制作图象显示装置的方法和设备 本发明涉及一种电子发射器件排列成矩阵型式的图象显示装置，特别是制作图象显示装置的方法和设备，此图象显示装置具有一显示面板，在该显示面板上，具有排列成矩阵型式的电子发射器件的后板(RP)和具有荧光物质的前板(FP)分别作为第一图象形成部件和第二图象形成部件而相对排列。
按照常规，电子发射器件大体上分为两种类型，即热电子发射器件和冷阴极电子发射器件。冷阴极电子发射器件包括场致发射型(下文称作FE型)、金属/绝缘层/金属型(下文称作MIM型)、表面传导型电子发射器件以及等等诸如此类的电子发射器件。
至于FE型电子发射器件实例，已经公开的有W.P.Dyke&W.W.Dolan在Advancein Electron Physics(电子物理的发展)，8,89(1956)的“Field Emission(场致发射)”中、C.A.Spindt在J.Appl.Phys.(应用物理期刊)，47,5248(1976)的“Physical Properties of thin-film field emission cathodes withmolybdenum cones(具有钼质锥形头部的薄膜场致发射阴极管的物理特性)”等中披露的电子发射器件。
至于MIM型电子发射器件实例，已经公开的有C.A.Mead在J.Appl.Phys.(应用物理期刊)，32,646(1961)的“Operation of Tunnel-Emission Devices(沟道发射器件的操作)”等中披露的电子发射器件。
至于表面传导型电子发射器件实例，已经公开的有M.I.Elinson在RadioEng.Electron Phys.(无线电工程电子物理)，10,1290(1965)等中披露的电子发射器件。
表面传导型电子发射器件所利用的是这样一种现象，即电流平行于膜表面流过形成于一衬底上的小面积薄膜时产生电子发射。关于表面传导型电子发射器件，有上述Elinson等人所用的SnO2薄膜、有Au薄膜[G.Dittmer:“Thin Solidfilm(薄固态膜)”,9,317(1972)]、有In2O3/SnO2薄膜[M.Hartwell和C.G.Fonstad:“IEEETrans.EDConf.,519(1975)]、有碳薄膜[ArakiHisashi等人：Shinku,26卷，第1期，第22页(1983)]型等。
在用上述电子发射器件来制作图象显示装置时，用于制作显示面板的方法包括以下步骤：制备一个作为RP的电子源衬底，电子发射器件在该电子源衬底上排列成矩阵型式，并制备一个作为FP的、具有受电子束激发而发射光线的荧光物质地荧光物质衬底；通过设置一个隔板而将FP和RP相对设置，提供一个封套和一抗大气压结构，以使电子发射元件和荧光物质位于其内部；用一种低熔点材料如烧结玻璃、铟等作为密封材料来密封内部；当由真空排气管将内部排成真空后，再将事先设置的真空排气管密封上。
根据上述已有技术的制作方法，制成一块显示面板需花相当长的时间，而且不适于制作内部真空度需达1×10-6Pa或更高的显示面板。
此已有技术的缺陷已由日本专利申请公开第11-135018号中所述的方法所解决。
在日本专利申请公开第11-135018号所述的方法中，由于在将FP和RP放置在一个真空室内之后只用一个密封两个衬底的步骤，所以上述其他步骤如烘烤处理、吸气处理、电子束净化处理等制备显示面板所必须的处理步骤需依次在这一个真空室内进行。此外，由于只有在真空状态变为非真空状态时，FP和RP才能在真空室之间移动，所以在将FP和RP输送到每一真空室内时，都要对该真空室进行抽真空。由于存在这些原因，所以制作过程需花很长时间。因此，需要大大降低制作过程时间，同时要求在最后一个制作步骤期间、应在短时间内使显示面板内的真空度达到1×10-6pa或更高。
本发明的一个目的在于：在制作图象显示装置过程中，能够易于降低抽真空时间且易于获得高真空度，从而提高制作效率。
根据本发明的一个方面，一种制作图象显示装置的方法，包括以下步骤：
a：在真空环境下制备第一衬底和第二衬底，第一衬底上设置有荧光激发器，第二衬底上的荧光物质受荧光激发器的激发而发射光线；
b：在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到真空环境的吸气处理室内，并对输送到的一个衬底或输送到的一个或两个衬底进行吸气处理；以及
c：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的密封处理室内，并在衬底相对状态下加热密封衬底。
根据本发明的另一方面，一种制作图象显示装置的方法，包括以下步骤：
a：在真空环境下制备第一衬底和第二衬底，第一衬底上设置有荧光激发器，第二衬底上的荧光物质受荧光激发器的激发而发射光线；
b：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的烘烤处理室内，并在预定温度下对这两个衬底进行烘烤处理；以及
c：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的密封处理室内，并在衬底相对状态下加热密封衬底。
根据本发明的又一方面，一种用于制作图象显示装置的设备包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到其内的第一真空室；
c：安装在第一真空室内的吸气剂供应装置，具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
d：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第二真空室；
e：安装在第二真空室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
f：安装在第二真空室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
根据本发明的又一方面，一种用于制作图象显示装置的设备包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第一真空室；
c：安装在第一真空室内的烘烤装置，通过加热第一和第二衬底对输送到的第一和第二衬底进行烘烤处理；
d：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第二真空室；
e：安装在第二真空室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
f：安装在第二真空室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
图1A，1B和1C是根据本发明一个实例的设备的示意性剖视图；
图2是根据本发明另一实例的设备的示意性平面图；及
图3是根据本发明的设备和方法制作的图象显示装置的剖视图。
首先，本发明是一种制作图象显示装置的方法，其特征在于包括以下步骤：
a：在真空环境下制备第一衬底和第二衬底，第一衬底上设置有荧光激发器，第二衬底上的荧光物质受荧光激发器的激发而发射光线；
b：在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到真空环境的吸气处理室内，并对输送到的一个衬底或输送到的一个或两个衬底进行吸气处理；以及
c：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的密封处理室内，并加热密封呈相对状态的衬底。
其次，本发明是一种制作图象显示装置的方法，其特征在于该方法包括以下步骤：
a：在真空环境下制备第一衬底和第二衬底，第一衬底上设置有荧光激发器，第二衬底上的荧光物质受荧光激发器的激发而发射光线；
b：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的烘烤处理室内，并在预定温度下对这两个衬底进行烘烤处理；以及
c：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的密封处理室内，并加热密封呈相对状态的衬底。
第三，本发明是一种制作图象显示装置的方法，其特征在于包括以下步骤：
a：在真空环境下制备第一衬底和第二衬底。第一衬底上设置有荧光激发器，第二衬底上的荧光物质受荧光激发器的激发而发射光线；
b：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的烘烤处理室内，并在预定温度下对这两个衬底进行烘烤处理；
c：在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到真空环境的吸气处理室内，并对输送到的一个衬底或输送到的一个或两个衬底进行吸气处理；以及
d：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的密封处理室内，并加热密封呈相对状态的衬底。
第四，本发明是一种制作图象显示装置的方法，其特征在于包括以下步骤：
a：在真空环境下制备第一衬底和第二衬底，第一衬底上设置有荧光激发器，第二衬底上的荧光物质受荧光激发器的激发而发射光线；
b：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的烘烤处理室内，并在预定温度下对这两个衬底进行烘烤处理；
c：在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到真空环境的第一吸气处理室内，并对输送到的一个衬底或输送到的一个或两个衬底进行第一吸气处理；
d：在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到真空环境的电子束净化处理室内，并对输送到的一个衬底或输送到的一个或两个村底进行电子束净化处理；
e：在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到真空环境的第二吸气处理室内，并对输送到的一个衬底或输送到的一个或两个衬底进行第二吸气处理；
f：在真空环境下将第一和第二衬底输送到真空环境的密封处理室内，并加热密封呈相对状态的衬底。
第五，本发明是一种用于制作图象显示装置的设备，其特征在于包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到其内的第一真空室；
c：安装在第一真空室内的吸气剂供应装置，具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
d：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第二真空室；
e：安装在第二真空室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
f：安装在第二真空室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
第六，本发明是一种用于制作图象显示装置的设备,其特征在于包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第一真空室；
c：安装在第一真空室内的烘烤装置，通过加热第一和第二衬底对输送到的第一和第二衬底进行烘烤处理；
d：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第二真空室；
e：安装在第二真空室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
f：安装在第二真空室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
第七，本发明是一种用于制作图象显示装置的设备，其特征在于包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第一真空室；
c：安装在第一真空室内的烘烤装置，通过加热第一和第二衬底对输送到的第一和第二衬底进行烘烤处理；
d：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第二真空室；
e：安装在第二真空室内的吸气剂供应装置，具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
f：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第三真空室；
g：安装在第三真空室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
h：安装在第三真空室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
第八，本发明是一种用于制作图象显示装置的设备，其特征在于包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第一真空室；
c：安装在第一真空室内的烘烤装置，通过加热第一和第二衬底对输送到的第一和第二衬底进行烘烤处理；
d：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底输送到其内的第二真空室；
e：安装在第二真空室内的吸气剂供应装置，具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
f：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到其内的第三真空室；
g：安装在第三真空室内的电子束净化装置，通过发射电子束来进行电子束净化处理；
h：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到其内的第四真空室；
i：安装在第四真空室内的第二吸气剂供应装置，具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
j：由输送装置在真空环境下将第一和第二衬底之一或全部输送到其内的第五真空室；
k：安装在第五真空室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
l：安装在第五真空室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
第九，本发明是一种用于制作图象显示装置的设备，其特征在于包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：能够将由输送装置输送到的第一村底不暴露于空气中地输送到其内且同时保持减压状态的第一减压室；
c：安装在第一减压室内的吸气剂供应装置，具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
d：吸气剂供给其中的第二减压室，其中第一和第二衬底能够不暴露于空气中地输送到其内；
e：安装在第二减压室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
f：安装在第二减压室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
第十，本发明是一种用于制作图象显示装置的设备,其特征在于包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：能够将由输送装置输送到的第一和第二衬底不暴露于空气中地输送到其内且同时保持减压状态的第一减压室；
c：安装在第一减压室内的吸气剂供应装置，具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
d：能够将第一减压室内的第一和第二衬底不暴露于空气中地输送到其内的第二减压室；
e：安装在第二减压室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
f：安装在第二减压室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
第十一，本发明是一种用于制作图象显示装置的设备，其特征在于包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：能够将由输送装置输送到的第一和第二衬底不暴露于空气中地输送到其内且同时保持减压状态的第一减压室；
c：安装在第一减压室内的烘烤装置，通过加热衬底对输送到的第一和第二衬底进行烘烤处理；
d：安装在第一减压室或第一和第二村底能够从第一减压室不暴露于空气中地输送到其内的第二减压室中的第一吸气剂供应装置，该第一吸气剂供应装置具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
e：能够将第一和第二衬底从第一或第二减压室不暴露于空气中地输送到其内的第三减压室；
f：安装在第三减压室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
g：安装在第三减压室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
第十二，本发明是一种用于制作图象显示装置的设备，其特征在于包括：
a：用于输送具有图象显示装置第一部件的第一衬底和具有图象显示装置第二部件的第二衬底的输送装置；
b：能够将由输送装置输送到的第一和第二衬底不暴露于空气中地输送到其内且同时保持减压状态的第一减压室；
c：安装在第一减压室内的烘烤装置，通过加热衬底对输送到的第一和第二衬底进行烘烤处理；
d：安装在第一减压室或第一和第二衬底能够从第一减压室不暴露于空气中地输送到其内的第二减压室中的第一吸气剂供应装置，该第一吸气剂供应装置具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
e：能够将第一和第二衬底从第一或第二减压室不暴露于空气中地输送到其内的第三减压室；
f：安装在第三减压室内部的电子束净化装置，通过发射电子束照射第一和第二衬底而对第一和第二衬底进行净化处理：
g：能够将第一和第二衬底从第三减压室不暴露于空气中地输送到其内的第四减压室；
h：安装在第四减压室内的第二吸气剂供应装置，该第二吸气剂供应装置具有吸气剂初级粒子及用于激活吸气剂初级粒子的吸气剂激活装置；
i：能够将第一和第二衬底从第四减压室不暴露于空气中地输送到其内的第五减压室；
j：安装在第五减压室内部的衬底装配装置，通过使图象显示装置的第一和第二部件朝内取向而使第一和第二衬底互相相对配置；以及
k：安装在第五减压室内的密封装置，用于在预定温度下加热密封由衬底装配装置相对配置的第一和第二衬底。
此外，本发明优选方面还包括以下特征：
在上述第一和第二方面，步骤a,b,c是在一条作业线上进行的步骤，且由反射性金属等形成的热屏蔽件设置在吸气处理室和密封处理室之间；
在上述第一和第二方面，步骤a,b,c是在一条作业线上进行的步骤，且加载锁设置在吸气处理室和密封处理室之间；
在上述第一和第二方面，步骤a,b,c被设定成星形结构，吸气处理室和密封处理室由一个单独的室分隔开；
在上述第三方面，步骤a,b,c和d是在一条作业线上进行的步骤，且由反射性金属等形成的热屏蔽材料依次设置在烘烤处理室和吸气处理室之间、烘烤处理室和密封处理室之间或烘烤处理室、吸气处理室和密封处理室之间；
在上述第三方面，步骤a,b,c和d是在一条作业线上进行的步骤，且加载锁依次设置在烘烤处理室和吸气处理室之间、烘烤处理室和密封处理室之间或烘烤处理室、吸气处理室和密封处理室之间；
在上述第三方面，步骤a,b,c和d被设定成星形结构，且烘烤处理室、吸气处理室和密封处理室之间各由一个单独的室分隔开；
在上述第四方面，步骤a,b,c,d,e和f是在一条作业线上进行的步骤，且由反射性金属等形成的热屏蔽件设置在烘烤处理室和第一吸气处理室之间、第一吸气处理室和电子束净化处理室之间、电子束净化处理室之间或第二吸气处理室和密封处理室之间；
在上述第四方面，步骤a,b,c,d,e和f是在一条作业线上进行的步骤，加载锁设置在烘烤处理室和第一吸气处理室之间、第一吸气处理室和电子束净化处理室之间、电子束净化处理室之间或第二吸气处理室和密封处理室之间；
在上述第四方面，步骤a,b,c,d,e和f被设定成星形结构，且烘烤处理室、第一吸气处理室、电子束净化处理室、第二吸气处理室和密封处理室之间各由一个单独的室分隔开；
在上述第五和第六方面，第一真空室和第二真空室排列在一条作业线上；
在上述第五和第六方面，第一真空室和第二真空室排列在一条作业线上，且每一室之间由反射性金属形成的热屏蔽件分隔开；
在上述第七方面，第一真空室、第二真空室和第三真空室排列在一条作业线上，且每一室之间由反射性金属形成的热屏蔽件分隔开；
在上述第七方面，第一真空室、第二真空室和第三真空室排列在一条作业线上，且每一室之间由加载锁分隔开；
在上述第七方面，第一真空室、第二真空室和第三真空室被设置成星形结构，且每一室由一个单独的室分隔开；
在上述第八方面，第一真空室、第二真空室、第三真空室、第四真空室和第五真空室排列在一条作业线上，且每一室之间由反射性金属形成的热屏蔽件分隔开；
在上述第八方面，第一真空室、第二真空室、第三真空室、第四真空室和第五真空室排列在一条作业线上，且每一室之间由加载锁分隔开，以及
在上述第八方面，第一真空室、第二真空室、第三真空室、第四真空室和第五真空室被设置成星形结构，且每一室由一个单独的室分隔开；
此外，在上述第九到第十二方面，第一到第五减压室内含有减压状态的不活泼气体如氩气、氖气等或氢气。此外，在上述第九到第十二方面，图象显示装置的第一部件是等离子发生器，图象显示装置的第二部件是荧光体或滤光镜。
图1A示意性地给出了根据本发明的制作设备，图1B所示的是一温度分布图，其中过程温度相对于横轴上的时间显示在纵轴上，图1C所示的是真空度图，其中真空度相对于横轴上的时间显示在纵轴上。下面将参考这些附图对本发明的制作方法和制作设备实例进行描述。
在图1A所示的设备中，前室101、烘烤处理室102、第一级吸气处理室103、电子束净化处理室104、第二吸气处理室105、密封处理室106和冷却室107沿输送方向(图1A中箭头127所示的方向)顺序排列，通过驱动输送辊109和输送带108、RP111和FP112沿箭头127所示方向顺序通过每个室，在通过过程中进行各种处理。也就是说，前室101中真空环境下的制备步骤、烘烤处理室102中的烘烤处理步骤、第一级吸气处理室103中的第一吸气处理步骤、电子束净化处理室104中由电子束照射而进行净化的步骤、第二级吸气处理室105中的第二吸气处理步骤、密封处理室106中的加热密封步骤以及冷却室107中的冷却处理步骤集在一条串行作业线上依次进行。
优选地，由反射辐射热量和红外线的反射性金属如铝、铬和不锈钢形成的热屏蔽件128(板形，膜形等)设置在每一室之间。热屏蔽件128可设置在具有不同温度分布图的各室之间，例如设置在烘烤处理室102和第一级吸气处理室103之间，或设置在第二级吸气处理室105和密封处理室106之间，或者最好在烘烤处理室102和第一级吸气处理室103之间和在第二级吸气处理室105和密封处理室106之间都设置此热屏蔽件，但热屏蔽件128也可以设置在每一室之间。此外，热屏蔽件128应如此设置：即当安装在输送带108上的FP112和安装在提升装置上的RP111在每一室之间移动时、热屏蔽件128不会阻碍FP112和RP111。
如图1A中所示，加载锁129设置在前室101和烘烤处理室102之间。加载锁129用于使前室101和烘烤处理室102之间打开和关闭。此外，真空排气系统130连接到前室101中，真空排气系统131连接到烘烤处理室102中。
RP111和FP112输送到前室101中后，输送入口110关闭，同时加载锁129关闭，从而由真空排气系统130对前室101内进行真空排气操作。在此操作过程期间，烘烤处理室102、第一级吸气处理室103、电子束净化处理室104、第二级吸气处理室105、密封处理室106和冷却处理室107的内部也都由真空排气系统131进行真空排气操作以使所有的室都处于真空状态下。
当前室101和其后的其他室都达到真空状态时，打开加载锁129,RP111和FP112被输送出前室101而送入到烘烤处理室102中，送入RP111和FP112之后关闭加载锁129，再打开输送入口110，将另一RP111和FP112输送到前室101中，再用真空排气系统130对前室101内部重复进行真空排气操作步骤。
在本发明中，优选地可以设置一个与加载锁129相同的加载锁(未示出)。在由加载锁分隔开的每个室内安装一个泵(真空排气系统)。加载锁可以设置在各个室之间，但优选地是在图1C所示真空度分布图中具有不同真空度的各室之间设置加载锁，例如，在烘烤处理室102和第一级吸气处理室103之间、或在电子束净化处理室104和第二级吸气处理室105之间、或者最好在烘烤处理室102和第一级吸气处理室103之间和在电子束净化处理室104和第二级吸气处理室105之间都设置加载锁。
在本发明中，在将RP111输送到前室101中之前，优选地总是在RP111上提供一个密封真空结构用的封套和形成抗大气压结构用的隔板115。在与FP112的封套113相对应的位置上，具有利用低熔点材料如烧结玻璃或低熔点金属如铟或其合金的密封材料114。此外，如图所示，密封材料114也可以在封套113中。
在烘烤处理室102中、用加热板116对不暴露于空气中地输送到烘烤处理室102中的RP111和FP112进行加热处理(烘烤处理)。通过烘烤处理，能够排出RP111和FP112中所含有的杂质气体如氢气、蒸气及氧气。此时烘烤处理温度通常为300℃到400℃，优选地为350℃到380℃。此时的真空度约为1×10-4Pa。
RP111和FP112结束烘烤处理后被输送到第一级吸气处理室103中，RP111安装在支架118上，被移到室103的上部，吸气剂闪蒸设备119所含可蒸发吸气剂材料(如由钡等制成的吸气剂材料)的闪蒸吸气剂120相对于FP112产生并被激发，从而在FP112的表面上沉积了一层含有钡膜等的吸气剂膜(未示出)。这里，第一级吸气剂的膜厚通常为5nm到500nm，优选地为10nm到100nm，更优选地为20nm到50nm。此外，在本发明中，除上述吸气剂材料外，可提前在RP111或FP112上设置含有钛材料、NEG材料等的吸气剂膜或吸气剂材料。
至于支架118，它是一个用充足的力固定住RP111而使其不会掉下的工具，例如，可以用应用静电吸盘法或机械夹盘法的工具。
固定在支架118上的RP111由提升装置117提升到距离输送辊108上的FP112足够远的位置。在提升RP111的过程中，RP111和FP112之间的间隔优选地应是使衬底之间的导电性能增大的间隔，尽管此间隔取决于所用真空室的大小。两个衬底之间的间隔如果为50nm或更大一些一般便足够了。
此外，在上述步骤中，如果所用的吸气剂是钡，则需将第一级吸气处理室的过程温度设定在大约100℃。而真空度为1×10-5Pa。
尽管图1A中所示的只有FP112上扩散有闪蒸吸气剂120，但与上面所述相同，也可通过扩散闪蒸吸气剂120而将吸气剂给予RP111或同时给予RP111和FP112。此外，在烘烤处理室102中的烘烤处理进行中或结束之后，为了提高真空环境的真空度，可以在烘烤处理室102中进行第一级吸气剂闪蒸处理。
因此，当将RP111和FP112不暴露于空气中地输送到电子束净化处理室104中时，在电子束净化处理室104中用电子束振荡器121所产生的电子束122对RP111和/或FP112进行扫描，特别地，当在输送RP111和FP112的过程中除去FP112荧光剂(未示出)中的杂质气体时，固定在提升装置117上的RP111和固定在输送带108上的FP112之间的间隔，优选地应保持第一级吸气处理步骤中的间隔不变。
尽管所示出的是仅对FP112进行了电子束净化处理，但在本发明中，也可以以上述同样的方式只对RP111或同时对RP111和FP112进行电子束净化处理。
上述电子束净化处理结束之后，RP111和FP112被不暴露于空气中地输送到第二级吸气处理室105中，从而利用与第一级吸气处理室103所用的方法相同方法从吸气剂闪蒸设备123中生成闪蒸吸气剂124并将该吸气剂给予FP112。在将此吸气剂给予FP112时，第二级吸气剂的膜厚通常为5nm到500nm，优选地为10nm到100nm，更优选地为20nm到50nm。在输送RP111和FP112时，关于固定在提升装置117上的RP111和固定在输送带108上的FP112之间的间隔问题，此间隔优选地应保持其在第一级吸气处理步骤中的间隔不变。此外，可以用与第一级吸气处理同样的方式将第二级吸气剂只给予RP111或同时给予FP112和RP111。
FP112被给予第二级吸气剂，由提升装置117定位于第二级吸气处理室105上部的RP111下降，然后将FP112和RP111不暴露于空气中地输送到下一密封处理室106中。在输送FP112和RP111的过程当时，提升装置117进行操作，使得隔板115和封套113相对排列直到隔板115和封套113相互接触时为止，同时使RP111和FP112朝向内部，其中设置有在相应衬底上排列成矩阵型式的电子束发射器件和荧光体。
在密封处理室106中，使加热板125作用在相对排列的RP111和FP112上，且如果事先提供的密封材料114是由低熔点金属如铟制成的，则对密封材料114进行加热直到低熔点金属熔化，或者，如果密封材料114是由非金属低熔点材料如烧结玻璃制成的，则将密封材料114加热至低熔点材料发生变化并呈粘性的温度时止。在图1B中，在用铟作为密封材料114的实例中，将温度设定在180℃。
可以将密封处理室106中的真空度设定成高达1×10-6Pa或更高。因此，可以将由RP111、FP112和封套113所密封的显示面板的真空度设定为高达1×10-6Pa或更高。
在密封处理室106中制成的显示面板被输送到下一冷却室107中并慢慢冷却。
本发明的设备在密封室106和冷却室107之间设置有一个类似于加载锁129的加载锁(未示出)，当打开加载锁时，显示面板从密封处理室106中输送出来，当送入到冷却室107中后加载锁关闭，慢慢冷却之后输送出口126打开，显示面板从冷却室107中送出，最后输送出口126关闭而结束整个处理过程。此外，在开始下一过程之前，优选地由单独设置的真空排气系统(未示出)将冷却室107的内部设定在真空状态。
进而，根据本发明，在减压状态下，室101到室107中的每一室都可含有不活泼气体如氩气或氖气或氢气。
尽管上述实例是最佳方式，但作为第一种变化方案，有以下实例，即各个室如此顺序相连使得能按在前室101的真空环境下进行制备、在第一级吸气处理室中进行第一吸气处理、在密封处理室106内进行加热密封以及在冷却室107内进行冷却处理这样的顺序进行加工处理。
第二种变化方案的实例是，各个室顺序相连使得能够按在前室101的真空环境下进行制备、在烘烤处理室102中进行烘烤处理、在密封处理室106中进行加热密封以及在冷却室107中进行冷却处理这样的顺序进行加工处理。
第三种变化方案的实例是，各个室顺序相连使得能够按在前室101的真空环境下进行制备、在烘烤处理室102中进行烘烤处理、在第一级吸气处理室中进行第一吸气处理、在密封处理室106中进行加热密封以及在冷却室107中进行冷却处理这样的顺序进行加工处理。
第四种变化方案的实例是，RP111和FP112由不同的输送设备进行输送。
图2是一种设备的示意平面图，在该设备中，前室201、烘烤处理室202、第一级吸气处理室203、电子束净化处理室204、第二级吸气处理室205、密封处理室206以及冷却处理室207在中心真空室208的周围排列成星形结构。室201到207各自由一个单独的室分隔开。
在图2的设备中，尽管只是在前室201和中心真空室208之间设置了一个加载锁209，但在其他室202和207上也可以用同样的加载锁，以使所有的室201到207和中心真空室208都能由加载锁分隔开。此外，也可以用热屏蔽材料210来代替在烘烤处理室202和中心真空室208之间设置的加载锁。进而，同样地，也可以用热屏蔽材料210来代替在其他室203到207和中心真空室208之间设置的加载锁。
在中心真空室208中，设置有输送杆211，在输送杆211的两端上，是用静电吸盘法或机械夹盘法使RP111和FP112固定住的输送带。输送带213设置在输送杆211上，可使RP111和FP112依次沿箭头214的方向旋转。
在输送带213的移动作用下，RP111和FP112重复输送到室201到室207中的每一室中并从室201到室207的每一室中再输送出来，在这个过程中进行每一个处理步骤。在进行每一个处理步骤的过程中，尽管可以对RP111和FP112上的两个衬底都进行所有的处理步骤，但优选地也可以只对RP111和FP112上两个衬底中的一个进行预定的处理步骤。例如，不象上述一样对RP111和FP112上的两个衬底实施所有的处理步骤，而是只将FP112输送到第一级吸气处理室203和第二级吸气处理室205中，在其间只对FP112进行吸气处理，且在处理过程期间，使RP111在中心真空室208中等待，并不对RP111进行吸气处理。
此外，根据本发明，在减压状态下，室201到室207以及中心真空室208的每一室中都可含有不活泼气体如氩气或氖气或氢气。
图3是用本发明的设备和方法生产的图象显示装置的剖视图。
在该图中，与图1A和图2中相同的符号表示相同的部件。在根据该设备和方法生产的图象显示装置中，由RP111、FP112和封套形成真空容器和减压容器。在减压容器中，在减压状态下，可含有不活泼气体如氩气或氖气或氢气。
此外，在真空容器中，可以将真空度设定为1×10-5Pa或更高，优选地可以是1×10-6pa或更高。
在真空容器和减压容器中，设置一个隔板115以形成一个抗大气压结构。本发明中所用的隔板115具有一个由非碱性绝缘材料如非碱性玻璃制成的主体311，设置在高阻值膜309两侧上的金属(钨、铜、银、金、钼、这些金属的合金等等)膜308和310，由高阻材料形成的高阻膜309覆盖在主体311的表面上，且隔板115借助导电粘合剂电气连接并粘附到导线306上。如果隔板115被输送到前室101或201中，则隔板115的一端将由低熔点粘合剂307如烧结玻璃提前粘附到RP111上，且当结束密封处理室106或206中的处理时，隔板115的另一端和FP112电气连接并接触。
在RP111中，由玻璃等制成的透明衬底304、防止碱性物质如钠进入其中的基膜(SiO2,SnO2等)305以及多个电子束发射器件312排列成XY矩阵。导线306在阴极侧上形成与电子束发射器件相连接的XY矩阵阴极侧导线。
在本发明中，可以用等离子生成器件来代替用作荧光激发器或图象显示装置部件的电子束发射器件312。在用等离子生成器件时，在减压状态下，容器中可含有不活泼气体如氩气或氖气或氢气。
在FP112中，设置有由玻璃等制成的透明衬底301、荧光层302和连接到阳极源(未示出)上的阳极金属(铝、银、铜等)膜303。
此外，在本发明中，当使用等离子生成器件时，可以用滤光镜来代替用作图象显示部件的荧光体。
当将封套113输送到前室101或201中时，封套113提前由低熔点粘合剂303如烧结玻璃粘附到RP111上，并在密封处理室106或206的处理步骤中用铟或烧结玻璃制成的密封材料114进行粘附。
根据本发明，当电子发射器件或等离子生成器件沿XY方向给出大量如100，000,000个象素或更多象素，并且制作大量象素在对角线尺寸为30英寸或更大的大屏幕上的图象显示装置时，制作时间可以显著降低，且同时，在形成图象显示装置的真空容器中可以获得1×10-6Pa或更高的真空度。
因此，可以看到，本发明提供了制作图象显示装置的方法和设备。本领域的普通技术人员可以知道，本发明除为了说明而非限制目的而给出的优选实施例以外，还可以有其他实施方式，且本发明只受所附权利要求书的限制。