印染用紫外光固化胶.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200910153903.2

申请日:

2009.11.24

公开号:

CN102073215A

公开日:

2011.05.25

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):G03F 7/027申请公布日:20110525|||公开

IPC分类号:

G03F7/027

主分类号:

G03F7/027

申请人:

杨德钧

发明人:

杨德钧

地址:

312030 浙江省绍兴县柯桥山阴路109号

优先权:

专利代理机构:

代理人:

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内容摘要

本发明公开了一种用于印染行业印花用的紫外光固化胶,包括以下重量百分比的甲、乙两种组分混合组成,其中甲组分占80%-90%,乙组分占10%-20%,而甲组分由水溶性丙烯酸酯、缩水甘油醚环氧树脂、亲水型气相二氧化硅或碳酸钙、单烷氧基焦磷酸酯型偶联剂、防老化剂、消泡剂、颜料组成;乙组分由高分子型硫杂蒽酮光引发剂、硫代硫酸钠组成。本发明的有益效果是:对一定波长的紫外线光敏感性高,使胶能迅速固化,节约了制版时间和成本,在未高温固化前可用水清洗,使用方便。

权利要求书

1: 一种印染用紫外光固化胶, 包括以下重量百分比的甲、 乙两种组分, 其中甲组分由水 溶性丙烯酸酯、 缩水甘油醚环氧树脂、 亲水型气相二氧化硅或碳酸钙、 单烷氧基焦磷酸酯型 偶联剂、 防老化剂、 消泡剂、 颜料组成 ; 乙组分由高分子型硫杂蒽酮光引发剂、 硫代硫酸钠组 成。
2: 如权利要求书 1 中所述的印染用紫外光固化胶, 其特征在于 : 所述甲、 乙组分别配 置, 使用时甲、 乙两组混合, 其中甲组分占重量比的 80%~ 90%, 乙组分占 10%~ 20%。
3: 根据权利要求书 1 所述的印染用紫外光固化胶, 其特征在于 : 所述甲组分由水溶性 丙烯酸酯占 50%~ 60%, 缩水甘油醚环氧树脂占 25%~ 30%, 亲水型气相二氧化硅或碳酸 钙占 5%~ 10%, 单烷氧基焦磷酸酯型偶联剂占 2%~ 8%, 防老化剂占 1%~ 5%, 消泡剂 占 1%~ 5%, 颜料组成 ; 乙组分由高分子型硫杂蒽酮光引发剂占 70%~ 90%, 硫代硫酸钠 占 10%~ 30%组成。

说明书


印染用紫外光固化胶

    【技术领域】
     本发明涉及一种紫外光固化胶, 特别是印染行业中在印花时所用的圆镍网或平 网, 辊筒上制作图案时所用的紫外线光敏固化胶。背景技术
     在印染行业, 为了在印花用圆镍网、 平网或辊筒上制作印花用图案, 大量仍使用胶 片法或喷墨、 喷蜡法, 其方法是 : 将紫外线光敏胶均匀地涂在网上或辊筒上, 低温烘干, 使 其不会流动, 胶片法是用事先制好图案的黑白胶片包覆在网上或辊筒上, 喷墨、 喷蜡法是用 黑色的墨或蜡将图案制在网上或辊筒上, 然后将包有胶片或喷有图案的网或辊筒拿到紫外 线灯下去曝光, 使曝光部位胶固化, 未曝光部位胶用水洗掉, 在网上或辊筒上留下图案, 但 无论采用什么方法, 由于所用光敏胶的敏感性不够, 因而曝光用紫外线灯的功率通常需在 5-10KW, 曝光固化时间至少要在几分钟至十几分钟, 随着图案制作方式的改进, 要求曝光光 源的功率越来越小, 曝光时间越来越短, 特别是最近研制的半导体激光器直接制版技术, 曝 光光源用半导体激光器, 功率只有几十毫瓦至一百多毫瓦, 曝光时间在几千分之一秒, 甚至 更少, 原来所使用的光敏胶显然不能满足这个要求。 发明内容
     为了克服现有光敏胶所存在的缺点, 满足半导体直接制版技术对紫外光固化胶的 要求, 本发明采用以下方案 : 所有紫外光固化胶中成分全部采用水溶性材料, 包括水溶性丙 烯酸酯、 缩水甘油醚环氧树脂、 高分子型硫杂蒽酮光引发剂、 硫代硫酸钠、 流平剂、 单烷氧基 焦磷酸酯型偶联剂、 亲水型气相二氧化硅或碳酸钙、 防老化剂、 消泡剂、 颜料适量。
     本发明的有益效果是 : 对一定波长的紫外线光敏感性高, 使胶能迅速固化, 节约了 制版时间和成本, 在未高温固化前可用水清洗, 使用方便。 具体实施方式 :
     将本发明的紫外光固化胶配制成甲、 乙两种组分, 使用时将这两种组分按比例混 合、 搅拌均匀即可使用, 原则上用多少配多少, 以免存放时间过长变质。将配好的紫外线光 固化胶均匀地涂在圆镍网或平网、 辊筒上, 在 30 ~ 35℃温度下烘 20 ~ 25 分钟使其干燥, 然后在暗室中或黄色灯光下用波长为 405nm 的半导体激光器对圆镍网或平网、 辊筒直接制 版, 制版后用水将未受光固化的胶冲洗干净, 再在 150℃~ 170℃温度下烘 30 分钟左右, 使 胶固化, 即可用于印花。
     作为本发明的实例 : 以下按重量计
     甲组份包括 : 水溶性丙烯酸酯 55%, 缩水甘油醚环氧树脂 28%, 亲水型气相二氧 化硅 8%, 单烷氧基焦磷酸酯型偶联剂 5%, 防老化剂 2%, 消泡剂 2%, 颜料适量。
     乙组分包括 : 高分子型硫杂蒽酮光引发剂 85%, 硫代硫酸钠 15%使用时甲组分占 85%, 乙组分占 15%在制备时各组分在常温下充分搅拌均匀即可。 作为本发明的另一种实施例, 也可用 3000 目以上的碳酸钙代替亲水型气相二氧化硅。4

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资源描述

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1、10申请公布号CN102073215A43申请公布日20110525CN102073215ACN102073215A21申请号200910153903222申请日20091124G03F7/02720060171申请人杨德钧地址312030浙江省绍兴县柯桥山阴路109号72发明人杨德钧54发明名称印染用紫外光固化胶57摘要本发明公开了一种用于印染行业印花用的紫外光固化胶,包括以下重量百分比的甲、乙两种组分混合组成,其中甲组分占8090,乙组分占1020,而甲组分由水溶性丙烯酸酯、缩水甘油醚环氧树脂、亲水型气相二氧化硅或碳酸钙、单烷氧基焦磷酸酯型偶联剂、防老化剂、消泡剂、颜料组成;乙组分由高分子。

2、型硫杂蒽酮光引发剂、硫代硫酸钠组成。本发明的有益效果是对一定波长的紫外线光敏感性高,使胶能迅速固化,节约了制版时间和成本,在未高温固化前可用水清洗,使用方便。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书2页CN102073220A1/1页21一种印染用紫外光固化胶,包括以下重量百分比的甲、乙两种组分,其中甲组分由水溶性丙烯酸酯、缩水甘油醚环氧树脂、亲水型气相二氧化硅或碳酸钙、单烷氧基焦磷酸酯型偶联剂、防老化剂、消泡剂、颜料组成;乙组分由高分子型硫杂蒽酮光引发剂、硫代硫酸钠组成。2如权利要求书1中所述的印染用紫外光固化胶,其特征在于所述甲、乙组分别配置,使用。

3、时甲、乙两组混合,其中甲组分占重量比的8090,乙组分占1020。3根据权利要求书1所述的印染用紫外光固化胶,其特征在于所述甲组分由水溶性丙烯酸酯占5060,缩水甘油醚环氧树脂占2530,亲水型气相二氧化硅或碳酸钙占510,单烷氧基焦磷酸酯型偶联剂占28,防老化剂占15,消泡剂占15,颜料组成;乙组分由高分子型硫杂蒽酮光引发剂占7090,硫代硫酸钠占1030组成。权利要求书CN102073215ACN102073220A1/2页3印染用紫外光固化胶技术领域0001本发明涉及一种紫外光固化胶,特别是印染行业中在印花时所用的圆镍网或平网,辊筒上制作图案时所用的紫外线光敏固化胶。背景技术0002在印。

4、染行业,为了在印花用圆镍网、平网或辊筒上制作印花用图案,大量仍使用胶片法或喷墨、喷蜡法,其方法是将紫外线光敏胶均匀地涂在网上或辊筒上,低温烘干,使其不会流动,胶片法是用事先制好图案的黑白胶片包覆在网上或辊筒上,喷墨、喷蜡法是用黑色的墨或蜡将图案制在网上或辊筒上,然后将包有胶片或喷有图案的网或辊筒拿到紫外线灯下去曝光,使曝光部位胶固化,未曝光部位胶用水洗掉,在网上或辊筒上留下图案,但无论采用什么方法,由于所用光敏胶的敏感性不够,因而曝光用紫外线灯的功率通常需在510KW,曝光固化时间至少要在几分钟至十几分钟,随着图案制作方式的改进,要求曝光光源的功率越来越小,曝光时间越来越短,特别是最近研制的半。

5、导体激光器直接制版技术,曝光光源用半导体激光器,功率只有几十毫瓦至一百多毫瓦,曝光时间在几千分之一秒,甚至更少,原来所使用的光敏胶显然不能满足这个要求。发明内容0003为了克服现有光敏胶所存在的缺点,满足半导体直接制版技术对紫外光固化胶的要求,本发明采用以下方案所有紫外光固化胶中成分全部采用水溶性材料,包括水溶性丙烯酸酯、缩水甘油醚环氧树脂、高分子型硫杂蒽酮光引发剂、硫代硫酸钠、流平剂、单烷氧基焦磷酸酯型偶联剂、亲水型气相二氧化硅或碳酸钙、防老化剂、消泡剂、颜料适量。0004本发明的有益效果是对一定波长的紫外线光敏感性高,使胶能迅速固化,节约了制版时间和成本,在未高温固化前可用水清洗,使用方便。

6、。具体实施方式0005将本发明的紫外光固化胶配制成甲、乙两种组分,使用时将这两种组分按比例混合、搅拌均匀即可使用,原则上用多少配多少,以免存放时间过长变质。将配好的紫外线光固化胶均匀地涂在圆镍网或平网、辊筒上,在3035温度下烘2025分钟使其干燥,然后在暗室中或黄色灯光下用波长为405NM的半导体激光器对圆镍网或平网、辊筒直接制版,制版后用水将未受光固化的胶冲洗干净,再在150170温度下烘30分钟左右,使胶固化,即可用于印花。0006作为本发明的实例以下按重量计0007甲组份包括水溶性丙烯酸酯55,缩水甘油醚环氧树脂28,亲水型气相二氧化硅8,单烷氧基焦磷酸酯型偶联剂5,防老化剂2,消泡剂2,颜料适量。0008乙组分包括高分子型硫杂蒽酮光引发剂85,硫代硫酸钠15使用时甲组分占85,乙组分占15说明书CN102073215ACN102073220A2/2页40009在制备时各组分在常温下充分搅拌均匀即可。0010作为本发明的另一种实施例,也可用3000目以上的碳酸钙代替亲水型气相二氧化硅。说明书CN102073215A。

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