等离子显示器及其制造方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200610074010.5

申请日:

2006.04.04

公开号:

CN101051593A

公开日:

2007.10.10

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):H01J 17/49公开日:20071010|||实质审查的生效|||公开

IPC分类号:

H01J17/49(2006.01); H01J17/02(2006.01); H01J9/00(2006.01)

主分类号:

H01J17/49

申请人:

帆宣系统科技股份有限公司;

发明人:

高旭彬; 梁建铮; 许胜文; 高旭佳; 余义盛

地址:

中国台湾台北市

优先权:

专利代理机构:

北京市柳沈律师事务所

代理人:

陶凤波;侯宇

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内容摘要

本发明揭露一种等离子显示器,其利用外露之透明导电层与等离子显示器之内部构件形成接地,进而消除电磁干扰。藉此,本发明不需于形成于透明导电层上之第二保护层加入金属网结构,使得第二保护层容易贴附于透明导电层上,进而降低制造工艺的困难度并且增加生产成品率。

权利要求书

1.  一种等离子显示器,包括:
前板,包括:
玻璃基板,具有第一表面以及与该第一表面相对之第二表面;
透明导电层,形成于该玻璃基板之该第一表面上;
至少一金属电极,形成于该玻璃基板之该第二表面上,用以提供一电流;
介电层,形成于该玻璃基板之该第二表面上,并且覆盖该至少一金属电极,用以限制该电流,进而累积壁电荷;
第一保护层,形成于该介电层上,用以防止该前板遭受离子轰击,并且增加二次电子;
第二保护层,形成于该透明导电层上,用以提高该等离子显示器之对比及色彩表现,并且保护该前板免于受撞击而损坏;以及
后板,与该前板之该第一保护层相组装,以形成该等离子显示器;
其中,该第二保护层之面积小于该透明导电层之面积,致使外露之该透明导电层可与该等离子显示器形成接地,进而消除电磁干扰。

2.
  如权利要求1所述的等离子显示器,其中该透明导电层之材料为氧化铟锡。

3.
  如权利要求1所述的等离子显示器,其中该透明导电层之材料为氧化锡。

4.
  如权利要求1所述的等离子显示器,其中该第一保护层之材料为氧化镁。

5.
  如权利要求1所述的等离子显示器,其中该第二保护层为一厚膜。

6.
  如权利要求1所述的等离子显示器,其中该第二保护层以贴附的方式形成于该前板之该透明导电层上。

7.
  如权利要求1所述的等离子显示器,其中该第二保护层以印刷涂布的方式形成于该前板之该透明导电层上。

8.
  如权利要求1所述的等离子显示器,其中该第二保护层以喷涂的方式形成于该前板之该透明导电层上。

9.
  一种用以制造等离子显示器的方法,包括下列步骤:
提供玻璃基板,该玻璃基板具有第一表面以及与该第一表面相对之第二表面;
形成透明导电层于该玻璃基板之该第一表面上;
形成至少一金属电极于该玻璃基板之该第二表面上,该至少一金属电极用以提供电流;
形成介电层于该玻璃基板之该第二表面上,该介电层覆盖该至少一金属电极,并且用以限制该电流,进而累积壁电荷;
形成第一保护层于该介电层上,该第一保护层用以防止该介电层遭受离子轰击,并且增加二次电子;
将后板与该第一保护层相组装;以及
形成第二保护层于该透明导电层上,该第二保护层用以提高该等离子显示器之对比及色彩表现,并且保护该玻璃基板免于受撞击而损坏;
其中,该第二保护层之面积小于该透明导电层之面积,致使外露之该透明导电层可与该等离子显示器形成接地,进而消除电磁干扰。

10.
  如权利要求9所述的方法,其中该第二保护层、该透明导电层、该玻璃基板、该至少一金属电极、该介电层以及该第二保护层构成该等离子显示器之一前板。

11.
  如权利要求9所述的方法,其中该透明导电层之材料为氧化铟锡。

12.
  如权利要求9所述的方法,其中该透明导电层之材料为氧化锡。

13.
  如权利要求9所述的方法,其中该第一保护层之材料为氧化镁。

14.
  如权利要求9所述的方法,其中该第二保护层为厚膜。

15.
  如权利要求9所述的方法,其中该第二保护层以贴附的方式形成于该透明导电层上。

16.
  如权利要求9所述的方法,其中该第二保护层以印刷涂布的方式形成于该透明导电层上。

17.
  如权利要求9所述的方法,其中该第二保护层以喷涂的方式形成于该透明导电层上。

说明书

等离子显示器及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种等离子显示器(Plasma display panel,PDP)及其制造方法。
背景技术
请参阅图1,图1绘示现有技术之等离子显示器1之示意图。如图1所示,传统等离子显示器1包括一前板(Front panel)10以及一后板12。前板10包括一氧化镁(MgO)保护层100、一介电层(Dielectric layer)102、至少一金属电极(Bus electrode)104、一氧化铟锡(ITO)透明导电层106、一玻璃基板108以及一滤光玻璃110。滤光玻璃110用以提高等离子显示器1之对比及色彩表现,并且滤光玻璃110具有一金属网结构,用以消除电磁干扰(Electronmagnetic Interfering,EMI)。
请参阅图2A至图2G,图2A至图2G分别绘示图1中之等离子显示器1之制造流程。如图2A所示,于制造等离子显示器1时,先提供玻璃基板108,并且于玻璃基板108上形成ITO透明导电层106。如图2B所示,将ITO透明导电层106形成至少一ITO电极106。如图2C所示,于每一ITO电极106上形成金属电极104。如图2D所示,于玻璃基板108上形成介电层102,介电层102并且覆盖每一ITO电极106以及每一金属电极104。如图2E所示,于介电层102上形成MgO保护层100。如图2F所示,将后板12与前板10之MgO保护层100相组装。如图2G所示,将滤光玻璃110贴附于玻璃基板108上。藉此,现有技术之等离子显示器1即制造完成。
于上述之现有技术中,滤光玻璃110可改用滤光膜替代,以使等离子显示器1获得优选之画质表现。为了消除电磁干扰,不论是滤光玻璃110亦或是滤光膜,皆必需具有一金属网结构。然而,由于滤光玻璃110或滤光膜具有金属网结构,会使得滤光玻璃110或滤光膜不易直接贴附于前板之玻璃基板108上,进而增加制造工艺的困难度并且降低生产成品率。
发明内容
因此,本发明之主要范畴在于提供一种等离子显示器及其制造方法,以解决上述问题。
本发明之一范畴在于提供一种等离子显示器及其制造方法,该等离子显示器藉由外露之透明导电层与等离子显示器之内部构件形成接地,进而消除电磁干扰。
根据一优选具体实施例,本发明之等离子显示器(Plasma display panel,PDP)包括一前板(Front panel)以及一后板(Back panel)。前板包括一玻璃基板(Glass substrate)、一透明导电层(Conductive layer)、至少一金属电极(Buselectrode)、一介电层(Dielectric layer)、一第一保护层(Protective layer)以及一第二保护层。
于上述之实施例中,玻璃基板具有一第一表面以及一与第一表面相对之第二表面。透明导电层形成于玻璃基板之第一表面上。金属电极形成于玻璃基板之第二表面上,用以提供一电流。介电层形成于玻璃基板之第二表面上,并且覆盖金属电极,用以限制电流,进而累积壁电荷(Wall charge)。第一保护层形成于介电层上,用以防止等离子显示器之前板遭受离子轰击,并且增加二次电子。第二保护层形成于透明导电层上,用以提高等离子显示器之对比及色彩表现,并且保护前板免于受撞击而损坏。后板与前板之第一保护层相组装,以形成等离子显示器。
于上述之实施例中,第二保护层之面积小于透明导电层之面积,致使外露之透明导电层可与等离子显示器之内部构件形成接地,进而消除电磁干扰。
因此,根据本发明之等离子显示器及其制造方法,将透明导电层外露,以与等离子显示器之内部构件形成接地,进而消除电磁干扰。藉此,本发明不需于形成于透明导电层上之第二保护层加入金属网结构,使得第二保护层容易贴附于透明导电层上,进而降低制造工艺的困难度并且增加生产成品率。
本发明之优点与精神可以藉由以下的发明详述及附图得到进一步的了解。
附图说明
图1绘示现有技术之等离子显示器之示意图。
图2A至图2G分别绘示图1中之等离子显示器之制造流程。
图3A绘示根据本发明一第一优选具体实施例之等离子显示器之示意图。
图3B绘示图3A中之等离子显示器之上视图。
图4A至图4F分别绘示图3A中之等离子显示器之制造流程。
主要组件符号说明
1、2:等离子显示器              10、20:前板
100:氧化镁保护层               102、206:介电层
104、204:金属电极              106、202:透明导电层
108、200:玻璃基板              110:滤光玻璃
12、22:后板                    2000:第一表面
2002:第二表面                  208:第一保护层
210:第二保护层
具体实施方式
请参阅图3A,图3A绘示根据本发明一第一优选具体实施例之等离子显示器2之示意图。本发明之等离子显示器(Plasma display panel,PDP)2包括一前板(Front panel)20以及一后板(Back panel)22。前板20包括一玻璃基板(Glass substrate)200、一透明导电层(Conductive layer)202、至少一金属电极(Bus electrode)204、一介电层(Dielectric layer)206、一第一保护层(Protectivelayer)208以及一第二保护层210。于此实施例中,透明导电层之材料可为氧化铟锡(ITO)、氧化锡(SnO2)或其它类似材料,第一保护层之材料可为氧化镁(MgO)或其它类似材料,并且第二保护层可为一厚膜。
如图3A所示,于上述之实施例中,玻璃基板200具有一第一表面2000以及一与第一表面2000相对之第二表面2002。透明导电层202形成于玻璃基板200之第一表面2000上。金属电极204形成于玻璃基板200之第二表面2002上,用以提供一电流。介电层206形成于玻璃基板200之第二表面2002上,并且覆盖金属电极204,用以限制电流,进而累积壁电荷(Wallcharge)。第一保护层208形成于介电层206上,用以防止等离子显示器2之前板20遭受离子轰击,并且增加二次电子。第二保护层210形成于透明导电层202上,用以提高等离子显示器2之对比及色彩表现,并且保护前板20免于受撞击而损坏。后板22与前板20之第一保护层208相组装,以形成等离子显示器2。
于上述之实施例中,第二保护层210以贴附的方式形成于前板20之透明导电层202上。于本发明之另一优选具体实施例中,第二保护层210可以印刷涂布的方式形成于前板20之透明导电层202上。于本发明之另一优选具体实施例中,第二保护层210可以喷涂的方式形成于前板20之透明导电层202上。
请参阅图3B,图3B绘示图3A中之等离子显示器2之上视图。如图3B所示,第二保护层210之面积设计为小于透明导电层202之面积,致使外露之透明导电层202可与等离子显示器2之内部构件(未显示于图中)形成接地,进而消除电磁干扰(Electronmagnetic Interfering,EMI)。藉此,本发明不需于形成于透明导电层202上之第二保护层210加入金属网结构,使得第二保护层210容易贴附于透明导电层202上,进而降低制造工艺的困难度并且增加生产成品率。
请参阅图4A至图4F,图4A至图4F分别绘示图3A中之等离子显示器2之制造流程。本发明用以制造等离子显示器2之方法包括下列步骤。首先,如图4A所示,提供玻璃基板200,玻璃基板200具有第一表面2000以及一与第一表面2000相对之第二表面2002,并且形成透明导电层202于玻璃基板200之第一表面2000上。接着,如图4B所示,形成至少一金属电极204于玻璃基板200之第二表面2002上,金属电极204用以提供一电流。接着,如图4C所示,形成介电层206于玻璃基板200之第二表面2002上,介电层206覆盖金属电极204,并且用以限制电流,进而累积壁电荷。接着,如图4D所示,形成第一保护层208于介电层206上,第一保护层208用以防止介电层206遭受离子轰击,并且增加二次电子。接着,如图4E所示,将后板22与第一保护层208相组装。最后,如图4F所示,形成第二保护层210于透明导电层202上,第二保护层210用以提高等离子显示器2之对比及色彩表现,并且保护玻璃基板200免于受撞击而损坏。藉此,上述等离子显示器2即制造完成。
相较于现有技术,本发明之等离子显示器及其制造方法将透明导电层外露,以与等离子显示器之内部构件形成接地,进而消除电磁干扰。藉此,本发明不需于形成于透明导电层上之第二保护层加入金属网结构,使得第二保护层容易贴附于透明导电层上,进而降低制造工艺的困难度并且增加生产成品率。
藉由以上优选具体实施例之详述,希望能更加清楚描述本发明之特征与精神,而并非以上述所揭露的优选具体实施例来对本发明之范畴加以限制。相反地,其目的是希望能涵盖各种改变及具相等性的安排于本发明所欲申请之专利范围的范畴内。

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本发明揭露一种等离子显示器,其利用外露之透明导电层与等离子显示器之内部构件形成接地,进而消除电磁干扰。藉此,本发明不需于形成于透明导电层上之第二保护层加入金属网结构,使得第二保护层容易贴附于透明导电层上,进而降低制造工艺的困难度并且增加生产成品率。 。

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