阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术.pdf

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摘要
申请专利号:

CN03132056.2

申请日:

2003.07.18

公开号:

CN1568983A

公开日:

2005.01.26

当前法律状态:

驳回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的驳回|||实质审查的生效|||公开

IPC分类号:

A61K31/43; A61K9/48; A61P31/04

主分类号:

A61K31/43; A61K9/48; A61P31/04

申请人:

南京长澳医药科技有限公司;

发明人:

李战; 陈静; 黄海燕; 晁阳

地址:

210007江苏省南京市秦淮区大校场路30号

优先权:

专利代理机构:

南京天翼专利代理有限责任公司

代理人:

汤志武

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内容摘要

本发明涉及一种阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,从(1)原料来源、(2)制剂处方、(3)生产环境、(4)生产设备、(5)制备过程和(6)质量控制,这六个方面建立标准化操作程序来控制的高分子聚合物杂质含量。本技术方案从物料和生产的六个方面着手,严格控制每一步程序,避免在生产和贮藏过程中引入或减少高分子聚合物的产生,并保证成品的高分子聚合物含量在货架期内稳定在1‰以下。

权利要求书

1: 一种阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,其特征是从(1)原料来 源、(2)制剂处方、(3)生产环境、(4)生产设备、(5)制备过程和(6)质量控制这六个方面建立标 准化操作程序来控制的高分子聚合物杂质含量。
2: 根据权利要求1所述的阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,其 特征是三水合羟氨苄青霉素原料中高分子聚合物的含量不得超过0.5‰,避免直接接触原 料盛装容器;原料于隔离区经检验后入贮存区,在贮藏过程中不得引入高分子聚合物;贮 存区温度控制在25℃左右,相对湿度控制在在75%以下,并保持通风干燥。
3: 根据权利要求1所述的阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,其 特征是使用的辅料应符合BP2000标准,采用一步混合制粒。
4: 根据权利要求1所述的阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,其 特征是生产车间采用独立空气压缩系统,生产区洁净度为10,000级,温度控制在18~26 ℃,相对湿度控制在45~65%。
5: 根据权利要求1所述的阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,其 特征是生产关键设备混粉机、全自动胶囊填充机均为不锈钢材质。
6: 根据权利要求1所述的阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,其 特征是称重、分散、混合、填充、包装5步程序制备过程的每批次总重量恒定,差异不得 过±10%;混合时采用垂直层流工作间,严格控制混合时间及混合速度;胶囊填充过程 中,控制全自动胶囊填充机的剂量调节板高度,专配除尘器吸除胶囊填充过程中可能产生 的粉尘。
7: 根据权利要求1所述的阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,其 特征是\质量检验涵盖所有生产过程,控制称重和分散车间的粉尘,采用三级空气过滤装 置,减少微生物污染;每批次混合结束后,从混合罐的顶部、中间、底部采集样本检测均 一性和差异性;填充过程每30min抽样检测装量差异和均一性。每次测定主药含量在 92.5~107.5%之间,相对差异不得超过5.0%,装量为340mg,差异不得过±3%,水分不得 过14.5%(w/w)。

说明书


阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术

                                  技术领域

    本发明涉及一种阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术。

                                  背景技术

    自1929年青霉素诞生并应用于临床以来,人类便开创了一个化学治疗的新时代。阿莫西林作为全球应用最广泛的抗生素制剂之一,抗菌谱广,口服吸收快,毒副作用低,已成为儿童及成人呼吸道感染、尿路感染等常见感染性疾病的常用药物,临床用量巨大。然而伴随其使用而产生的过敏反应却严重制约了它更好地为人类健康服务,国内外因服用青霉素药品导致过敏反应的病例时有报道,轻则出现皮疹、水疱,重则引发的过敏性休克反应严重地威胁着广大患者的生命安全。

                                  发明内容

    本发明要解决的技术问题是现有阿莫西林胶囊生产工艺中引入的高分子聚合物杂质的含量较高,从而容易引起临床上过敏反应的问题。

    为解决上述问题,本发明采用如下技术方案:

    从(1)原料来源、(2)制剂处方、(3)生产环境、(4)生产设备、(5)制备过程和(6)质量控制这六个方面建立标准化操作程序(stander operation practice)来控制的高分子聚合物杂质含量。

    其原理是:据中国药品生物制品检定所的研究发现,青霉素本身不是过敏源,引起患者过敏的是在生产、合成过程中引入的杂质——青霉噻唑酸等高分子聚合物,并且杂质含量高低和过敏反应发生率呈正比相关。高分子聚合物杂质的来源主要有三个:(1)微生物污染引入;(2)青霉素或其降解产物如青霉酸与其自身蛋白质反应产生青霉噻唑酰酯蛋白质,后者生成青霉噻唑酸;(3)阿莫西林分子中地氨基环与另一分子上的β-内酰胺环发生聚合反应。因此,严格控制杂质含量就可以控制过敏反应发生率。

    (1)原料来源:三水合羟氨苄青霉素原料由稳定制造商供应,按GMP标准进行生产和控制,符合BP2000(英国药典)中各项规定,并且限制高分子聚合物的含量不得超过0.5‰;避免直接接触原料盛装容器,减少原料与环境湿度直接接触,保障原料质量,减少高分子聚合物的形成。原料于隔离区经质检部门检验后,入贮存区。在贮藏过程中不得引入高分子聚合物,贮存区温度控制在25℃左右,相对湿度控制在在75%以下,并保持通风干燥。

    (2)制剂处方稳定。

                  成份          比例          作用

          三水合羟氨苄青霉素    占85%        主药

          硬脂酸镁              5%w/w        润滑剂

          羧甲基淀粉钠          10%w/w       高效崩解剂

          2%PVPK30乙醇溶液     适量          粘合剂

    使用的辅料均符合BP2000标准;采用一步混合制粒,工艺步骤简单,物料直接暴露于空气中的时间短,这样减少在生产和贮存过程中产生高分子聚合物的可能性;

    (3)生产环境:GMP设计车间,独立空气压缩系统。生产区洁净度为10,000级,温度控制在18~26℃,相对湿度控制在45~65%,避免微生物污染和湿度影响;

    (4)生产设备:关键设备为混粉机、全自动胶囊填充机,均为不锈钢材质,易操作、清洁、灭菌、安装,且拆除时死体积小。

    (5)制备过程:包括称重、分散、混合、填充、包装5步程序。每批次总重量恒定,差异不得过±10%,保证工艺参数可控、质量稳定;混合时采用垂直层流工作间,免除粉尘飞扬,严格控制混合时间及混合速度;胶囊填充过程中,控制全自动胶囊填充机的剂量调节板高度,专配除尘器吸除胶囊填充过程中可能产生的粉尘。

    (6)质量控制:质量检验涵盖所有生产过程,从最初的原料采购到终端市场的运输,包括原辅料验核,称重和分散、混合、填充、包装采用的程序内质量控制,成品质检。控制称重和分散车间的粉尘,采用三级空气过滤装置,减少微生物污染;每批次混合结束后,从混合罐的顶部、中间、底部采集样本检测均一性和差异性;填充过程每30min抽样检测装量差异和均一性。每次测定主药含量在92.5~107.5%之间,相对差异不得超过5.0%,装量为340mg,差异不得过±3%。水分不得过14.5%(w/w)。

    本技术方案从物料和生产的六个方面着手,严格控制每一步程序,避免在生产和贮藏过程中引入或减少高分子聚合物的产生,并保证成品的高分子聚合物含量在货架期内稳定在1‰以下。

                              具体实施方式

                               每20000片   实际生产投量

          三水合羟氨苄青霉素     574Kg         600Kg

          硬脂酸镁               34Kg          34Kg

          羧甲基淀粉钠           68Kg          69Kg

          2%PVPK30乙醇溶液      适量          适量

                                               总重703Kg

    连续生产3批,对制粒后、填充过程中、成品后进行抽样检查,结果如下:

    程序         批次          1               2               3

                 含量(%)      100.03          100.20          98.76

    制粒后

                 RSD(%)       0.91            1.45            2.15

                 含量(%)      100.77          99.32           99.82

                 RSD(%)       1.35            1.18            1.41

    填充过程     平均装量(mg)  344.29~347.44  335.95~343.94  342.91~347.61

                 水分(%)      12.378~12.889  12.521~12.716  12.345~12.819

                 溶出度        89.36~101.15   84.72~107.08   85.43~106.68

                 含量(%)      99.94           100.68          100.19

                 RSD(%)       0.61            1.75            0.76

    成品         平均装量(mg)  343.36~347.87  340.24~345.54  342.46~349.02

                 水分(%)      89.36~101.15   87.42~107.08   85.43~106.68

                  溶出度       74.87~102.66   85.86~100.14   82.64~104.55

    高分子杂质测定照高效液相色谱法(中国药典2000版二部附录VD)测定。

    色谱条件

    用Sephadex G-10为填充剂,流动相A为磷酸盐缓冲液(0.1mol/L,pH7.0),流动相B为蒸馏水,检测波长254nm。

    供试品溶液的配制

    取装量差异项下的内容物,精密称取适量(约相当于阿莫西林400mg),置10ml量瓶中,加流动相A超声溶解并稀释至刻度,(必要时以碳酸钠助溶)摇匀,用0.45μm滤膜过滤,取续滤液为供试品溶液。

    对照品溶液的配制

    取阿莫西林对照品约20mg,精密称定,置50ml量瓶中,加流动相B溶解并稀释至刻度,摇匀,再取2.5ml,置另一25ml量瓶中,加流动相B稀释至刻度,摇匀,为对照品溶液。

    系统适应性试验

    1)以流动相A为流动相,流速为1ml/min,用蓝色葡聚糖2000水溶液(1mg/ml)进样50μl,测定色谱柱的理论板数和拖尾因子,理论板数应不低于850,拖尾因子应在0.75-1.5之间。

    2)取对照品溶液,照测定项下方法连续重复进样数次,峰面积值的相对标准差(RSD)应小于2.0%。

    测定法

    以流动相B为流动相,取对照品溶液20μl注入色谱仪,调整检测器灵敏度,使主成分色谱峰的峰高为满量程的20-50%,记录峰面积值;另以流动相A为流动相,取供试品溶液50μl注入色谱仪中,测定,记录与对照品保留时间相同的色谱峰面积值,按下式计算供试品中高分子杂质含量。高分子杂质含量不得过0.1%。

    式中AT、AS分别为供试品和对照品的测定峰面积;CT、CS分别为供试品溶液和对照品溶液的浓度(mg/ml);标示量阿莫西林以mg计,平均装量以mg计。

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本发明涉及一种阿莫西林胶囊生产工艺中高聚物杂质的含量控制技术,从(1)原料来源、(2)制剂处方、(3)生产环境、(4)生产设备、(5)制备过程和(6)质量控制,这六个方面建立标准化操作程序来控制的高分子聚合物杂质含量。本技术方案从物料和生产的六个方面着手,严格控制每一步程序,避免在生产和贮藏过程中引入或减少高分子聚合物的产生,并保证成品的高分子聚合物含量在货架期内稳定在1以下。。

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