用于管芯附着应用的粘合晶片 【技术领域】
本发明涉及在半导体封装的制造中使用的粘合剂和键合方法。本发明特别对制造芯片尺寸和层叠的管芯封装有用。
背景技术
芯片尺寸封装(CSP)在半导体封装中提供轻重量、小管脚(footprint)、高密度和提高的电气性能的优点。包括依次层叠的一个或多个集成半导体芯片的CSP进一步提高电气性能和减小空间和重量。
半导体被机械地和电气地连接到衬底，其又连接到其他器件或外部电源。衬底可以是刚性的如金属引线框架、陶瓷或叠片，或者它可以是柔性的如聚酰亚胺带。
将半导体连接到其衬底的一种公知方法是线键合，其中首先用膏剂或薄膜粘合剂将半导体芯片粘附到衬底，然后用细金属线将芯片上的有源端键合到衬底上的有源端。
历史上，膏剂粘合剂比薄膜粘合剂更经常使用。但是，使用薄膜粘合剂可更成功地制造某些CSP，因为薄膜可以更精确地适于芯片布局(x-y容差)，粘合层有最小的流失或没有流失，并且更容易控制粘合剂层厚度和粘合剂层倾斜。
但是，在制造芯片尺寸和层叠芯片尺寸封装中薄膜工艺和设备增加成本并且增加工艺时间。使用通常称为“拾起-和-放置”设备的放置机器，将半导体元件放置在它们合适的衬底上。该设备对于可靠地且足够精确地放置元件是重要的以便以成本效率的方式满足生产量需求。
在使用薄膜粘合剂制造CSP的一种方法中，由薄膜切开的贴花(decal)被拾起并放置在衬底上，并利用压力和热量层叠。然后半导体芯片被拾起并放置在粘合剂上，并用压力和/或热量层压到粘合剂。除拾起-和-放置设备之外，该方法需要专门的薄膜处理和层压设备。
在使用薄膜粘合剂的另一方法中，使用压力和/或热量将贴花冲压和层压在衬底上，然后将半导体芯片拾起并放置在粘合剂上且利用压力和/或热量层压到粘合剂。该方法需要为每个希望地贴花(decal)形状设置分开的冲压机以及专门的冲压机和薄膜层叠设备。
也可以使用上述两种方法和设备制造层叠芯片CSP，尽管需要的薄膜材料可能需要不同的厚度和显示出不同的流动性能。用于层叠芯片的工艺需要拾起和放置薄膜粘合剂的贴花在衬底上，并加热和加压，拾起和放置管芯在粘合剂上，且加热和加压。重复该工序，但是在此情况下粘合剂的贴花放置在第一(母)芯片的顶部且层压，接着在母芯片上放置几何形状相同或不同的第二(子)芯片。然后层压子芯片。一般，母芯片和子芯片放置和层压都需要专门的薄膜层压设备。
在另一方法中，粘合剂薄膜被直接层压到半导体晶片的背侧，然后使用一般的晶片切割设备切割成单个管芯(单数化(singulation))。粘合剂保持为层叠到单个管芯上并且现在拾起管芯并放置到衬底上，或在管芯堆叠的情况下放置到另一管芯上。利用压力和/或热量将管芯层叠到衬底或第一管芯。该方法需要专门的薄膜层压设备以及专门的薄膜管芯键合设备。
尽管用于CSP和层叠芯片CSP的薄膜粘合剂有优点，但是半导体封装工业有一个比较重要的因素，由于更低的成本、容易使用以及工业中该设备的可用性，更喜欢用于膏剂粘合剂涂覆的工艺和设备。
用于使用膏剂粘合剂将半导体芯片键合到衬底的标准拾起-和-放置设备，首先将膏剂粘合剂分配到衬底上，然后拾起芯片并将芯片放置到粘合剂上。在放置过程中衬底搁在其上的放置台可被加热或不被加热，但是通过拾起-和-放置工具施加的压力可用于优化管芯粘附的质量。这类设备一般不具有后层叠(post lamination)能力并且目前比使用薄膜所需要的设备更便宜。
使用这类设备的拾起-和-放置、加热以及加压部件借助薄膜粘合剂制造具有单个芯片或层叠芯片的半导体封装的潜能具有时间和成本的优点。避免了昂贵的冲压组件以及层压部件，以及操作本身花费较少时间。而且，一般的半导体封装工艺需要晶片切割能力以及对薄膜的物理性能的合适选择，该切割设备可用于将薄膜粘合剂切割为适当的结构。
【发明内容】
现在已发现可以用无支撑的薄膜粘合剂或支撑在刚性载体上的粘合剂利用为使用膏剂粘合剂构造的标准管芯粘附设备完成CSP或层叠芯片CSP的制造。本发明是用于使用无支撑薄膜粘合剂或支撑在刚性载体上的粘合剂制造半导体的方法。
【具体实施方式】
无支撑的粘合剂可以是具有模量高于120MPa和与晶片切割带的粘附力小于0.1MPa的任意热塑性、热固性或热塑性和热固性粘合剂的组合物。合适的粘合剂是环氧树脂、氰酸盐酯、聚酰亚胺、硅氧烷聚酰亚胺、顺丁烯二酰亚胺、硅树脂或这些粘合剂的任意组合物。
支撑的粘合剂由在一侧或两侧上涂敷热塑性或热固性粘合剂的刚性载体构成，热塑性或热固性粘合剂显示出与晶片切割带的粘附力小于0.1MPa。如果两侧都涂敷，在每一侧上的粘合剂可以是相同或不同的组成。刚性层的存在便于在切断和拾起-和-放置过程中的处理以及在特别厚和在两个键合表面之间需要受控制的距离的情况下用作隔片。
刚性载体可以是无机材料如陶瓷、硅或金属，或可以是有机材料如聚酰亚胺或聚酯，或可以是无机和有机材料的任意组合物如整个合成物显示出120MPa的模量和与切割带的粘附力小于0.1MPa的FR-和BT层压板。
在这些物理参数内，支撑的或无支撑的粘合剂都可以通过用来处理半导体晶片的标准设备处理，如用于晶片切割带的涂敷器(applicator)、切割锯以及拾起-和-放置设备(具有加热部件的管芯键合机)。使用标准晶片切割带层压设备将粘合剂涂敷到晶片切割带。然后在和硅晶片切割同样的工序中将粘合剂锯为单个贴花。(由于避免了过量处理和十分薄的易碎晶片的层压，因此该方法优于晶片背侧层压方法。)
用和使用一般膏剂键合器的管芯粘附一样的方法执行粘合剂粘附。粘合剂贴花被从晶片切割带拾起并放置到选定的衬底上并使用压力和/或热量层压到衬底。然后半导体管芯被拾起并放置到粘合剂上以及使用压力和/或热量层压。
对于层叠芯片尺寸封装，使用在先粘附的半导体芯片作为衬底重复该工序多次，重复的次数与需要层叠在一起的半导体管芯的数目相同。
在下面例1和例2中，薄膜粘合剂具有高于120MPa的模量并且对晶片切割带的粘附力小于0.1MPa。例子3中的载体不满足该这些条件。
例1：使用层叠设备在下列条件下将提供为12英寸×12英寸×2密耳厚片的薄膜热固性环氧粘合剂(来自Ablestik实验室的RP571-10)，层叠到BT层叠板(三菱财团气体化学有限公司，8英寸×8英寸×8密耳厚度)的两侧上：
速度： 30.5厘米/分
温度： 135°F
压力： 40psi
然后将层压粘合剂安装在切割带上(Nitto SPV224)并使用设为以下参数的Disco DAD320切割机切割成4毫米×6毫米贴花：
刀片： NBC-ZH27HEEE
主轴转速： 30000转/分
进料速率： 2.54厘米/秒
切割模式： 向下切割
用具有拾起-和-放置能力的ESEC Die Bonder 2007 LOC管芯键合器测试切割的粘合剂的被处理能力，两次试验设为以下参数：
试验 #1 #2
拾起z-高度(密耳) 177 177
拾起时间(毫秒) 50 50
箔接触时间(毫秒) 60 0
针顶部高度(密耳) 45 45
喷射器高度偏移量(密耳) 9.8 9.8
针速度(毫米/秒) 30 30
成功次数/试验次数 10/10 10/10
为两个箔接触时间的每一个进行十次测试，且两个箔接触时间的每一个成功十次。该例子说明使用标准拾起-和-放置设备能从晶片切割带拾下粘合剂。
例2：单层聚乙烯(美国塑料30.48厘米×30.48厘米×3密耳厚度)安装在Nitto SPV-224切割带上并使用Disco DAD 320切割机用NBC-ZH 27HEEE刀片、30000转/分的主轴转速以及进料速率2.54厘米/秒将其切割成4毫米×6毫米尺寸。切割条件是：
切割模式 A
切割形状 正方形
主轴转速 32000转/分
工件厚度 7密耳
带厚 3密耳
刀片高度 2密耳
进料速度 0.5厘米/秒
Y指数 CH10.4厘米
CH20.6厘米
用具有拾起-和-放置性能的ESEC Die Bonder 2007 LOC管芯键合器测试切割的粘合剂的被处理能力，键合器设为以下参数：
拾起z高度(毫米) 6.00至5.52
拾起时间(毫秒) 600至6000
箔接触时间(毫秒) 200
针顶部高度(毫米) 0至1.80
喷射器高度偏移量(毫米) 0
针速度(毫米/秒) 30至110
键合臂状态 停放位置
喷射器状态 定标高度
针状态 底部位置
键合臂z定位(毫米) 2.17
芯片厚度(毫米) 0.17
针类型 圆头
成功次数/试验次数 10/10
例3：进行与例子2一样的测试，除衬底材料是5密耳的硅树脂以外。十次测试中拾起失败十次。