透明导电膜的积体层.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200910171024.2

申请日:

2009.08.28

公开号:

CN101996698A

公开日:

2011.03.30

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):H01B 5/14申请公布日:20110330|||实质审查的生效IPC(主分类):H01B 5/14申请日:20090828|||公开

IPC分类号:

H01B5/14; B32B9/04; C04B35/597

主分类号:

H01B5/14

申请人:

嘉威光电股份有限公司; 麦建进

发明人:

麦建进; 王湧锋; 尹瑞堂; 王剀弘

地址:

中国台湾高雄市

优先权:

专利代理机构:

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人:

邬少俊;王英

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内容摘要

本发明涉及一种透明导电膜的积体层,该透明导电膜具有透明基材,基材表面有多个积层所成的积层体,并在积层体中导电层的底下还设置氮氧化硅所成的底层涂布层,使本发明透明导电膜在可见光区域呈透明且颜色座标的b*值表现在-10≤b*≤2.5之间,同时并可降低对光源的反射率。

权利要求书

1: 一种透明导电膜的积体层, 所述积体层设置在基材的表面, 其中, 积体层中具有由氮 氧化硅 (SiOxNy) 为主的材料所成的底层涂布层, 所述底层涂布层设置在积体层中的导电层 底下。
2: 如权利要求 1 所述的透明导电膜的积体层, 其中, 底层涂布层的下方衔接着基材。
3: 如权利要求 1 所述的透明导电膜的积体层, 其中, 底层涂布层的下方可设立有积体 层中的硬质涂层、 接着处理层后再衔接着基材。
4: 如权利要求 1 所述的透明导电膜的积体层, 其中, 底层涂布层中氮与氧优选的成分 比例为 2x( 氧 )+3y( 氮 ) = 4, 且氧的 x 则介于 0 ≤至≤ 2 之间, 氮的 y 则介于 0 <至≤ 4/3 之间。

说明书


透明导电膜的积体层

    技术领域 本发明涉及一种透明导电膜的积体层, 尤指应用于电阻与电容式触控面板的透明 导电膜, 使其在光源通过该透明导电膜后, 可达成其显示时色泽的改善及降低对光源的反 射率。
     背景技术
     公知的透明导电膜早期为在玻璃上形成氧化铟锡, 而成为所谓的导电性玻璃, 但 玻璃材质的可挠性、 加工性较差, 且耐冲击及轻质化表现亦不佳。 故现在透明导电膜已渐由 以聚乙烯对苯二甲酸酯 (Polyethylene Terephthalate, PET) 为主的各种塑胶所取代。
     因该透明导电膜常应用于电阻与电容式触控面板 (Touch panel), 故实际应用时 进一步要考虑到透明度、 弯折性、 耐刮性, 以及应用环境当中可能产生的高温度和高湿度的 严苛环境条件。
     目前市售的前述透明导电膜结构中, 具有前述塑胶材质的透明基材, 在其基材表 面成有多层的积层体 ;
     如图 1 所示, 透明导电膜 1 具有透明塑胶材质制的基材 11, 在基材 11 表面成有多 层的积层体 12, 该积层体 12 包含有导电层 121、 硬质涂层 122 及接着处理层 123。导电层 121 用以导通电流, 一般选用铟锡氧化物 (Indiun Tin Oxide, ITO) 的材料为主, 并以真空蒸 镀法、 溅镀法、 离子被覆法、 喷雾热分解法、 化学镀覆法、 电镀法或所述这些的组合法形成, 其中则以真空蒸镀法、 溅镀法为优选。硬质涂层 122 则为防止刮伤、 脏污及牛顿环现象的发 生, 其材质可选用硬化树脂类的材料, 又硬质涂层 122 的形成亦有抗眩光 (Anti-Glare) 的 功能。而基材 11 与硬质涂层 122 之间并以接着处理层 123 做为桥接。
     一般而言, 现行电阻与电容式触控面板的导电阻值约在 100Ω/μm 至 600Ω/μm, 所用的透明导电膜 1 中的导电层 121 厚度约从 15nm 至 75nm 之间。于是, 如图 2 所示, 依 * CIE Lad color system 分布图可得知当导电层 121 厚度超出 10nm 之后, 其颜色座标 b 值 就会大于 1, 这意味着穿透过透明导电膜 1 的光源色泽将会明显变化, 而依如图 2 所示, 不难 * 发现常应用的导电层 121 的厚度 (15nm 至 75nm) 其 b 值约在 1-4 之间, 该导电层 121 偏黄 色。另如图 3 所示、 现行流通于市面经成有硬质涂层 122 的基材 11 其颜色座标在 b *值约 介于 0.2-0.9 之间, 因此, 在于整个透明导电膜 1 完成后, 其 b *值表现会大于 2, 亦即光源透 射过该透明导电膜 1 之后, 其色泽会呈现出偏黄色的现象。
     又现行的电阻与电容式触控面板业的厂商对于透明导电膜材料供应商的要求规 格, 一般普遍要求 b *值要在小于 3 之中, 但在一些属较高阶的机种中, 则会要求在其显示器 显示时无不希望色偏差越小越好, 甚至希望显示器显示时能够偏蓝色, 亦即颜色座标 b *值 介于在 -10 ≤ b *≤ 2.5 间的表现, 且此要求趋势已渐成为该项产品追求精进的主要目标之 一。
     再者, 如图 4 所示, 透明导电膜 1 中各积层体 12 的折射率, 就属其中 ITO 导电层 121 最高, 而其折射率差最大的则为 ITO 导电层 121 做电气接触用的接合面 1211, 1212 二面, 而因该 ITO 导电层 121 中的 1211, 1212 二面做为电气接触所用, 以致许多防止光源反射的加 工处理无法在其位置径予实施, 导致对光源严重的反射现象一直存在, 而到目前为止尚无 法有效或得改善。这些缺点正是目前业界亟待克服的课题所在。 发明内容
     本发明涉及一种透明导电膜的积体层, 该透明导电膜具有塑胶材质制的基材 ; 而 如导电层、 硬质涂层、 接着处理层及底层涂布层等多个积层所成的积层体形成在该基材的 表面, 其中, 积层体中的导电层以 ITO 的材料为主, 其厚度约从 15nm 至 75nm 之间, 硬质涂层 则为防止刮伤、 脏污及牛顿环现象的发生, 其材质可选用硬化树脂类的材料, 又硬质涂层的 形成亦有抗眩光 (Anti-Glare) 的功能。而基材与硬质涂层之间并以接着处理层做为桥接。
     其中, 本发明透明导电膜中的底层涂布层乃由氮氧化硅 (SiOxNy) 为主的材料所 成。并调整该底层涂布层中氮氧化硅的氮与硅的成分比例, 使本发明透明导电膜在可见光 * * 区域呈透明且颜色座标的 b 值表现在 -10 ≤ b ≤ 2.5 之间, 同时并可降低对光源的反射 率, 使之达到显示时呈现白色或偏蓝色泽的目的。 附图说明
     图 1 为公知的透明导电膜结构示意图。 图 2 为导电层厚度 / 颜色座标分布图 (CIE Lab color system)。 图 3 为现行市售中经成有硬质涂层的基材的 b *值整理表。 图 4 为透明导电膜各积层体的光源折射率表现示意图。 图 5 为本发明透明导电膜结构示意图。 图 6 为本发明透明导电膜结构另一实际例示意图。 图 7 为可见光的 RGB 色度系统的色匹配函数示意图。 图 8 为氮氧化硅 UV-visible 穿透光谱。 图 9 为氮氧化硅不同氮氧成分比与折射率的关系图。 图 10 为本发明的底层涂布层与界面折射率关系图。 图 11 为图 9 的计算数据对照示意图。具体实施方式
     本发明涉及一种触控面板的透明导电膜, 如图 5 所示, 该透明导电膜 2 具有透明材 质的基材 21, 其表面有多个积层所成的积层体 22。基材 21 的材质并无特别限制, 但以聚乙 烯对苯二甲酸酯 (Polyethylene Terephthalate, PET) 为主的各种塑胶为优选, 其厚度介于 2μm 至 300μm 之间, 而最佳则介于 10μm 至 188μm 之间。积层体 22 中的各积层至少包含 有导电层 221、 硬质涂层 222 及接着处理层 223。导电层 221 用以导通电流, 以 ITO 的材料 为主, 其厚度约从 15nm 至 75nm 之间, 接着处理层 223 介于基材 21 与硬质涂层 222 之间, 用 以令基材 21 与硬质涂层 222 二者桥接所用, 接着处理层 223 以透明性粘着剂为主, 硬质涂 层 222 以硬化树脂类的材料为主如 : 蜜胺树脂、 胺基甲酸酯树脂、 醇酸树脂、 丙烯酸系树脂、 聚硅氧树脂等。其中, 在积层体 22 中的导电层 221 与基材 21 之间设置有底层涂布层 224, 该底层涂布层 224 主要由氮氧化硅 (SiOxNy) 为主的材料所成。又, 如图 6 所示, 为强化透明导电膜 2 的机械强度表现, 该底层涂布层 224 与基材 21 之间亦可再设立如硬质涂层 222、 接 着处理层 223 等其他的积层体 22。
     再请配合图 7 所示, 当可见光源波长约在 380nm 至 760nm 时, 其中的蓝色波长约在 435.8nm 左右 ; 于是, 续请参阅如图 8 所示, 当调整氮氧化硅中的氮与硅的成分比例时, 即可 使由氮氧化硅所成的底层涂布层 224 在蓝色波长约在 435.8nm 左右具有较高的穿透率, 而 * * 形成 b ≤ 0 的蓝色之状, 将有助于透明导电膜 2 整体的颜色座标的 b 值表现在 -10 ≤ b * ≤ 2.5 之间, 使色偏差越小, 亦或是微偏蓝色。
     又, 请参阅图 9 所示, 氮氧化硅中的氮氧成分比对光源的折射表现有着极大的关 系, 故当调整氮氧化硅中的氮氧成分比例时, 即可调变对光源折射状况 ; 换言之, 只要将底 层涂布层 224 中氮氧化硅所成的比例予以调整, 即可使该透明导电膜 2 对光源的折射率 / 反射率获得改变, 且经由实验得知如图 10、 11 所示, 底层涂布层 224 的反射率与折射率二者 所成的关系, 如调变折射率在 1.7 时则能使反射率成 0.62%, 氮氧化硅 (SiOxNy) 优选氮与 氧的成分比例为 2x( 氧 )+3y( 氮 ) = 4, 其中, 氧的 x 介于 0 ≤至≤ 2 之间, 氮的 y 则介于 0 <至≤ 4/3 之间。
     综上所述, 本发明透明导电膜的积体层通过上述的结构, 确实可改善公知的缺点, 已较习用者增进功效, 明显符合具有创造性的要求, 于是依法提出发明的申请, 祈请贵审查 委员的详鉴, 惠赐为准予专利的审定, 至感德便。

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资源描述

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1、10申请公布号CN101996698A43申请公布日20110330CN101996698ACN101996698A21申请号200910171024222申请日20090828H01B5/14200601B32B9/04200601C04B35/59720060171申请人嘉威光电股份有限公司地址中国台湾高雄市申请人麦建进72发明人麦建进王湧锋尹瑞堂王剀弘74专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人邬少俊王英54发明名称透明导电膜的积体层57摘要本发明涉及一种透明导电膜的积体层,该透明导电膜具有透明基材,基材表面有多个积层所成的积层体,并在积层体中导电层的底下还设置氮氧化硅所成的。

2、底层涂布层,使本发明透明导电膜在可见光区域呈透明且颜色座标的B值表现在10B25之间,同时并可降低对光源的反射率。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页附图7页CN101996703A1/1页21一种透明导电膜的积体层,所述积体层设置在基材的表面,其中,积体层中具有由氮氧化硅SIOXNY为主的材料所成的底层涂布层,所述底层涂布层设置在积体层中的导电层底下。2如权利要求1所述的透明导电膜的积体层,其中,底层涂布层的下方衔接着基材。3如权利要求1所述的透明导电膜的积体层,其中,底层涂布层的下方可设立有积体层中的硬质涂层、接着处理层后再衔接着基材。4如。

3、权利要求1所述的透明导电膜的积体层,其中,底层涂布层中氮与氧优选的成分比例为2X氧3Y氮4,且氧的X则介于0至2之间,氮的Y则介于0至4/3之间。权利要求书CN101996698ACN101996703A1/3页3透明导电膜的积体层技术领域0001本发明涉及一种透明导电膜的积体层,尤指应用于电阻与电容式触控面板的透明导电膜,使其在光源通过该透明导电膜后,可达成其显示时色泽的改善及降低对光源的反射率。背景技术0002公知的透明导电膜早期为在玻璃上形成氧化铟锡,而成为所谓的导电性玻璃,但玻璃材质的可挠性、加工性较差,且耐冲击及轻质化表现亦不佳。故现在透明导电膜已渐由以聚乙烯对苯二甲酸酯POLYET。

4、HYLENETEREPHTHALATE,PET为主的各种塑胶所取代。0003因该透明导电膜常应用于电阻与电容式触控面板TOUCHPANEL,故实际应用时进一步要考虑到透明度、弯折性、耐刮性,以及应用环境当中可能产生的高温度和高湿度的严苛环境条件。0004目前市售的前述透明导电膜结构中,具有前述塑胶材质的透明基材,在其基材表面成有多层的积层体;0005如图1所示,透明导电膜1具有透明塑胶材质制的基材11,在基材11表面成有多层的积层体12,该积层体12包含有导电层121、硬质涂层122及接着处理层123。导电层121用以导通电流,一般选用铟锡氧化物INDIUNTINOXIDE,ITO的材料为主,。

5、并以真空蒸镀法、溅镀法、离子被覆法、喷雾热分解法、化学镀覆法、电镀法或所述这些的组合法形成,其中则以真空蒸镀法、溅镀法为优选。硬质涂层122则为防止刮伤、脏污及牛顿环现象的发生,其材质可选用硬化树脂类的材料,又硬质涂层122的形成亦有抗眩光ANTIGLARE的功能。而基材11与硬质涂层122之间并以接着处理层123做为桥接。0006一般而言,现行电阻与电容式触控面板的导电阻值约在100/M至600/M,所用的透明导电膜1中的导电层121厚度约从15NM至75NM之间。于是,如图2所示,依CIELADCOLORSYSTEM分布图可得知当导电层121厚度超出10NM之后,其颜色座标B值就会大于1,。

6、这意味着穿透过透明导电膜1的光源色泽将会明显变化,而依如图2所示,不难发现常应用的导电层121的厚度15NM至75NM其B值约在14之间,该导电层121偏黄色。另如图3所示、现行流通于市面经成有硬质涂层122的基材11其颜色座标在B值约介于0209之间,因此,在于整个透明导电膜1完成后,其B值表现会大于2,亦即光源透射过该透明导电膜1之后,其色泽会呈现出偏黄色的现象。0007又现行的电阻与电容式触控面板业的厂商对于透明导电膜材料供应商的要求规格,一般普遍要求B值要在小于3之中,但在一些属较高阶的机种中,则会要求在其显示器显示时无不希望色偏差越小越好,甚至希望显示器显示时能够偏蓝色,亦即颜色座标。

7、B值介于在10B25间的表现,且此要求趋势已渐成为该项产品追求精进的主要目标之一。0008再者,如图4所示,透明导电膜1中各积层体12的折射率,就属其中ITO导电层121最高,而其折射率差最大的则为ITO导电层121做电气接触用的接合面1211,1212二面,而说明书CN101996698ACN101996703A2/3页4因该ITO导电层121中的1211,1212二面做为电气接触所用,以致许多防止光源反射的加工处理无法在其位置径予实施,导致对光源严重的反射现象一直存在,而到目前为止尚无法有效或得改善。这些缺点正是目前业界亟待克服的课题所在。发明内容0009本发明涉及一种透明导电膜的积体层,。

8、该透明导电膜具有塑胶材质制的基材;而如导电层、硬质涂层、接着处理层及底层涂布层等多个积层所成的积层体形成在该基材的表面,其中,积层体中的导电层以ITO的材料为主,其厚度约从15NM至75NM之间,硬质涂层则为防止刮伤、脏污及牛顿环现象的发生,其材质可选用硬化树脂类的材料,又硬质涂层的形成亦有抗眩光ANTIGLARE的功能。而基材与硬质涂层之间并以接着处理层做为桥接。0010其中,本发明透明导电膜中的底层涂布层乃由氮氧化硅SIOXNY为主的材料所成。并调整该底层涂布层中氮氧化硅的氮与硅的成分比例,使本发明透明导电膜在可见光区域呈透明且颜色座标的B值表现在10B25之间,同时并可降低对光源的反射率。

9、,使之达到显示时呈现白色或偏蓝色泽的目的。附图说明0011图1为公知的透明导电膜结构示意图。0012图2为导电层厚度/颜色座标分布图CIELABCOLORSYSTEM。0013图3为现行市售中经成有硬质涂层的基材的B值整理表。0014图4为透明导电膜各积层体的光源折射率表现示意图。0015图5为本发明透明导电膜结构示意图。0016图6为本发明透明导电膜结构另一实际例示意图。0017图7为可见光的RGB色度系统的色匹配函数示意图。0018图8为氮氧化硅UVVISIBLE穿透光谱。0019图9为氮氧化硅不同氮氧成分比与折射率的关系图。0020图10为本发明的底层涂布层与界面折射率关系图。0021图。

10、11为图9的计算数据对照示意图。具体实施方式0022本发明涉及一种触控面板的透明导电膜,如图5所示,该透明导电膜2具有透明材质的基材21,其表面有多个积层所成的积层体22。基材21的材质并无特别限制,但以聚乙烯对苯二甲酸酯POLYETHYLENETEREPHTHALATE,PET为主的各种塑胶为优选,其厚度介于2M至300M之间,而最佳则介于10M至188M之间。积层体22中的各积层至少包含有导电层221、硬质涂层222及接着处理层223。导电层221用以导通电流,以ITO的材料为主,其厚度约从15NM至75NM之间,接着处理层223介于基材21与硬质涂层222之间,用以令基材21与硬质涂层2。

11、22二者桥接所用,接着处理层223以透明性粘着剂为主,硬质涂层222以硬化树脂类的材料为主如蜜胺树脂、胺基甲酸酯树脂、醇酸树脂、丙烯酸系树脂、聚硅氧树脂等。其中,在积层体22中的导电层221与基材21之间设置有底层涂布层224,该底层涂布层224主要由氮氧化硅SIOXNY为主的材料所成。又,如图6所示,为强化透明说明书CN101996698ACN101996703A3/3页5导电膜2的机械强度表现,该底层涂布层224与基材21之间亦可再设立如硬质涂层222、接着处理层223等其他的积层体22。0023再请配合图7所示,当可见光源波长约在380NM至760NM时,其中的蓝色波长约在4358NM左。

12、右;于是,续请参阅如图8所示,当调整氮氧化硅中的氮与硅的成分比例时,即可使由氮氧化硅所成的底层涂布层224在蓝色波长约在4358NM左右具有较高的穿透率,而形成B0的蓝色之状,将有助于透明导电膜2整体的颜色座标的B值表现在10B25之间,使色偏差越小,亦或是微偏蓝色。0024又,请参阅图9所示,氮氧化硅中的氮氧成分比对光源的折射表现有着极大的关系,故当调整氮氧化硅中的氮氧成分比例时,即可调变对光源折射状况;换言之,只要将底层涂布层224中氮氧化硅所成的比例予以调整,即可使该透明导电膜2对光源的折射率/反射率获得改变,且经由实验得知如图10、11所示,底层涂布层224的反射率与折射率二者所成的关。

13、系,如调变折射率在17时则能使反射率成062,氮氧化硅SIOXNY优选氮与氧的成分比例为2X氧3Y氮4,其中,氧的X介于0至2之间,氮的Y则介于0至4/3之间。0025综上所述,本发明透明导电膜的积体层通过上述的结构,确实可改善公知的缺点,已较习用者增进功效,明显符合具有创造性的要求,于是依法提出发明的申请,祈请贵审查委员的详鉴,惠赐为准予专利的审定,至感德便。说明书CN101996698ACN101996703A1/7页6图1图2说明书附图CN101996698ACN101996703A2/7页7图3说明书附图CN101996698ACN101996703A3/7页8图4说明书附图CN101996698ACN101996703A4/7页9图5图6说明书附图CN101996698ACN101996703A5/7页10图7图8说明书附图CN101996698ACN101996703A6/7页11图9说明书附图CN101996698ACN101996703A7/7页12图10图11说明书附图CN101996698A。

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