式，在玻璃基板35的表面形成栅极绝缘膜36。
然后，例如，利用溅射法等，在栅极绝缘膜36的表面，以覆盖栅极电极55的方式形成半导体层57。在与该半导体层57相同的工序中，还形成构成TFT16的半导体层34。
然后，例如，利用溅射法等，以覆盖半导体层57的一部分的方式，在栅极绝缘膜36上形成源极电极56。此外，在与该源极电极56的形成工序相同的工序中，还形成源极布线14、源极电极18以及漏极电极19。
接着，如图10的（b）所示那样，例如，利用溅射法，在栅极绝缘膜36的表面形成规定图案的反射膜39（反射膜形成工序）。
在此，在利用与源极电极56或者半导体层57等相同的金属材料形成反射膜39的情况下，也可以利用与上述的源极电极56或者半导体层57的形成工序相同的工序，一并形成反射膜39。
接着，如图10的（c）所示那样，形成规定图案的层间绝缘膜37。例如利用CVD法、旋涂法，对层间绝缘膜37进行构图，除去在形成开关电极52的区域形成的层间绝缘膜37。由此，反射膜39露出。
而且，接着，虽然未图示，但在层间绝缘膜37中形成有用于连接TFT16的漏极电极19和像素电极15的接触孔23。
接着，如图10的（d）所示那样，形成像素电极15以及开关电极52（开关电极形成工序）。
例如，利用溅射法，将ITO构图为规定图案。由此，在层间绝缘膜37的表面形成像素电极15，在作为使反射膜39露出并除去了层间绝缘膜37的区域的开关电极52的形成区域以覆盖反射膜39的方式形成开关电极52。
接着，如图10的（e）所示那样，在像素电极15以及层间绝缘膜37的表面形成取向膜32（取向膜形成工序）。
通过覆盖像素电极15，在层间绝缘膜37的表面，涂敷构成取向膜32的聚酰亚胺溶液，对其进行烧制（烘焙），从而使其固化。
接着，除去在开关电极52上成膜的聚酰亚胺（PI除去工序）。除去该开关电极52的表面的聚酰亚胺的方法如使用图8的（a）～（c）进行说明的那样，可以通过进行灰化处理来除去，也可以使用其他公知的技术。
像这样，能使开关电极52的表面52a成为作为选择性地不形成取向膜32的区域的取向膜32的非形成区域。
由此，形成有源基板12。
接着，经过后面叙述的开关电极检查工序，将完成了的有源基板12和完成了的对置基板11粘合，并在内部注入液晶，由此形成液晶层10，此外，通过在对置基板11以及有源基板12各自的外侧面粘贴偏振片，从而形成液晶显示面板1。
在该液晶显示面板1形成各种驱动电路、布线，此外，通过与背光灯2连接，从而形成液晶显示装置3。
像这样，根据有源基板12的制造方法，具有：反射膜形成工序，形成反射红外光的反射膜39；以及开关电极形成工序，在反射膜形成工序中形成的反射膜39的上方形成开关电极52，其中，该开关电极52与配设于对置基板11的开关PS电极51构成一对触摸开关50，在与对置基板11对置配置时，通过有源基板12或者对置基板11被按压，从而与配设于对置基板11的开关PS电极51电导通。
由此，在上述开关PS电极形成工序中，在上述反射膜形成工序中形成的反射膜39的上方形成开关电极52。因此，能够制造能用反射膜39反射从开关电极52的表面52a侧入射的红外光的有源基板12。
由此，通过测定在反射膜39的反射光的频谱，从而能制造如下这样的有源基板12，即，能够对成为在与配设于对置基板11的开关PS电极51取得电导通时产生不良的原因的取向膜21的残渣（PI残渣）是否存在于开关电极52的表面52a进行检查。
由此，能够制造如下这样的有源基板12，即，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为触摸开关50中产生不良的原因的结构。
此外，具有：取向膜形成工序，将在上述开关电极形成工序中形成的开关电极52的表面52a作为选择性地不对取向膜32进行成膜的取向膜32的非形成区域，在取向膜32的非形成区域的周围形成取向膜32。
因此，能将成为在与配设于对置配置的对置基板11的开关PS电极51之间取得电导通时产生不良的原因的取向膜32不形成在开关电极52的表面52a，而形成在有源基板12。由此，能够制造形成有防止了导通不良的产生的开关电极52的有源基板12。
（有源基板12的主要的优点）
接着，说明通过隔着液晶层10与对置基板11对置配置而构成液晶显示面板1的有源基板12的主要的优点。
有源基板12具备：开关电极52，与配设于对置基板11的开关PS电极51构成一对触摸开关50，该开关电极52以如下方式配设，即，在与对置基板11对置配置时，通过自身（即有源基板12）或者对置基板11被按压，从而与配设于对置基板11的开关PS电极51电导通；以及反射膜39，配设于开关电极52的下方，对红外光进行反射。
由此，对于有源基板12，在与对置基板11对置配置时，配设于对置基板11的开关PS电极51与开关电极52成为一对，构成触摸开关50。而且，通过有源基板12或者对置基板11被按压，从而触摸开关50电导通，因此能使触摸开关50作为感测位置的传感器发挥作用。
进而，根据有源基板12，反射红外光的反射膜39配设于开关电极52的下方。由此，能用反射膜39反射在与对置基板11对置配置之前从开关电极52的表面52a侧入射的红外光。因此，通过使测定装置等测定在反射膜39的反射光的频谱，从而能够对成为在与配设于对置基板11的开关PS电极51取得电导通时产生不良的原因的取向膜32的残渣是否存在于开关电极52的表面52a进行检查。
由此，与利用显微镜通过检查者进行目视确认来进行检查的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为触摸开关50中产生不良的原因的结构。
此外，有源基板12具备取向膜32，该取向膜32是将开关电极52的表面52a作为选择性地不形成取向膜32的取向膜32的非形成区域而形成的。在俯视有源基板12时，在取向膜32的非形成区域内配设有反射膜38。
由此，由于在俯视有源基板12时，在取向膜32的非形成区域（即开关电极52的表面52a）内配设有反射膜39，所以当使红外光射出到取向膜32的非形成区域内时，能用反射膜39反射该红外光。
因此，通过使测定装置等测定来自反射膜39的反射光的频谱，从而能检查在取向膜32的非形成区域内是否存在作为取向膜32的残渣的PI残渣。由此，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地检查有无成为触摸开关50中产生不良的原因的开关电极52的表面52a的PI残渣。
（开关PS电极检查工序、开关电极检查工序）
接着，对开关PS电极检查工序、开关电极检查工序进行说明。
该检查工序虽然优选设置于制造对置基板11的生产线和制造有源基板12的生产线这两者，但只要设置于至少一方即可。
以下，说明对置基板11的开关PS电极检查工序。
图11的（a）是表示对在开关用电极有PI的残渣的基板进行检查的样子的图，（b）是说明对在开关用电极没有PI的残渣的基板进行检查的样子的图。
如图11的（a）（b）所示那样，开关用电极检查装置100具备：对光接收到的光进行频谱变化的分光光度计101、控制开关用电极检查装置100的整体的驱动的控制部110、以及显示输入的频谱数据的显示部120。
作为一个例子，分光光度计101使用傅立叶变换红外光分光光度计（FT‐IR）。作为一个例子，傅立叶变换红外光分光光度计能使用赛默飞世尔科技（Thermo Fisher Scientific）株式会社制的Avatar370〔产品名〕等。
在开关用电极检查装置100中，使用以外部的反射膜反射由分光光度计101射出的红外光并对该反射光的强度进行测定的、所谓的FT‐IR反射法。
分光光度计101具备光源102和检测器103。控制部110具备驱动控制部111和数据变换部112。另外，控制部110可以设置在分光光度计101的外部，也可以设置在分光光度计101的内部。
光源102是射出红外光的红外光光源。
检测器103对从光源102射出的红外光中的在外部被反射的反射光进行光接收，将该光接收到的反射光变换为频谱。检测器103将变换后的频谱输出到控制部110的数据变换部112。在本实施方式中，作为检测器103的一个例子，使用MCT（水银‐镉‐碲）。
驱动控制部111对分光光度计101进行驱动条件的设定指示、测定条件的设定指示，或者对显示部120进行驱动条件的设定指示、显示条件的设定指示。
数据变换部112将从检测器103输出的频谱变换为数字数据，并且，为了使显示部120进行显示，变换为设定了纵轴、横轴的频谱数据。然后，将变换后的频谱数据输出到显示部120。
当显示部120被输入从数据变换部112输出来的频谱数据时，该显示部120将该输入的频谱数据显示于显示画面。由此，能使检查者目视确认到测定出的频谱。
在本实施方式中，将测定条件按以下那样进行设定。即，以成为以下的测定条件的方式，从驱动控制部111对分光光度计101以及显示部120进行设定指示。
中红外波长区域：2.5μm～15μm
波数显示：4000cm‑1～650cm‑1
此外，将检测器103的测定条件按以下那样进行设定。
测定时的分辨率：4cm‑1
累计次数：64次
当对置基板11被送来时，从光源102向对置基板11中的作为取向膜21的非形成区域的开关PS电极51的顶端面51a射出红外光（红外光射出工序）。
接着，检测器103对从光源102射出的红外光中的来自反射膜38的反射光进行光接收（取得），其中，该反射膜38在俯视对置基板11时，形成于作为取向膜21的非形成区域的开关PS电极51内，并对红外光进行反射（反射光取得工序）。
进而，检测器103将光接收到的反射光变更为频谱（频谱变换工序）。
接着，数据变换部112对从检测器103输出的频谱进行数字变换，或者为了使显示部120进行显示，而进行纵轴、横轴的设定（频谱变换工序）。而且，数据变换部112将在上述频谱变换工序中进行变换、设定后的频谱输出到显示部120，显示部120显示该频谱。
像这样，显示部120显示检测器103进行光接收（取得）的反射光的频谱（显示工序）。
如图11的（a）所示的对置基板11’那样，假设在开关PS电极51的顶端面51a存在作为取向膜21的残渣的PI21’（即不合格品）。
于是，从光源102射出的红外光按PI21’、透明电极27（ITO）、开关PS58（丙烯酸树脂）的顺序进行透射，被反射膜38反射，按开关PS58、透明电极27、PI21’的顺序进行透射，由检测器103进行光接收。
像这样，当在开关PS电极51的顶端面51a存在作为残渣的PI21’时，从检测器103输出包含丙烯酸树脂和PI的合计成分的频谱。
另外，由于ITO不吸收红外光而是直接透射，所以在从检测器103输出的频谱中未显现峰值。
图12是表示显示于显示部的有PI残渣的情况下的频谱的图。
在有PI残渣的情况下，如图12所示那样，显示包含丙烯酸树脂和PI的合计成分的频谱。
另一方面，如图11的（b）所示的对置基板11那样，在开关PS电极51的顶端面51a没有取向膜21的残渣的情况下（即正常品），从光源102射出的红外光按透明电极27（ITO）、开关PS58（丙烯酸树脂）的顺序进行透射，被反射膜38反射，按开关PS58、透明电极27的顺序进行透射，由检测器103进行光接收。因此，在显示部120，显示仅显现了丙烯酸树脂的成分的频谱。
图13是表示显示于显示部的没有PI残渣的频谱的图。
在没有PI残渣的情况下，如图13所示那样，在显示部120，显示仅显现了表示丙烯酸树脂的成分的频谱。
图14的（a）～（c）是说明由红外吸收决定的分子振动位置的图。
图14的（a）示出包含丙烯酸树脂树脂和PI的合计值的频谱。图14的（b）示出仅显现了表示丙烯酸树脂的成分的频谱。图14的（c）示出仅显现了表示PI的成分的频谱。
利用分子的振动，吸收红外光，由此在检测器103进行光接收的反射光中，在特定的波数区域显现吸收峰值。通过确认该吸收峰值显现于哪个波数，此外还确认其形状，从而确定出红外光所透射过的物质。
使用图14，对根据显示于显示部120的频谱来判定有无PI的残渣的方法进行说明。
如图14（a）所示那样，在表示（i）丙烯酸树脂＋（ii）PI的频谱中，显现出利用红外吸收，产生了由波数为2900～2800cm‑1附近的C‐H伸缩、波数为1700cm‑1附近的C＝O伸缩、波数为1500cm‑1附近的苯环CC伸缩、波数为1380cm‑1附近的C‐N伸缩、波数为1200～1300cm‑1附近的C‐O伸缩、波数为800cm‑1附近的苯环CH面外弯曲（out of plane bending）导致的分子振动。
另一方面，如图14的（b）所示那样，（i）关于丙烯酸树脂，利用红外吸收，产生了由波数为2900～2800cm‑1附近的C‐H伸缩、波数为1700cm‑1附近的C＝O伸缩、波数为1500cm‑1附近的苯环CC伸缩、波数为1200～1300cm‑1附近的C‐O伸缩、波数为800cm‑1附近的苯环CH面外弯曲导致的分子振动。
此外，如图14的（c）所示那样，（ii）关于PI，利用红外吸收，产生了波数为1700cm‑1附近的C＝O伸缩、波数为1500cm‑1附近的苯环CC伸缩、波数为1380cm‑1附近的C‐N伸缩、波数为1200～1300cm‑1附近的C‐O伸缩导致的分子振动。
可知图14的（a）所示的频谱显示了将图14的（b）所示的频谱和图14的（c）所示的频谱进行合计后的成分。
因此，检查者通过确认是否产生了这些C‐H伸缩、C＝O伸缩、苯环CC伸缩、C‐N伸缩、C‐O伸缩、苯环CH面外弯曲的分子振动、即是否产生了分子振动导致的红外吸收，从而能确认有无PI残渣。
如以上那样，通过用FT‐IR反射法来测定来自反射膜38的反射光的每个波数的强度，从而能简单地使检查者确认有无存在作为残渣的PI21’。
因此，无需如使用光学显微镜的情况那样，依赖于检查者目视判定开关PS电极51的顶端面51a有无残渣。因此，能合理且正确地判定开关PS电极51的顶端面51a有无残渣。
关于残渣的有无，可以测定对置基板11中包含的全部开关PS电极51的顶端面51a来进行确认，也可以选出担心产生不良的生产批次中包含的基板中的数点来进行测定以进行确认。
当在测定开关PS电极51的顶端面51a、有源基板12的情况下判定为在开关电极52的表面52a没有PI的残渣时，该基板作为合格品被转移到下一工序，进行粘合。
但是，当在测定开关PS电极51的顶端面51a、有源基板12的情况下判定为在开关电极52的表面52a有PI的残渣时，该基板作为不合格品被转移到上述的PI除去工序，进行PI残渣的除去。而且，之后，将对置基板11和有源基板12粘合。
接着，对检查有源基板12的开关电极52的开关电极检查工序（开关用电极检查工序）进行说明。
在开关电极检查工序中，也能使用上述的开关用电极检查装置100。
在有源基板12的开关电极52中不包含丙烯酸树脂材料，而在反射膜39上直接层叠有由ITO构成的开关电极52。
因此，在开关电极检查工序中，在从来自反射膜39的反射光获得未包含表示丙烯酸树脂的成分的频谱的方面，与开关PS电极检查工序不同。其他是同样的。
当有源基板12被送来时，从光源102向有源基板12中的作为取向膜32的非形成区域的开关电极52的表面52a射出红外光（红外光射出工序）。
接着，检测器103对从光源102射出的红外光中的来自反射膜39的反射光进行光接收（取得），其中，该反射膜39在俯视有源基板12时，形成于作为取向膜32的非形成区域的开关电极52内，并对红外光进行反射（反射光取得工序）。
进而，检测器103将光接收到的反射光变更为频谱（频谱变换工序）。
接着，数据变换部112对从检测器103输出的频谱进行数字变换，或者为了使显示部120显示，而进行纵轴、横轴的设定（频谱变换工序）。而且，数据变换部112将在上述频谱变换工序中进行变换、设定后的频谱输出到显示部120，显示部120显示该频谱。
像这样，显示部120显示检测器103进行光接收（取得）的反射光的频谱（显示工序）。
在开关电极52的表面52a存在PI残渣的情况下（即不合格品），作为来自反射膜39的反射光的频谱，检测器103将表示PI的成分的频谱输出到数据变换部112。
然后，数据变换部112使显示部120显示如图14的（c）中所示出的频谱那样的表示PI的成分的频谱。像这样，通过显示部120显示表示PI的成分的频谱，从而能使检查者判定为在开关电极52的表面52a有PI残渣。另外，以后的工序与对置基板11是同样的。
另一方面，在开关电极52的表面52a不存在PI残渣的情况下（即合格品），检测器103将不包含丙烯酸树脂以及PI等的成分的频谱输出到数据变换部112来作为来自反射膜39的反射光的频谱。这样的频谱为图20所示的频谱。
图20是示出表示在开关电极的表面不存在PI残渣的频谱的图。如图20所示那样，在开关电极52为合格品的情况下，由于在开关电极不存在有机物，所以不存在红外吸收的峰值，得到直线状的频谱。
然后，数据变换部112使显示部120显示如图20中所示出的频谱那样的丙烯酸树脂、PI等成分均不被包含并且表示仅透射了ITO的频谱。像这样，通过显示部120显示表示仅透射了ITO的频谱，从而能使检查者判定为在开关电极52的表面52a没有PI残渣。另外，以后的工序与对置基板11是同样的。
如以上那样，具有：红外光射出工序，对开关PS电极51射出红外光，其中，该开关PS电极51与配设于有源基板12（对置基板11）的开关电极52（开关PS电极51）构成一对触摸开关50，在与有源基板12（对置基板11）对置配置时，通过对置基板11或者有源基板12被按压，从而与配设于有源基板12的开关电极52电导通；反射光取得工序，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自反射膜38（反射膜39）的反射光；以及频谱显示工序，显示在上述反射光取得工序中取得的反射光的频谱。
由此，在上述红外光射出工序中将红外光射出到开关PS电极51（开关电极52）内，在上述反射光取得工序中，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自反射膜38（取向膜39）的反射光。然后，在上述频谱显示工序中，将来自反射膜38（反射膜39）的反射光的频谱显示于显示部120。
通过例如使检查者目视确认显示于该显示部120的频谱，从而能确认成为在与配设于有源基板12（对置基板11）的开关电极52取得电导通时产生不良的原因的取向膜21的残渣是否存在于开关PS电极51的顶端面51a。
像这样，根据上述结构，能高效、可靠地确认有无存在成为触摸开关50中产生不良的原因的结构地来制造对置基板11（有源基板12）。
另外，在上述中，假设对在反射光取得工序中得到的来自反射膜38的反射光进行频谱变换，然后，在显示工序中，显示该反射光的频谱，并进行了说明。但是，不限定于此，也可以是，在显示工序中不显示反射光的频谱，用控制部110等解析在反射光取得工序中得到的来自反射膜38的反射光是否包含PI残渣，在显示工序中仅显示作为其解析结果的PI残渣的有无、或是合格品还是不合格品的判定结果。
此外，具有：判定工序，根据在上述反射光取得工序中取得的反射光的频谱，判定开关PS电极51的顶端面51a（开关电极52的表面52a）有无取向膜21（取向膜32）。
由此，能利用上述判定工序，判定开关PS电极51的顶端面51a（开关电极52的表面52a）有无取向膜21（取向膜32）。由此，由于能防止由检查者做出的判定错误，所以能更可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构地来制造对置基板11（有源基板12）。
此外，如上述那样的对置基板11（有源基板12）的检查方法具有：红外光射出工序，对开关PS电极51（开关电极52）射出红外光，其中，该开关PS电极51（开关电极52）与配设于有源基板12（对置基板11）的开关电极52（开关PS电极51）构成一对触摸开关50，在与有源基板12（对置基板11）对置配置时，通过对置基板11或者有源基板12被按压，从而与配设于有源基板12（对置基板11）的开关电极52（开关PS电极51）电导通。
进而，具有：反射光取得工序，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自层叠开关PS电极51（开关电极52）并反射红外光的反射膜38（反射膜39）的反射光；以及频谱显示工序，显示在上述反射光取得工序中取得的反射光的频谱。
像这样，在上述红外光射出工序中，对开关PS电极51（开关电极52）射出红外光，在上述反射光取得工序中，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自层叠开关PS电极51（开关电极52）的反射膜38（反射膜39）的反射光。而且，在上述频谱显示工序中，显示来自反射膜38（反射膜39）的反射光的频谱。
由此，通过例如使检查者目视确认在上述显示工序中显示的上述反射光的频谱，从而能确认成为在与配设于有源基板12（对置基板11）的开关电极52（开关PS电极51）取得电导通时产生不良的原因的取向膜21的残渣（取向膜32的残渣）是否存在于开关PS电极51的顶端面51a（开关电极52的表面52a）。因此，能高效、可靠地检查有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
此外，在上述频谱变换工序中，数据变换部112a对作为进行频谱变换的红外光的波数值为4000cm‑1～650cm‑1的中红外区域的红外光的频谱进行变换，将变换后的频谱输出到显示部120。
由此，能一边抑制为了变换为频谱而取得并变换的频谱的数据量，一边取得为了确认成为在与配设于有源基板12（对置基板11）的开关PS电极51（开关电极52）取得电导通时产生不良的原因的取向膜21（取向膜32）是否存在于开关PS电极51的顶端面51a（开关电极52的表面52a）所需的频谱的数据。
此外，具有判定在由上述频谱变换工序变换后的频谱中是否产生了由C‐H伸缩、C＝O伸缩、苯环CC伸缩、C‐N伸缩、C‐O伸缩、还有苯环CH面外弯曲导致的分子振动的工序。由此，能判定在上述反射光中是否包含表示丙烯酸树脂和聚酰亚胺的成分。
即，为了判定在由上述频谱变换工序变换后的频谱中是否产生了由C‐H伸缩、C＝O伸缩、苯环CC伸缩、C‐N伸缩、C‐O伸缩、还有苯环CH面外弯曲导致的分子振动，而具有将上述频谱显示于显示部120的工序。
因此，检查者通过确认显示有上述频谱的显示部120，从而能判定是否为表示产生了由C‐H伸缩、C＝O伸缩、苯环CC伸缩、C‐N伸缩、C‐O伸缩、还有苯环CH面外弯曲导致的分子振动的频谱。即，检查者能判定在上述反射光中是否包含表示丙烯酸树脂和聚酰亚胺的成分。
由此，能使检查者在层叠于反射膜38的开关PS电极51通过由丙烯酸树脂材料制成的开关PS58和由ITO制成的透明电极27构成的情况下，判定在该开关PS电极51是否层叠有一般用作取向膜21的聚酰亚胺。因此，能高效、可靠地检查有无存在成为触摸开关50中产生不良的原因的取向膜21的残渣。
像这样，通过在形成反射膜38、39之后，利用FT‐IR反射法，测定PI残渣的有无，从而能非常简单且在短时间内判定PI残渣的有无。因此，能防止由检查者的个人差异导致的判断偏差。
此外，由于在对置基板11中在开关PS电极51的下方配设反射膜38，在有源基板12中在开关电极52的下方配设反射膜39，所以能对开关PS电极51以及开关电极52进行FT‐IR反射法测定。因此，由于能对对置基板11、有源基板12在非破坏的情况下测定PI残渣的有无，所以能将开关PS电极检查工序以及开关电极检查工序导入到制造工序内。
像这样，通过将开关PS电极检查工序以及开关电极检查工序导入到制造工序内，从而即使在形成开关PS电极51的工序、形成开关电极52的工序中产生了突发的故障的情况下，也能迅速地进行应对，能实现对形成开关PS电极51的工序、形成开关电极52的工序的紧急的反馈以及故障消除。
其结果是，生产效率提升，能使成品率提高。此外，FT‐IR反射法测定由于测定方法是比较简易的，所以能删去测定所花费的费用、人工费。
因此，总体上能削减进行产品化时的成本。
此外，虽然关于除去构成触摸开关的开关的表面的PI残渣的有无的方法，研究了各种各样的方法，但是能通过在制作除去了PI的研究试制品之后，如上所述使用开关用电极检查装置100（开关用电极检查方法），从而容易确认是否真正除去了PI的残渣，因此，能对技术研究期间的缩短作出贡献。
此外，如上所述，在构成液晶显示面板1的对置基板11配设有反射膜38，在有源基板12配设有反射膜39。
该反射膜38、39是为了确认对置基板11、有源基板12的PI残渣的有无而设置的结构。即，反射膜38、39是为了对置基板11、有源基板12的品质确认用而设置的结构，是不太想让一般用户知道其存在的结构。
但是，一般用户只要不分解液晶显示面板1（模块）并用光学显微镜、SEM确认剖面，就难以注意到反射膜38、39的存在。即使注意到了反射膜38、39的存在，也连推测该反射膜38、39的存在意义都是困难的。
如上所述，通过利用使用开关用电极检查装置100（开关用电极检查方法）来确认PI残渣的有无的方法，从而能将难以被用户识别、此外难以推测其存在意义且为品质确认用的结构即反射膜38、39配设于对置基板11、有源基板12。此外，能在不有损液晶显示面板1的外观品质的情况下将反射膜38、39配设于对置基板11、有源基板12。
〔实施方式2〕
接着，使用图15，对本发明的第二实施方式进行说明。另外，为了说明的方便，对与上述实施方式1中说明的附图具有相同的功能的构件标注相同的附图标记，并省略其说明。
图15是表示配设于第二实施方式的液晶显示面板的触摸开关的结构的剖面图。图16是表示本实施方式的有源基板的开关电极的结构的平面图。
本实施方式的触摸开关（开关）150在配设于有源基板12侧的开关用电极为凸形状的方面，与实施方式1中说明的触摸开关50不同。
液晶显示面板130具备触摸开关150来代替液晶显示面板1的触摸开关50。
触摸开关150具备：开关PS电极51，配设于对置基板11；以及开关电极（配设于其他基板的电极、开关用电极、第一开关用电极）152，配设于有源基板（其他基板、液晶显示面板用基板）131。
在对置基板11中，开关PS电极51的结构与实施方式1相同。
有源基板131具备开关电极（配设于其他基板的电极、开关用电极、第一开关用电极）152来代替有源基板12的开关电极52。开关电极152由柱状突起（结构物）158和透明电极155构成。
开关电极152形成在与实施方式1中说明的开关电极52（参照图3）同样的位置。即，开关电极152与开关电极52同样地，还兼作触摸开关150的位置检测用TFT53的漏极电极。开关电极152是在实施方式1中说明的开关电极52与反射膜39之间配设有柱状突起158的结构。
如图16所示那样，在俯视开关电极152时，在开关电极152的区域内配设有反射膜39。反射膜39与实施方式1同样地，形成为岛状。
柱状突起158配设于反射膜39的表面。如图16所示那样，柱状突起158在俯视有源基板131时配设于反射膜39的区域内。在本实施方式中，对共用的反射膜38配设有3个柱状突起158。
柱状突起158在与层间绝缘膜37相同的工序中形成。即，柱状突起158由与层间绝缘膜37相同的树脂材料形成。
而且，如图15所示那样，以覆盖柱状突起158的方式形成有由ITO构成的透明电极155。该透明电极155在与像素电极15相同的工序中形成。由此，形成开关电极152。构成开关电极152的透明电极155覆盖半导体层57的一部分区域。
而且，在成为与对置基板11的开关PS电极51的顶端面51a对置的面的开关电极152的顶端面152a以外的区域，形成取向膜32。
由于开关电极152为凸形状，所以用于形成取向膜32的聚酰亚胺溶液不能完全追随于开关电极152的凸形状而成膜。因此，该开关电极152的顶端面152a成为选择性地不形成取向膜32的取向膜32的非形成区域。
此外，也可以为了可靠地除去开关电极152的顶端面152a的PI残渣，而如上所述在PI除去工序中，例如，对开关电极152的顶端面152a进行灰化处理等。
此外，如使用图9进行说明的那样，通过使开关电极152的顶端面152a为凸形状的曲面，从而可以进一步做成易弹开PI的形状。
像这样形成的有源基板131和对置基板11隔着液晶层而被粘合，由此完成液晶显示面板130。
像这样，在液晶显示面板130的触摸开关150中，开关PS电极51和开关电极152这两者均为凸形状。由此，通过有源基板131和对置基板11中的任一个被按压，从而能更可靠地使开关PS电极51和开关电极152电导通，因此能防止导通不良等的产生。
另外，配设于共用的反射膜39的开关电极152的个数不限定于3个，可以是2个或4个以上的多个，也可以是1个。
此外，也可以是构成开关电极152的透明电极155经由设置于层间绝缘膜37的接触孔，与检测用TFT53的半导体层57连接。
此外，透明电极155的厚度只要根据需要适当地设定即可，可以如图15所示那样与层间绝缘膜37相同程度，也可以比层间绝缘膜37形成得薄。
〔实施方式3〕
接着，使用图17，对本发明的第三实施方式进行说明。另外，为了说明的方便，对与上述实施方式1、2中说明的附图具有相同的功能的构件标注相同的附图标记，并省略其说明。
图17是表示配设于第三实施方式的液晶显示面板的触摸开关的结构的剖面图。
本实施方式的触摸开关（开关）160在配设于对置基板11侧的开关用电极不是凸形状而是平坦的方面，与实施方式2中说明的触摸开关150不同。
液晶显示面板135具备触摸开关160来代替液晶显示面板130的触摸开关150。
触摸开关160具备：开关用电极（配设于其他基板的电极、第二开关用电极）161，配设于对置基板（液晶显示面板用基板、其他基板）136；以及开关电极（配设于其他基板的电极、开关用电极、第一开关用电极）152，配设于有源基板131。
有源基板131与在实施方式2中说明的相同。另外，在图17中，省略了玻璃基板35与反射膜39之间的栅极绝缘膜36的图示。
对置基板136在反射膜38的背面（与配设有遮光层26M的面相反侧的面）未形成有柱状的突起等，反射膜38的背面被由ITO构成的透明电极27覆盖。
覆盖该反射膜38的背面的透明电极27是开关用电极161。
该开关用电极161的表面（与开关电极152对置的面）161a是选择性地不形成取向膜32的取向膜21的非形成区域。即，开关用电极161的表面161a未形成有取向膜21，而是露出。
通过在取向膜形成工序中，在透明电极27上涂敷聚酰亚胺溶液并进行烧制，从而在将聚酰亚胺膜成膜后，利用PI除去工序，进行灰化处理，由此选择性地除去开关用电极161的表面的聚酰亚胺膜。由此，开关用电极161的表面161a成为选择性地不形成取向膜32的取向膜21的非形成区域。
像这样形成的对置基板136和有源基板131隔着液晶层而被粘合，由此完成液晶显示面板130。
像这样，在液晶显示面板135的触摸开关160中，开关用电极161和开关电极152中的一方的开关电极152为凸形状。由此，通过有源基板131和对置基板136中的任一个被按压，从而能可靠地使开关用电极161和开关电极152电导通，因此能防止导通不良等的产生。
〔实施方式4〕
接着，使用图18，对本发明的第四实施方式进行说明。另外，为了说明的方便，对与上述实施方式1～3中说明的附图具有相同的功能的构件标注相同的附图标记，并省略其说明。
图18是表示本实施方式的开关用电极检查装置100a的结构的图。
开关用电极检查装置100a与开关用电极检查装置100在具备控制部110a的方面不同。
控制部110a在具备数据变换部112a来代替数据变换部112，并且还具备频谱判定部113以及频谱存储部114的方面与控制部110不同。
数据变换部112a对从检测器103输出的频谱进行数字变换，或者为了使显示部120显示，而进行纵轴、横轴的设定。而且，数据变换部112a将变换、设定后的频谱输出到频谱判定部113。
频谱判定部113判定是否在取向膜21的非形成区域的表面包含PI残渣。
频谱判定部113当从数据变换部112a取得频谱时，通过应用搜索计算式，对该取得的频谱进行搜索算法处理，从而计算出与预先在频谱存储部114中存储的有PI残渣的频谱的类似度和与没有PI残渣的频谱的类似度。另外，搜索计算式能使用公知的计算式。
频谱判定部113对该取得的频谱进行搜索算法处理，决定与有PI残渣的频谱的类似度和与没有PI残渣的频谱的类似度的大小关系，由此频谱判定部113判定开关PS电极51的顶端面51a有无取向膜21的残渣、开关电极52的表面52a有无取向膜32的残渣（判定工序）。
频谱判定部113将计算出的与有PI残渣的频谱的类似度和与没有PI残渣的频谱的类似度输出到显示部120。
能利用该与有PI残渣的频谱的类似度和与没有PI残渣的频谱的类似度的大小关系，使检查者确认是否在取向膜21的非形成区域的表面包含PI残渣。
即，频谱判定部113将与有PI残渣的频谱的类似度和与没有PI残渣的频谱的类似度作为是否在取向膜21、32的非形成区域的表面包含PI残渣的判定结果，并输出到显示部120。
此外，频谱判定部113也将根据数据变换部112a取得的频谱、存储于频谱存储部114的有PI残渣的频谱以及没有PI残渣的频谱与上述判定结果一并输出到显示部120。
显示部120显示从频谱判定部113取得的作为上述判定结果的与有PI残渣的频谱的类似度和与没有PI残渣的频谱的类似度、从数据变换部112a取得的频谱（测定的频谱）、有PI残渣的频谱、以及没有PI残渣的频谱。
图19是表示显示于显示部120的、PI残渣的有无的判定结果的图。另外，在图19中，表示了开关PS电极51的顶端面51a的PI残渣的有无的判定结果。
图19的（a）表示测定出的频谱，（b）表示没有PI残渣的频谱，（c）表示有PI残渣的频谱。此外，图19的（b）的频谱中的“命中率（hit ratio）”表示测定出的频谱的与没有PI残渣的频谱的类似度，（c）的频谱中的“命中率”表示测定出的频谱的与有PI残渣的频谱的类似度。
此外，图19的（d）表示图19的（b）（c）所示的判定结果。
如图19的（b）（d）所示那样，测定出的频谱的与没有PI残渣的频谱的“命中率”是98％，如图19的（c）（d）所示那样，测定出的频谱的与有PI残渣的频谱的“命中率”是74％。
根据其结果，能使检查者判断为在测定出的频谱中未包含PI的成分、即测定的对置基板11是合格品。
像这样，通过具有根据在上述反射光取得工序中取得的反射光的频谱来判定开关PS电极51的顶端面51a有无取向膜21的残渣的判定工序，从而能判定开关PS电极51的顶端面51a有无取向膜21的残渣。
由此，由于能防止检查者所做出的判定错误，所以能更可靠地检查有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
本发明不限定于上述的各实施方式，能在权利要求所示的范围内进行各种变更，对于适当组合在不同实施方式中分别公开的技术手段而得到的实施方式，也包含在本发明的技术范围中。
如以上那样，为了解决上述的课题，本发明的液晶显示面板用基板是，一种液晶显示面板用基板，通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，其特征在于，具备：开关用电极，与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，该开关用电极以如下方式配设，即，在与上述其他基板对置配置时，通过自身或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通；以及反射膜，配设于上述开关用电极的下方，对红外光进行反射。
根据上述结构，在与上述其他基板对置配置时，配设于上述其他基板的电极和上述开关用电极成为一对，构成上述开关。而且，通过上述液晶显示面板用基板、或者上述其他基板被按压，从而上述开关电导通，因此能使该开关例如作为感测该导通的位置的传感器发挥作用。
进而，根据上述结构，反射红外光的反射膜配设于上述开关用电极的下方。由此，能用上述反射膜反射在与上述其他基板对置配置之前从上述开关用电极的表面侧入射的红外光。因此，通过测定在上述反射膜的反射光的频谱，从而能检查成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面。
由此，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
此外，优选是，具备：取向膜，该取向膜以如下方式形成，即，将上述开关用电极的表面作为选择性地不形成取向膜的取向膜的非形成区域，在对上述液晶显示面板用基板进行俯视时，在上述取向膜的非形成区域内配设有上述反射膜。
根据上述结构，由于在上述取向膜的非形成区域内配设有上述反射膜，所以当使红外光射出到上述取向膜的非形成区域内时，能用上述反射膜反射该红外光。因此，通过测定来自上述反射膜的反射光的频谱，从而能检查在上述取向膜的非形成区域内是否存在上述取向膜的残渣。由此，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地检查成为开关中产生不良的原因的、开关用电极的表面的取向膜的残渣的有无。
此外，优选是，上述反射膜由金属材料构成。采用上述结构，能构成反射上述红外光的反射膜。
此外，优选是，构成上述反射膜的上述金属材料是与形成于上述液晶显示面板用基板中的有源基板的布线或者电极的任一个相同的材料。采用上述结构，无需为了形成上述反射膜而新准备金属材料，能抑制制造成本上升。
此外，优选是，上述反射膜将钽、钼、钛、铜、铝的任一个作为主要成分。
采用上述结构，能利用与形成于上述液晶显示面板用基板的布线或者电极的任一个相同的金属材料，形成上述反射膜。因此，能防止为了形成上述反射膜而使制造成本上升。
此外，优选是，上述开关用电极具备透明电极。
根据上述结构，能用与将一般形成在作为液晶显示面板用基板的有源基板处的像素电极、或者一般形成在对置基板处的共用电极形成的工序相同的工序，形成上述开关用电极所具备的透明电极。
因此，无需设置仅用于形成上述开关用电极所具备的电极的工序，能防止制造成本上升。
此外，优选是，具备在与上述透明电极相同的工序中形成的像素电极。采用上述结构，能将上述液晶显示面板用基板构成为有源基板。
此外，优选是，具备在与上述透明电极相同的工序中形成的共用电极。采用上述结构，能将上述液晶显示面板用基板构成为对置基板。
此外，优选是，上述开关用电极由上述透明电极和层叠了该透明电极的凸形状的结构物构成。
根据上述结构，由于由构成为凸形状的上述结构物和层叠于该结构物的上述透明电极构成，所以上述开关用电极也成为凸形状。因此，在与上述其他基板对置配置时，在自身或者上述其他基板的任一个被按压时，能可靠地使上述开关用电极与配设于上述其他基板的电极之间电导通。
此外，优选是，上述结构物由丙烯酸树脂构成。根据上述结构，由于上述丙烯酸树脂一般用于液晶显示面板用基板，所以无需为了形成上述结构物而新使用另外的材料，因此能防止制造成本上升。
此外，优选是，本发明的液晶显示面板具备上述所记载的液晶显示面板用基板、以及与该液晶显示面板用基板对置配置的上述其他基板。根据上述结构，能高效、可靠地构成被除去了成为开关中产生不良的原因的结构的液晶显示面板。
为了解决上述的课题，本发明的液晶显示面板是，一种液晶显示面板，具备有源基板和隔着液晶层与该有源基板对置配置的对置基板，其特征在于，具备以通过上述有源基板或者上述对置基板被按压从而电导通的方式由配设于上述有源基板的第一开关用电极和配设于上述对置基板的第二开关用电极构成的开关，还具备配设于上述有源基板并层叠有上述第一开关用电极的反射红外光的第一反射膜和配设于上述对置基板并层叠有上述第二开关用电极的反射红外光的第二反射膜中的至少一方。
根据上述结构，关于上述开关，通过上述有源基板或者对置基板被按压，从而使上述第一开关用电极与上述第二开关用电极电导通。因此，能使上述开关例如作为感测该导通的位置的传感器发挥作用。
进而，根据上述结构，具备配设于上述有源基板并层叠有上述第一开关用电极的反射红外光的第一反射膜和配设于上述对置基板并层叠有上述第二开关用电极的反射红外光的第二反射膜中的至少一方。
因此，能利用上述第一反射膜和第二反射膜中的至少一方来反射在上述有源基板与上述对置基板被对置配置之前从第一开关用电极或者第二开关用电极的表面侧入射的红外光。因此，通过测定在上述第一反射膜和第二反射膜的反射光的频谱，从而能检查成为在上述第一开关用电极与上述第二开关用电极之间取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于第一开关用电极或者第二开关用电极中的至少一方的表面。
由此，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
此外，优选是，具备上述第一反射膜和上述第二反射膜这两者。
根据上述结构，能对第一开关用电极和第二开关用电极这两者的表面均检查是否存在成为在上述第一开关用电极与上述第二开关用电极之间取得电导通时产生不良的原因的结构。
由此，能高效、更可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
此外，优选是，上述第一开关用电极和上述第二开关用电极中的至少一方为凸形状。采用上述结构，通过上述有源基板和对置基板中的任一个被按压，从而能构成电导通的开关。
此外，优选是，上述第一开关用电极和上述第二开关用电极为凸形状。采用上述结构，通过上述有源基板和对置基板中的任一个被按压，从而能更可靠地使第一开关用电极和第二开关用电极电导通，因此能防止导通不良等的产生。
为了解决上述的课题，本发明的液晶显示面板用基板的制造方法是，一种液晶显示面板用基板的制造方法，该液晶显示面板用基板通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，该制造方法的特征在于，具有：反射膜形成工序，形成反射红外光的反射膜；以及开关用电极形成工序，在上述反射膜形成工序中形成的反射膜的上方形成开关用电极，其中，该开关用电极与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，在与上述其他基板对置配置时，通过上述液晶显示面板用基板或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通。
根据上述结构，在上述开关用电极形成工序中，在上述反射膜形成工序中形成的反射红外光的上述反射膜的上方形成上述开关用电极。由此，能够制造能用上述反射膜来反射从上述开关用电极的表面侧入射的红外光的液晶显示面板用基板。
由此，通过测定在上述反射膜的反射光的频谱，从而能够制造如下这样的液晶显示面板用基板，即，能够对成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面。
由此，能够制造如下这样的液晶显示面板用基板，即，与利用显微镜进行目视确认的情况相比，能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
此外，优选是，具有：取向膜形成工序，将在上述开关用电极形成工序中形成的开关用电极的表面作为选择性地不对取向膜进行成膜的取向膜的非形成区域，在该取向膜的非形成区域的周围形成取向膜。
根据上述结构，能将成为在与配设于对置配置的其他基板的电极之间取得电导通时产生不良的原因的取向膜不形成在上述开关用电极的表面，而形成在液晶显示面板用基板。由此，能制造形成有防止了导通不良的产生的开关用电极的液晶显示面板用基板。
此外，优选是，具有：红外光射出工序，对上述取向膜的非形成区域射出红外光；反射光取得工序，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自上述反射膜的反射光；以及频谱显示工序，显示在上述反射光取得工序中取得的反射光的频谱。
根据上述结构，在上述红外光射出工序中对上述取向膜的非形成区域射出红外光，在上述反射光取得工序中，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自上述反射膜的反射光。而且，在上述频谱显示工序中，显示来自上述反射膜的反射光的频谱。通过例如使检查者目视确认该频谱，从而能确认成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面。
像这样，根据上述结构，能高效、可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构地来制造液晶显示面板用基板。
此外，优选是，具有：判定工序，根据在上述反射光取得工序中取得的反射光的频谱，判定上述开关用电极的表面的取向膜的有无。
采用上述结构，能利用上述判定工序来判定上述取向膜的有无。由此，由于能防止由检查者做出的判定错误，所以能更可靠地确认有无存在成为开关中产生不良的原因的结构地来制造液晶显示面板用基板。
为了解决上述的课题，本发明的液晶显示面板用基板的基板检查方法是，一种基板检查方法，对液晶显示面板用基板进行检查，该液晶显示面板用基板通过隔着液晶层与其他基板对置配置，从而构成液晶显示面板，该基板检查方法的特征在于，具有：红外光射出工序，对开关用电极射出红外光，其中，该开关用电极与配设于上述其他基板的电极构成一对开关，在与上述其他基板对置配置时，通过上述液晶显示面板用基板或者上述其他基板被按压，从而与配设于上述其他基板的电极电导通；以及反射光取得工序，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自反射膜的反射光，其中，该反射膜在对上述液晶显示面板用基板进行俯视时形成于上述开关用电极内并对红外光进行反射。
根据上述结构，在上述红外光射出工序中，对上述开关用电极射出红外光，在上述反射光取得工序中，取得在上述红外光射出工序中射出的红外光中的来自层叠上述开关用电极的上述反射膜的反射光。由此，能根据该取得的反射光，判定成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面。
因此，根据上述结构，能高效、可靠地检查有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
此外，优选是，具有：频谱显示工序，显示在上述反射光取得工序中取得的反射光的频谱。
由此，通过例如使检查者目视确认在上述显示工序中显示的上述反射光的频谱，从而能确认成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面。
此外，优选是，具有：判定工序，根据在上述反射光取得工序中取得的反射光的频谱，判定上述开关用电极的表面的取向膜的有无。
采用上述结构，能利用上述判定工序，判定上述开关用电极的表面的取向膜的有无。由此，由于能防止由检查者做出的判定错误，所以能更可靠地检查有无存在成为开关中产生不良的原因的结构。
此外，优选是，具有：频谱变换工序，将在上述反射光取得工序中取得的反射光变更为频谱。采用上述结构，能在上述频谱变换工序中将上述反射光变换为频谱。
此外，优选是，在上述频谱变换工序中，进行频谱变换的红外光是波数值为4000cm‑1～650cm‑1的中红外区域。采用上述结构，能一边抑制所取得的数据量，一边取得为了确认成为在与配设于上述其他基板的上述电极取得电导通时产生不良的原因的结构是否存在于上述开关用电极的表面所需的频谱的数据。
此外，优选是，具有下述工序：判定在上述频谱变换工序中进行变换后的频谱中是否产生了由C‐H伸缩、C＝O伸缩、苯环CC伸缩、C‐N伸缩、C‐O伸缩、还有苯环CH面外弯曲导致的分子振动。
根据上述结构，通过例如使检查者判定是否为表示产生了由C‐H伸缩、C＝O伸缩、苯环CC伸缩、C‐N伸缩、C‐O伸缩、还有苯环CH面外弯曲导致的分子振动的频谱，从而能判定在上述反射光中是否包含表示丙烯酸树脂和聚酰亚胺的成分。
由此，在层叠于反射膜的开关用电极通过由丙烯酸树脂材料制成的结构和由ITO制成的结构来构成的情况下，能判定在该开关用电极是否层叠有一般用作取向膜的聚酰亚胺。因此，能高效、可靠地检查有无存在成为开关中产生不良的原因的取向膜。
产业上的可利用性
本发明能在构成触摸开关配设于内部的内嵌型的液晶显示面板的液晶显示面板用基板、液晶显示面板、液晶显示面板用基板的制造方法、以及基板检查方法中加以利用。
附图标记的说明：
1、130、135 液晶显示面板；
3 液晶显示装置；
5 像素；
10 液晶层；
11、136 对置基板（液晶显示面板用基板、其他基板）；
12、131 有源基板（其他基板、液晶显示面板用基板）；
15 像素电极（电极）；
16 TFT；
21、32 取向膜；
27、155 透明电极（电极、共用电极）；
37 层间绝缘膜；
38 反射膜（第二反射膜）；
39 反射膜（第一反射膜）；
50、150、160 触摸开关（开关）；
51、61 开关PS电极（开关用电极、配设于其他基板的电极、第二开关用电极）；
51a、61a、152a 顶端面（取向膜的非形成区域）；
52、152 开关电极（配设于其他基板的电极、开关用电极、第一开关用电极）；
52a 表面（取向膜的非形成区域）；
58 开关PS（结构物）；
100、100a 开关用电极检查装置；
101 分光光度计；
102 光源；
103 检测器；
110、110a 控制部；
111 驱动控制部；
112、112a 数据变换部；
113 频谱判定部；
114 频谱存储部；
120 显示部；
158 柱状突起（结构物）；
161 开关用电极（开关用电极、配设于其他基板的电极、第二开关用电极）；
161a 表面（取向膜的非形成区域）。