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1、10申请公布号CN102373407A43申请公布日20120314CN102373407ACN102373407A21申请号201010258983022申请日20100820C23C14/04200601C23C14/5820060171申请人鸿富锦精密工业（深圳）有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号申请人鸿海精密工业股份有限公司72发明人王仲培54发明名称镀膜加工方法57摘要一种镀膜加工方法，其包括以下步骤提供一个工件，该工件具有一个待加工形成图案的第一表面；采用物理气相沉积法对该第一表面沉积一膜层；提供一个遮罩，该遮罩的形状与待形成的图案的形状相同。
2、，该遮罩与该工件可磁性相吸；将该遮罩吸附于该第一表面并遮蔽已镀膜的该第一表面的预定区域；利用磁力研磨去除该第一表面的该预定区域之外的膜层；去除该遮罩以于该工件的第一表面获得该图案。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页附图2页CN102373410A1/1页21一种镀膜加工方法，其包括以下步骤提供一个工件，该工件具有一个待加工形成图案的第一表面；采用物理气相沉积法对该第一表面沉积一膜层；提供一遮罩，该遮罩的形状与待形成的图案的形状相同，该遮罩与该工件可磁性相吸；将该遮罩吸附于该第一表面并遮蔽已镀膜的该第一表面的预定区域；利用磁力研磨去除该第一表面。
3、的该预定区域之外的膜层；去除该遮罩以于该工件的第一表面获得该图案。2如权利要求1所述的镀膜加工方法，其特征在于对该第一表面进行磁力研磨之后，去除该遮罩之前，对该第一表面进行抛光。3如权利要求1所述的镀膜加工方法，其特征在于去除该遮罩之后，对该图案的边缘进行修饰。4如权利要求1所述的镀膜加工方法，其特征在于该工件由可被磁性物质吸引的金属或合金制成，该遮罩由磁性材料制成。5如权利要求4所述的镀膜加工方法，其特征在于该工件的材质为不锈钢。6如权利要求1所述的镀膜加工方法，其特征在于该膜层为金属膜层。7如权利要求1所述的镀膜加工方法，其特征在于该膜层为单层膜。8如权利要求1所述的镀膜加工方法，其特征在。
4、于该膜层包括多层膜。权利要求书CN102373407ACN102373410A1/3页3镀膜加工方法技术领域0001本发明涉及镀膜加工方法，尤其涉及在薄膜沉积后的表面形成预定图案的方法。背景技术0002传统的镀膜技术领域，在工件表面加工以形成图案的方法通常是将预定的图案区域之外掩盖，而直接对该预定的图案区域进行镀膜。然，由于遮盖非图案区域的遮罩具有一定的厚度，因此当对图案区域镀膜之后，因此遮罩的厚度导致部分反应微粒附着，从而导致图案的边缘不清晰且整个图案的厚度不均。边缘不清晰在高倍显微镜下表现得边缘模糊，即，图案精度太低，尤其是当待镀表面形状复杂时，更难形成高精度图案。图案厚度不均则会引起图案。
5、的物理性质不良，例如硬度及耐磨度变差。发明内容0003有鉴于此，提供一种高精度镀膜加工方法实为必要。0004一种镀膜加工方法，其包括以下步骤提供一个工件，该工件具有一个待加工形成图案的第一表面；采用物理气相沉积法对该第一表面沉积一膜层；提供一遮罩，该遮罩的形状与待形成的图案的形状相同，该遮罩与该工件可磁性相吸；将该遮罩吸附于该第一表面并遮蔽已镀膜的该第一表面的预定区域；利用磁力研磨去除该第一表面的该预定区域之外的膜层；去除该遮罩以于该工件的第一表面获得该图案。0005相对于现有技术，本发明采用的镀膜加工方法是在物理气相沉积镀膜的基础上采用遮罩遮住图案区域，并对非图案区域进行磁力研磨，从而避免直。
6、接对图案区域镀膜时所发生的图案边缘不清晰、产生晕影的缺陷，而且，由于采用磁力研磨可以对图案的边缘之外的区域进行精确的研磨，从而进一步提高图案的边缘的清晰度。由于先对图案所在的表面均沉积薄膜，所以可以最大限度地保证膜层厚度的均匀性，从而图案的物理性质较佳。附图说明0006图1是本发明实施例提供的镀过膜的工件的立体示意图。0007图2是本发明实施例提供的吸附有遮罩的镀过膜的工件的立体示意图。0008图3是已将非图案区域的膜层研磨、去除之后、显现该图案的工件的立体示意图。0009主要元件符号说明0010工件100011第一表面1010012膜层200013遮罩300014图案40具体实施方式说明书C。
7、N102373407ACN102373410A2/3页40015下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。0016请参阅图1，本发明实施例提供的镀膜加工方法至少包括以下步骤0017首先，提供一个工件10，该工件10具有一个第一表面101。该工件10由可被磁性物质吸引的金属或合金制成，具体地，该工件10可由金属制成，如铁、镍；或由含有金属的合金制成，例如不锈钢。0018其次，采用物理气相沉积法PHYSICALVAPORDEPOSITION，PVD对该第一表面101沉积一膜层20。物理气相沉积法是以物理机制来进行薄膜沉积而不涉及化学反应的制程技术，污染低。物理气相沉积法一般包括真空蒸镀、溅射蒸镀及离。
8、子蒸镀。本实施例采用单一腔体进行反应式磁控溅射镀膜法，亦可采用其它方式。0019本实施例中，该膜层20为金属单层膜，具有高度金属质感、色彩艳离饱满。在其它实施例中，该膜层可包括多层膜。0020请一并参阅图2，然后，提供一个遮罩30，该遮罩30的形状与待形成的图案的形状相同，该遮罩30对该第一表面101的遮蔽区域正好是图案的形状。该遮罩可与该工件磁性相吸。例如，该遮罩30具有较强的磁性，该工件10由可被磁性物质吸引的金属或合金制成。将该遮罩30吸附于该第一表面101并遮蔽已镀膜的该第一表面的预定区域。由于该遮罩30与该工件10可磁性相吸，所以该遮罩可以方便快捷地吸附、固定在该第一表面101而不会。
9、在后续流程中移动位置，从而最大限度地保证图案的精度。图案可以是文字、图形、数字、字母等各种标记，在本实施例中，该图案为圆形。0021然后，对该镀有膜层20的第一表面101进行磁力研磨以去除该预定区域之外的膜层20。0022磁力研磨是利用磁场作用进行研磨加工，其主要包括磁性浮动研磨和利用磁性磨料进行磁力研磨。本发明采用后者。具体来讲，先将该工件10放入由两个磁极形成的磁场中，在该工件10和磁极的间隙中放入磁性磨料。在磁场力的作用下，磨料沿磁力线方向整齐排列，形成一只柔软且具有一定刚性的“磁研磨刷”。当该工件10在磁场中旋转并作轴向振动时，该工件10与磁性磨料发生相对运动从而实现对膜层20的研磨加。
10、工。磁力研磨可利用改变磁场强度来控制研磨压力，由于磁极与工件表面之间有加工间隙14MM，因此可通过磁性磨料进行柔性研磨，尤其适合对异形表面及自由曲面进行研磨。0023请一并参阅图3，然后，去除该遮罩30，形成在该第一表面101的图案40即显露。该图案40的厚度可控制在2微米以内，图3中，图案40的厚度被增大以便清楚显示图案40与其它区域的厚度差异。0024进行磁力研磨之后，去除该遮罩30之前，可以对该第一表面101进行抛光。抛光可采用抛光轮为工具，抛光轮采用材质匀细经脱脂处理的木材或特制的细毛毡制成，其运动轨迹为均匀稠密的网状，抛光后的表面粗糙度非常低，在放大40倍的显微镜下观察不到任何表面缺。
11、陷。此外还可采用电解抛光。0025去除该遮罩30之后，还可对该图案40的边缘进行修饰。0026本实施例所提供的镀膜加工方法是在物理气相沉积镀膜的基础上采用遮罩遮住图案区域，并对非图案区域进行磁力研磨，从而避免直接对图案区域镀膜时所发生的图案边缘不清晰、产生晕影的缺陷，而且，由于采用磁力研磨可以对图案的边缘之外的区域进行精确的研磨，从而进一步提高图案的边缘的清晰度。由于先对图案所在的表面均沉积薄膜，说明书CN102373407ACN102373410A3/3页5所以可以最大限度地保证膜层厚度的均匀性，从而图案的物理性质较佳。0027可以理解的是，要满足遮罩30与工件10可磁性相互吸引，不一定要求遮罩30或工件10本身就具有较强磁性，该遮罩30或工件10可在一定条件下，例如外加磁场作用下被磁化后即可磁性相互吸引，在该外加磁场撤消后该工件10或遮罩30的磁性无需保留。0028可以理解的是，本领域技术人员还可于本发明精神内做其它变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。说明书CN102373407ACN102373410A1/2页6图1图2说明书附图CN102373407ACN102373410A2/2页7图3说明书附图CN102373407A。