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1、10申请公布号CN102373430A43申请公布日20120314CN102373430ACN102373430A21申请号201010263663422申请日20100826C23C14/35200601C23C14/06200601C23C14/1820060171申请人鸿富锦精密工业（深圳）有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号申请人鸿海精密工业股份有限公司72发明人张新倍陈文荣蒋焕梧陈正士万自成54发明名称壳体的制作方法及由该方法制得的壳体57摘要本发明提供一种壳体的制作方法，其包括如下步骤提供透明的基体，对基体的表面进行遮蔽，使用钛靶，以氧气和氮。
2、气为反应气体，氧气流量为1012SCCM，氮气流量为80140SCCM，采用磁控溅射方法对基体进行磁控溅射，溅射时间为2535分钟，以在基体的另一表面形成钛氧氮膜层，在该钛氧氮膜层上以磁控溅射方法形成铬膜层，使该钛氧氮膜层呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L坐标值介于45至52，A坐标值介于2至2，B坐标值介于16至18。本发明还提供一种上述方法制得的壳体，该壳体呈现出蓝色的外观。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页附图1页CN102373433A1/1页21一种壳体的制作方法，其包括如下步骤提供透明的基体；使用钛靶，以氧气和氮气为反应气体。
3、，氧气流量为1012SCCM，氮气流量为80140SCCM，采用磁控溅射方法对基体进行磁控溅射，溅射时间为2535分钟，以在基体的表面形成钛氧氮膜层；在该钛氧氮膜层上以磁控溅射方法形成铬膜层，溅射时间为05小时，使该钛氧氮膜层一侧呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L坐标值介于45至52，A坐标值介于2至2，B坐标值介于16至18。2如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于形成该钛氧氮膜层以氩气为工作气体，镀膜腔体的温度保持在0，钛靶的功率为812KW。3如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于所述磁控溅射该铬膜层时，以铬靶为靶材，铬靶功率为810KW。4如权利要求1所述的壳体的制作。
4、方法，其特征在于所述基体为透明玻璃或塑料。5如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于所述对基体的表面遮蔽是采用高温胶带进行遮蔽。6一种由权利要求15中的任一项所述的方法制得的壳体。权利要求书CN102373430ACN102373433A1/3页3壳体的制作方法及由该方法制得的壳体技术领域0001本发明涉及一种壳体的制作方法及由该方法制得的壳体。背景技术0002随着科技的不断进步，手机及计算机等各式电子装置也迅速发展，其功能亦愈来愈丰富。为了使电子装置的外壳具有更加丰富色彩，传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳，或藉由喷漆方式在电子装置的壳体表面形成色彩层。但是，使用塑料壳体不能呈现良好的。
5、金属质感。0003磁控溅射技术因其环保、制备的薄膜耐磨性好、产品外观极具金属质感等特点，因此在装饰性镀膜领域应用越来越广。通过磁控溅射虽然可以在塑料壳体上获得较佳的金属质感的膜层，但是膜层的颜色却不如烤漆、阳极处理等成膜工艺的颜色丰富，严重限制了磁控溅射工艺在装饰镀膜领域的竞争力。发明内容0004鉴于此，有必要提供一种具有蓝色及金属质感的壳体的制作方法。0005另外，还有必要提供一种由上述方法所制得的壳体。0006一种壳体的制备方法，包括如下步骤提供透明的基体，对基体的表面进行遮蔽，使用钛靶，以氧气和氮气为反应气体，氧气流量为1012SCCM，氮气流量为80140SCCM，采用磁控溅射方法对基。
6、体进行磁控溅射，溅射时间为2535分钟，以在基体的另一表面形成钛氧氮膜层，在该钛氧氮膜层上以磁控溅射方法形成铬膜层，溅射时间为05小时，使该钛氧氮膜层一侧呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L坐标值介于45至52，A坐标值介于2至2，B坐标值介于16至18。0007一种由上述方法制得的壳体，包括透明的基体及形成于基体上的复合膜层，该复合膜层包括钛氧氮膜层及铬膜层，该钛氧氮膜层直接形成于基体的表面上，该铬膜层形成于该钛氧氮膜层上，该复合膜层于该钛氧氮膜层一侧呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L坐标值介于45至52，A坐标值介于2至2，B坐标值介于16至18。0008本发明壳体的制作方法通过。
7、于透明基体的表面磁控溅射钛氧氮膜层和铬膜层的复合膜层，并通过控制溅射过程中反应气体的流量以使所述复合膜层形成特定的微观结构，而使所述壳体呈现出蓝色并有金属质感的外观，丰富了磁控溅射层的颜色，提高了产品的外观竞争力。附图说明0009图1是本发明较佳实施例的壳体的剖视示意图。0010主要元件符号说明0011壳体100012基体11说明书CN102373430ACN102373433A2/3页40013内表面1120014外表面1140015复合膜层130016钛氧氮膜层1310017铬膜层133具体实施方式0018本发明一较佳实施方式的壳体10如图1所示的制作方法包括如下步骤0019提供透明的基体。
8、11，该基体11可以为透明玻璃或透明塑料。0020该基体11包括内表面112及外表面114。0021对基体11进行表面清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。所述清洗包括将基体11放入盛装有乙醇及/或丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗。0022对基体11的外表面114进行遮蔽，以防止于内表面112形成复合膜层13时对外表面114造成污染。在本优选实施例使用高温胶带对外表面114进行遮蔽。0023将基体11固定于一磁控溅射镀膜机图未示的转架上，抽真空该镀膜机的腔体至8103PA，并使该腔体的温度保持在0左右，通入流量为400450SCCM标准状态毫升/分钟的高纯氩气，工作气。
9、体以氧气和氮气为反应气体，氧气流量为1012SCCM，氮气流量为80140SCCM；开启钛靶材的电源，设定功率为812KW，并设置转架的公转转速为3转每分钟REVOLUTIONPERMINUTE，RPM，对基体11的内表面112进行磁控溅射，以在该内表面112上形成钛氧氮膜层131。溅射形成该钛氧氮膜层131的时间为2535分钟。0024溅射所述钛氧氮膜层131后，关闭钛靶，停止通入氮气及氧气，然后开启铬靶并调节铬靶功率为810KW，继续进行磁控溅射，以在该钛氧氮膜层131上形成铬膜层133。溅射形成该铬膜层133的时间为05小时。0025所述铬膜层133形成后，即制得所述复合膜层13。002。
10、6磁控溅射完成后，撕掉高温胶带。0027根据上述步骤制作的复合膜层13透过基体11的外表面114呈蓝色，并具有较佳的金属质感。所述的复合膜层13于钛氧氮膜层131一侧呈现的色度坐标L，A，B为4552，22，1618。0028由于复合膜层13形成于基体11的内表面112，使用时，可将外表面114作为外观面，因而可以避免复合膜层13刮伤或脱落。0029所述壳体10的制作方法通过于透明的基体11的内表面112磁控溅射钛氧氮膜层131与铬膜层133的复合膜层13，并通过控制溅射过程中反应气体的流量、溅射时间等，以使所述复合膜层13形成特定的微观结构，而使所述壳体10呈现出蓝色并有金属质感的外观。00。
11、30请再一次参阅图1，由上述方法所制得的壳体10包括透明的基体11及形成于基体11上的复合膜层13。0031基体11可以为透明玻璃或塑料。基体11包括内表面112及与该内表面112相对说明书CN102373430ACN102373433A3/3页5的外表面114，该外表面114为该壳体的外观面，该复合膜层13形成于该内表面112上。0032复合膜层13包括钛氧氮膜层131及铬膜层133。该钛氧氮膜层131直接形成于基体11的内表面112。铬膜层133形成于该钛氧氮膜层131上，所述铬膜层133的透光率较低，其可很好地阻止光线透过，给钛氧氮膜层131起到衬底的作用，使该复合膜层13在钛氧氮膜层131一侧所呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L坐标值介于45至52，A坐标值介于2至2，B坐标值介于16至18，呈现为蓝色。0033应该指出，上述实施方式仅为本发明的较佳实施方式，本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化。这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。说明书CN102373430ACN102373433A1/1页6图1说明书附图CN102373430A。