彩色滤光片及其制造方法.pdf

本发明涉及一种彩色滤光片，包括玻璃基板、彩色树脂和黑矩阵，所述玻璃基板上设有数个凹坑；所述黑矩阵位于所述玻璃基板上，并且所述黑矩阵与所述凹坑不重叠；所述凹坑内容置有所述彩色树脂。本发明涉及一种彩色滤光片的制造方法，包括：用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑；在没有形成凹坑的区域形成黑矩阵；分别向凹坑内滴入彩色树脂；硬化彩色树脂，形成彩色滤光片。本发明有效克服了现有技术彩色滤光片的制造成本高的缺陷，有效降低了彩色滤光片的成本。

1、  一种彩色滤光片，包括玻璃基板、彩色树脂和黑矩阵，其特征在于：
所述玻璃基板上设有数个凹坑；
所述黑矩阵位于所述玻璃基板上，并且所述黑矩阵与所述凹坑不重叠；
所述凹坑内容置有所述彩色树脂。

2、  根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于所述彩色树脂为：红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂。

3、  根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于：所述凹坑的容积相同。

4、  一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于包括：
在玻璃基板表面形成黑矩阵；
用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻所述玻璃基板，在所述黑矩阵没有覆盖的区域形成用于容置彩色树脂的凹坑；
分别向所述凹坑内滴入彩色树脂；
硬化所述彩色树脂，形成彩色滤光片。

5、  根据权利要求4所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于在玻璃基板表面形成黑矩阵具体为：
在玻璃基板上沉积黑矩阵材料；
通过涂布工艺在沉积有黑矩阵材料的玻璃基板上涂布光刻胶；
在掩模板的遮掩下，通过曝光工艺曝光所述光刻胶；
通过显影工艺去掉被曝光的光刻胶；
通过蚀刻工艺蚀刻所述黑矩阵材料，并形成黑矩阵；
通过去胶工艺去除残余光刻胶。

6、  根据权利要求4所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于分别向所述凹坑内滴入彩色树脂具体为：
分别向所述凹坑内滴入红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂；
硬化所述彩色树脂具体为：
硬化红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂，形成彩色滤光片。

7、  根据权利要求4～6所述的任一彩色滤光片的制造方法，其特征在于用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻所述黑矩阵没有覆盖的玻璃基板表面，在所述黑矩阵没有覆盖的区域形成用于容置彩色树脂的凹坑具体为：用氟化氢蚀刻剂蚀刻玻璃基板，在所述黑矩阵没有覆盖的区域形成用于容置彩色树脂的凹坑。

8、  一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于包括：
用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑；
在没有形成凹坑的区域形成黑矩阵；
分别向所述凹坑内滴入彩色树脂；
硬化所述彩色树脂，形成彩色滤光片。

9、  根据权利要求8所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于形成黑矩阵具体为：
在玻璃基板上沉积黑矩阵材料；
通过涂布工艺在沉积有黑矩阵材料的玻璃基板上涂布光刻胶；
在掩模板的遮掩下，通过曝光工艺曝光所述光刻胶；
通过显影工艺去掉被曝光的光刻胶；
通过蚀刻工艺蚀刻所述黑矩阵材料，并形成黑矩阵；
通过去胶工艺去除残余光刻胶。

10、  根据权利要求8或9所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑具体为：用氟化氢蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑。

彩色滤光片及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种液晶显示面板及其制造方法，特别涉及一种彩色滤光片及其制造方法。
背景技术
液晶显示装置(Liquid Crystal Display，以下简称为LCD)是一种主要的平面显示装置，主要包括阵列基板、彩色滤光片和背光源，彩色滤光片主要包括红色、绿色、蓝色树脂和黑矩阵(Black Matrix，以下简称BM)。
现有技术制造彩色滤光片时一般采用滴入树脂法(Ink Jet)，该方法具体步骤为：在玻璃基板表面用黑矩阵形成凹坑；采用四氟化碳(CF4)等离子处理玻璃基板，以提高玻璃基板的亲水性；采用滴入树脂法向凹坑分别滴入红色、绿色、蓝色树脂；通过硬化工艺硬化红色、绿色、蓝色树脂。
上述方法存在如下缺陷：由于现有的玻璃基板亲水性比较差，因此需要采用四氟化碳(CF4)等离子处理玻璃基板，以提高玻璃基板的亲水性，然后采用滴入树脂法滴入彩色树脂。这样会导致增加彩色滤光片制造成本的缺陷。
发明内容
本发明的目的是提供一种彩色滤光片及其制造方法，通过用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成凹坑的同时提高玻璃基板的亲水性，克服现有技术中彩色滤光片制造成本高的缺陷。
为实现上述目的，本发明提供了一种彩色滤光片，包括玻璃基板、彩色树脂和黑矩阵，玻璃基板上设有数个凹坑；黑矩阵位于玻璃基板上，并且黑矩阵与凹坑不重叠；凹坑内容置有彩色树脂。
其中，彩色树脂为：红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂。
其中，凹坑的容积相同。
为实现上述目的，本发明还提供了一种彩色滤光片的制造方法，包括：在玻璃基板表面形成黑矩阵；用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，在黑矩阵没有覆盖的区域形成用于容置彩色树脂的凹坑；分别向凹坑内滴入彩色树脂；硬化彩色树脂，形成彩色滤光片。
其中在玻璃基板表面形成黑矩阵具体为：在玻璃基板上沉积黑矩阵材料；通过涂布工艺在沉积有黑矩阵材料的玻璃基板上涂布光刻胶；在掩模板的遮掩下，通过曝光工艺曝光光刻胶；通过显影工艺去掉被曝光的光刻胶；通过蚀刻工艺蚀刻黑矩阵材料，并形成黑矩阵；通过去胶工艺去除残余光刻胶。
其中，分别向凹坑内滴入彩色树脂具体为：分别向凹坑内滴入红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂；硬化彩色树脂具体为：硬化红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂，形成彩色滤光片。
其中，用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻黑矩阵没有覆盖的玻璃基板表面，在黑矩阵没有覆盖的区域形成用于容置彩色树脂的凹坑具体为：用氟化氢蚀刻剂蚀刻玻璃基板，在黑矩阵没有覆盖的区域形成用于容置彩色树脂的凹坑。
为实现上述目的，本发明还提供了一种彩色滤光片的制造方法，包括：用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑；在没有形成凹坑的区域形成黑矩阵；分别向凹坑内滴入彩色树脂；硬化彩色树脂，形成彩色滤光片。
其中，形成黑矩阵具体为：在玻璃基板上沉积黑矩阵材料；通过涂布工艺在沉积有黑矩阵材料的玻璃基板上涂布光刻胶；在掩模板的遮掩下，通过曝光工艺曝光光刻胶；通过显影工艺去掉被曝光的光刻胶；通过蚀刻工艺蚀刻黑矩阵材料，并形成黑矩阵；通过去胶工艺去除残余光刻胶。
其中，用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑具体为：用氟化氢蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑。
本发明彩色滤光片，通过在玻璃基板上设置用于容置彩色树脂的凹坑的方法，实现了彩色滤光片。
本发明彩色滤光片制造方法，在形成有黑矩阵的玻璃基板上采用用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，以提高玻璃基板亲水性，克服了现有技术形成凹坑之后通过额外的处理步骤提高玻璃基板亲水性的缺陷。
下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
图1为本发明彩色滤光片实施例的基板平面示意图；
图2为本发明图1的A-A截面示意图；
图3为本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例流程图；
图4为本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例中形成黑矩阵的流程图；
图5为本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例流程图；
图6为本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例中形成凹坑的流程图。
附图标记说明
1-玻璃基板；    2-黑矩阵；      3-凹坑；
401-红色树脂；  402-绿色树脂；  403-蓝色树脂。
具体实施方式
本发明彩色滤光片的实施例
图1为本发明彩色滤光片实施例的基板平面示意图，图2为本发明图1的A-A截面示意图。如图1和图2所示，本发明彩色滤光片包括：彩色树脂、黑矩阵2和玻璃基板1，其中玻璃基板1上设有数个用于容置彩色树脂的凹坑3；在玻璃基板1上还设有黑矩阵2，黑矩阵2覆盖着没有凹坑3的玻璃基板1表面，即黑矩阵2和玻璃基板1的凹坑3不重叠，并用于挡住排列异常的液晶分子；在凹坑3内容置有彩色树脂。
本发明彩色滤光片的实施例，通过在玻璃基板上设置用于容置彩色树脂的凹坑的方法，实现了彩色滤光片，若在本实施例中使用与现有技术相同厚度的黑矩阵，则可以相比现有的彩色滤光片容置有更多的彩色树脂，有利于提高彩色树脂的色度，进而提高彩色滤光片的质量；若在本实施例中使用与现有技术相同容积的彩色树脂，则可以相应减少黑矩阵的厚度，进而有利于降低液晶显示装置的厚度。
在本实施例彩色滤光片中，彩色树脂可以为红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂，进一步的还可以根据显示颜色的具体需要使用其它颜色的彩色树脂。
在本实施例彩色滤光片中，每个凹坑的深度h相等、宽度d相等，这样每个凹坑的容积相同，从而在每个凹坑容置相同量的彩色树脂。在实际生产中可以根据具体需要，改变凹坑深度h和宽度d来调整容置在凹坑的彩色树脂的量。
本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例
图3为本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例流程图，该方法具体步骤如下：
步骤101、在干净的玻璃基板表面，形成用于挡住排列异常的液晶分子的黑矩阵，使得黑矩阵可以防止这些液晶分子直接折射出背光源的光线；
步骤102、用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻所述黑矩阵没有覆盖的玻璃基板表面，形成用于容置彩色树脂的凹坑，其中用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂与黑矩阵不发生反应；
步骤103、在玻璃基板表面形成凹坑之后，分别向所述凹坑内滴入彩色树脂；
步骤104、硬化已滴入所述凹坑内的彩色树脂，形成彩色滤光片。
本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例，在形成有黑矩阵的玻璃基板上采用用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻玻璃基板，以提高玻璃基板亲水性，克服了现有技术形成凹坑之后，通过额外的处理步骤提高玻璃基板亲水性的缺陷，并且本实施例彩色滤光片制造方法，若形成与现有技术相同厚度的黑矩阵，则可以相对增加彩色树脂的容量；若在凹坑内容置有与现有技术相同容积的彩色树脂，则可以相对减少黑矩阵的厚度，从而有利于降低液晶显示装置的厚度。
在本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例中，形成黑矩阵的步骤，如图4所示，为本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例中形成黑矩阵的流程图，形成黑矩阵的方法具体包括如下：
步骤1011、在干净的玻璃基板上沉积厚度均匀的黑矩阵材料；
步骤1012、通过涂布工艺在沉积有黑矩阵材料的玻璃基板上均匀地涂布光刻胶；
步骤1013、在具有设定图案的掩模板的遮掩下，通过曝光工艺曝光所述光刻胶，使得与所述设定图案对应的光刻胶未被曝光，其余的光刻胶被曝光；
步骤1014、通过显影工艺去掉被曝光的光刻胶，使得与所述设定图案对应的黑矩阵材料被所述光刻胶覆盖，其余的黑矩阵材料被露出；
步骤1015、通过蚀刻工艺蚀刻露出的所述黑矩阵材料，并形成与所述设定图案相同的黑矩阵；
步骤1016、通过去胶工艺去除残余光刻胶，即去除未被曝光的光刻胶，使得与有设定图案相同的黑矩阵露出，其中去胶工艺可以是剥离工艺、或者是灰化工艺等。
上述实施例，通过简单的工艺步骤形成了具有设定图案的黑矩阵。
在上述实施例中，在玻璃基板上沉积黑矩阵材料可以为：在玻璃基板上沉积铬。
进一步地，在本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例中，分别向凹坑内滴入彩色树脂可以为：分别向所述凹坑内滴入红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂；相应地，硬化彩色树脂可以为：硬化所述红色树脂、绿色树脂或蓝色树脂，并形成彩色滤光片。
进一步地，在本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例中，用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂蚀刻所述黑矩阵没有覆盖的玻璃基板表面，形成用于容置彩色树脂的凹坑可以为：用氟化氢(HF)蚀刻剂蚀刻玻璃基板，形成用于容置彩色树脂的凹坑。
本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例
图5为本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例流程图，该方法具体步骤如下：
步骤201、在玻璃基板表面，用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂，形成用于容置彩色树脂的凹坑；
步骤202、在玻璃基板表面，没有形成凹坑的区域形成黑矩阵，使得所述黑矩阵位于所述凹坑之间，并挡住排列异常的液晶分子；
步骤203、分别向所述凹坑内滴入彩色树脂；
步骤204、硬化所述彩色树脂，形成彩色滤光片。
本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例，通过用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂先形成凹坑的方法，克服了现有技术通过额外的处理步骤提高玻璃基板亲水性的缺陷。
在本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例中，用于提高玻璃基板亲水性的蚀刻剂为氟化氢。
在本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例中，形成凹坑的方法如图6所示，为本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例中形成凹坑的流程图，该方法具体包括如下：
步骤2011、在干净的玻璃基板表面，均匀地涂布光刻胶；
步骤2012、在具有设定图案的掩模板的遮掩下，通过曝光工艺，曝光所述光刻胶，使得与所述设定图案对应的光刻胶未被曝光，其余的光刻胶被曝光；
步骤2013、通过显影工艺去掉被曝光的光刻胶，使得与所述设定图案对应的玻璃基板表面被所述光刻胶覆盖，其余的玻璃基板表面被露出；
步骤2014、通过蚀刻工艺蚀刻露出的所述玻璃基板表面，并形成与所述设定图案相应的凹坑；
步骤2015、通过去胶工艺去除残余光刻胶，其中去胶工艺可以为剥离工艺，或者可以为灰化工艺。
在本发明彩色滤光片制造方法的第二实施例中，形成黑矩阵的方法与在本发明彩色滤光片制造方法的第一实施例中形成黑矩阵的方法相似，在具体实现过程中，可以用形成凹坑时使用过的掩模板相同的掩模板进行形成黑矩阵的步骤，或者可以用形成凹坑时使用过的掩模板相应的掩模板进行形成黑矩阵的步骤，即形成凹坑时使用的掩模板的透射区对应形成黑矩阵时使用的掩模板的非透射区、形成凹坑时使用的掩模板的非透射区对应形成黑矩阵时使用的掩模板的透射区。若用形成凹坑时使用过的掩模板相同的掩模板进行形成黑矩阵时，显影过程中被去掉的光刻胶为未被曝光的光刻胶。具体为：在玻璃基板上沉积黑矩阵材料，如铬等材料；通过涂布工艺在沉积有黑矩阵材料的玻璃基板上涂布光刻胶；在掩模板的遮掩下，通过曝光工艺曝光所述光刻胶；通过显影工艺去掉被曝光的光刻胶；通过蚀刻工艺蚀刻所述黑矩阵材料，并形成黑矩阵；通过去胶工艺去除残余光刻胶。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。