双面配线基板的制造方法 【技术领域】
本发明涉及在绝缘层的双面形成了导体配线的双面配线基板的制造方法，尤其涉及适合制造软性配线基板的制造方法。背景技术
以往的双面配线基板，一般利用图6所示的方法制造。即，如图6A所示，使用在聚醯亚胺等的绝缘层的双面形成了铜箔等的导体层62印刷基板材料6，如图6B所示，对于该材料6，利用使用雷射或模具等钻孔、化学性溶解或并用这些方法，形成贯穿孔63。其次，如图6C所示，利用药液处理或蒸镀、溅镀等方法在贯穿孔63的壁面形成导电性薄膜层64。其次，如图6D所示，利用电解电镀在包含薄膜层64上的基板材料6的表背面整体形成由铜等构成的导体层65。其次，如图6E所示，用感旋光性地皮膜66被覆导体层65后，如图6F所示，将和既定的导体配线图案对应的部位曝光解像，形成具有耐药液性的皮膜67后，利用药液在化学上溶解未用该皮膜67被覆的导体层65及导体层62。最后，如图6G所示，借着除去皮膜67，制造双面配线基板60。
上述的以往的双面配线基板60的制造方法，使用所谓的减层法，除去在导体层62的双面所形成的导体层62的中在导体配线图案上不需要的部分。发明内容
可是，在近年来的双面配线基板，配线的高密度化或微细化的要求高涨，到目前为止利用减层法的配线形成，正处于对该要求的适应困难的情况。具体而言，在减层法的情况，如上述所示，借着将把和既定的导体配线图案对应的部位曝光解像后所得到的具有耐药液性的皮膜67用作屏蔽，使用药液将导体层65及导体层62溶解，形成导体配线。在本方法，在微细配线或高密度配线的情况，溶解用药液的液体流动差，溶解速度因配线宽度或间隙宽度而大为不同，具有难形成均匀的配线的问题。另外，具有导体层65及导体层62的表层的配线宽度和底面的配线宽度的差异易变大的问题。
然而，还有已知的加层法，和上述的减层法不同，在绝缘基板材料上利用电解电镀等形成导体配线。可是，尤其在软性配线基板的情况，因该绝缘基板材料成为具有柔性的薄膜，在长尺寸搬运的情况，因搬运张力而在绝缘基板材料必然发生的应力大至无法忽略的程度，结果，具有尺寸安定性降低或易发生弯曲的问题。还有，在利用电解电镀形成导体配线的情况，因导体配线变成电解析出金属，弯曲特性等柔曲特性劣化，也有不适合需要充分的柔曲特性的双面配线基板的制造方法的问题。
为解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种双面配线基板的制造方法，可适应高密度微细配线，并在应用于软性配线基板的制造的情况，具备尺寸安定性，难发生弯曲，而且可得到也可用于挠曲用途的双面配线基板。
本发明提供了一种双面配线基板的制造方法，其特征为，对于在第一导体层的一面形成了第一绝缘层的基板材料，具备以下的步骤：第一步骤，从该第一绝缘层的既定部位形成只贯穿该第一绝缘层或贯穿该第一绝缘层及该第一导体层双方的导通孔；第二步骤，在该第一绝缘层的表面及该导通孔的壁面形成导电性薄膜层；第三步骤，在该导电性薄膜层上的既定部位形成第二绝缘层；第四步骤，在该导电性薄膜层上的未形成该第二绝缘层的部位利用电镀形成第一导体配线；第五步骤，用具有耐药液性的皮膜被覆该第一导体配线；第六步骤，借着利用药液在化学上令溶解该第一导体层的另一面的既定部位；以及第七步骤，除去该第二绝缘层及该皮膜。
根据本发明，因利用电镀形成第一导体配线，该第一导体配线可满足高密度微细配线的要求。即，可形成均匀的第一导体配线，不受到配线宽度或间隙宽度的影响，而且可使表层的配线宽度和底面的配线宽度的差异变成极小。此外，第二导体配线本身因利用使用药液在化学上溶解除去第一导体层的另一面的既定部位的所谓的减层法形成，难应付高密度微细配线，但是因自第二导体配线经由导通孔可向第一导体配线拉线，在制造的双面配线基板整体上可应付高密度微细配线的要求。
还有，将本发明的制造方法应用于软性配线基板的制造的情况，也因在利用电镀形成第一导体配线的第四步骤的阶段，已在第一绝缘层(在此情况，成为具有柔性的薄膜状的绝缘层)形成第一导体层，可使在长尺寸搬运的情况的搬运张力的影响大为降低，结果，可得到具备尺寸安定性、难发生弯曲的双面配线基板。即，因一般导体层的弹性比绝缘层高，由于该第一导体层的存在，可使分散乃至于缓和在基板材料发生的应力，可使搬运张力的影响大为降低。
此外，借着在需要弯曲特性等挠曲特性的部位形成第二绝缘层，使得不利用电镀形成第一导体配线(依据情况，除此以外，令在化学上溶解位于未形成该第一导体配线的部位的第一导体层的另一面)，可得到充分的挠曲特性。附图说明
图1表示本发明的实施例1的双面配线基板的制造方法的示意图。
图2表示本发明的实施例2的双面配线基板的制造方法的示意图。
图3表示本发明的实施例3的双面配线基板的制造方法的示意图。
图4表示本发明的实施例4的双面配线基板的制造方法的示意图。
图5表示本发明的实施例5的双面配线基板的制造方法的示意图。
图6表示以往的双面配线基板的制造方法的示意图。图中的符号说明
1、2、3、4、5 基板材料
11、21、31、41、51 第一导体层
12、22、32、42、52 第一绝缘层
13、23、33、43、53 导通孔
14、24、34、44、54 导电性薄膜层
15、25、35、45、55 第二绝缘层
16、26、36、46、56 第一导体配线
17、27、37、47、57 皮膜
18、28、38、48、58 第二导体配线具体实施方式
以下，配合附图，详细说明本发明的实施例。实施例1
图1表示本发明的实施例1的双面配线基板的制造方法的示意图。如图1A所示，本实施形态的制造方法，使用在第一导体层11的一面形成了第一绝缘层12的基板材料1。在此，在第一导体层11上，使用铜箔、铜合金、不锈钢、镍等可利用药液加工的金属或金属箔较好，其厚度一般设为1～100μm，设为3～30μm较好。另外，在第一绝缘层12上使用聚醯亚胺系树脂等在耐药性、耐热性、高尺寸安定性优异的树脂较好，其厚度一般设为3～200μm，设为5～100μm较好。
其次，如图1B所示，对于基板材料1，从第一绝缘层12的既定部位形成贯穿第一绝缘层12及第一导体层11双方的导通孔13。此外，在导通孔13的形成方法上可使用利用雷射或模具等钻孔、利用药液溶解、感旋光性树脂等熟悉的方法，导通孔13的孔径一般设为10～500μm，设为30～300μm较好。
其次，如图1C所示，在第一绝缘层12的表面及导通孔13的壁面形成导电性薄膜层14。此外，在导电性薄膜层14上，使用Ni、Cr、Cu、Ni/Cr合金、Cu/Ni合金、Ti、或使用这些的合金较好，使用Cr、Ni/Cr合金等Cr系金属更好，其厚度一般设为3～3000，设为5～2000较好。又，导电性薄膜层14不限单层，按照需要将多层积层也可。
其次，如图1D所示，在导电性薄膜层14上的既定部位形成第二绝缘层15。此外，在第二绝缘层15上使用具有耐电解电镀液的，其厚度比后述的第一导体配线16的电镀厚度厚较好。例如，在将第一导体配线16的电镀厚度设为10μm的情况，形成厚度15μm的第二绝缘层15。又，为了将第二绝缘层15加工成后述的第一导体配线16的图案的形状，例如，在第二绝缘层15上使用感旋光性的绝缘材料，将和该绝缘材料的该导体配线图案对应的部位曝光、解像后，将未解像的部位的绝缘材料溶解即可。
其次，如图1E所示，在导电性薄膜层14上的未形成第二绝缘层15的部位，利用电解电镀形成第一导体配线16。在此，在本实施例中，在未形成导电性薄膜层14的第一导体层11的另一面也利用该电解电镀形成导体层16’。此外，该电解电镀例如借着将基板材料1浸泡于电解硫酸铜电镀液中进行。
其次，如图1F所示，第一导体配线16例如用对于氯化亚铁或氯化亚铜的酸具有耐药液性的皮膜17被覆。在此，在皮膜17上例如使用感旋光性的绝缘材料，借着将该绝缘材料的整个面曝光、解像，形成具有耐药液性的皮膜17。此外，在本实施例中，在导体层16’上也形成一样的皮膜17’，但是皮膜17’和整个面曝光、解像的皮膜17不同，只有将和第二导体配线18图案对应的部位曝光、解像，变成只有该部位具有耐药液性。又，皮膜17’和第二绝缘层15不同，因具有作为利用减层法形成后述的第二导体配线18时的保护膜的功能，基于使表层的配线宽度和底面的配线宽度的差异变小等观点，其厚度愈薄(例如15μm以下)愈好，例如可借着使用液状的抗蚀剂而形成。
其次，如图1G所示，利用药液在化学上令第一导体层11的另一面的既定部位(在本实施形态也包含皮膜17’及导体层16’的既定部位)溶解，形成第二导体配线18。即，利用减层法形成第二导体配线18。此外，在本实施形态的导体层的溶解上使用酸(例如氯化亚铁或氯化亚铜)。
其次，如图1H所示，除去皮膜17、17’以及第二绝缘层15。此外，皮膜17、17’以及第二绝缘层15例如可利用碱性药液剥离后除去。
最后，如图1I所示，除去在第一绝缘层12上残留的导电性薄膜层14，完成具有第一导体配线16及第二导体配线18的双面配线基板10。此外，导电性薄膜层14例如可利用酸性药液剥离后除去。
此外，在利用本实施形态的方法所制造的双面配线基板10的既定部位只利用第一绝缘层12构成，未利用电解电镀形成第一导体配线16及第二导体配线18，借着由例如由具有挠性的薄膜状材料形成第一绝缘层12，在该部位19可得到充分的弯曲特性。实施例2
图2表示本发明的实施例2的双面配线基板的制造方法的示意图。如图2A所示，在本实施形态的制造方法，也和实施例1一样，使用在第一导体层21的一面形成了第一绝缘层22的基板材料2。关于形成第一导体层21及第一绝缘层22的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图2B所示，对于基板材料2，从第一绝缘层22的既定部位形成贯穿第一绝缘层22及第一导体层21双方的导通孔23。此外，关于导通孔23的较好的形成方法或孔径，和实施例1的一样。
其次，如图2C所示，在第一绝缘层22的表面及导通孔23的壁面形成导电性薄膜层24。此外，关于导电性薄膜层24的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图2D所示，在导电性薄膜层24上的既定部位形成第二绝缘层25。此外，在本实施例中，在第一导体层21的另一面上的既定部位也形成绝缘层25’。此外，关于第二绝缘层25及绝缘层25’的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图2E所示，在导电性薄膜层24上的未形成第二绝缘层25的部位，利用电解电镀形成第一导体配线26。在此，在本实施例中，在未形成导电性薄膜层24的第一导体层21的另一面上的未形成绝缘层25’的部位也利用该电解电镀形成导体层26’。此外，该电解电镀和实施例1的一样，例如借着将基板材料2浸泡于电解硫酸铜电镀液中进行。
其次，如图2F所示，第一导体配线26例如用对于氯化亚铁或氯化亚铜的酸具有耐药液性的皮膜27被覆。此外，在本实施例中，也和实施例1的一样，在导体层26’上也形成一样的皮膜27’。关于皮膜27、27’的较好的材料或厚度，各自和在实施例1的皮膜17、17’一样。
其次，如图2G所示，利用药液在化学上令第一导体层21的另一面的既定部位(在本实施形态也包含皮膜27’及导体层26’的既定部位)溶解，形成第二导体配线28。此外，溶解方法和实施例1的一样。
其次，如图2H所示，除去皮膜27、27’、第二绝缘层25以及绝缘层25’。此外，这些除去方法和实施例1的一样。
最后，如图2I所示，除去在第一绝缘层22上残留的导电性薄膜层24，完成具有第一导体配线26及第二导体配线28的双面配线基板20。此外，导电性薄膜层24的除去方法和实施例1的一样。
此外，因在利用本实施形态的方法所制造的双面配线基板20的既定部位只利用第一绝缘层22和第一导体层21构成，未利用电解电镀形成第一导体配线26，借着由例如由具有挠性的薄膜状材料形成第一绝缘层22，由轧铜箔等形成第一导体层21，在该部位29可得到充分的弯曲特性。实施例3
图3表示本发明的实施例3的双面配线基板的制造方法的示意图。如图3A所示，在本实施形态的制造方法，也和实施例1一样，使用在第一导体层31的一面形成了第一绝缘层32的基板材料3。关于形成第一导体层31及第一绝缘层32的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图3B所示，对于基板材料3，从第一绝缘层32的既定部位形成贯穿第一绝缘层32及第一导体层31双方的导通孔33。此外，关于导通孔33的较好的形成方法或孔径，和实施例1的一样。
其次，如图3C所示，在第一绝缘层32的表面及导通孔33的壁面形成导电性薄膜层34。此外，关于导电性薄膜层34的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图3D所示，在导电性薄膜层34上的既定部位形成第二绝缘层35。此外，在本实施例中，在第一导体层31的另一面上的既定部位也形成绝缘层35’。此外，关于第二绝缘层35及绝缘层35’的较好的材料或厚度，和在实施例1的第二绝缘层15一样。
其次，如图3E所示，在导电性薄膜层34上的未形成第二绝缘层35的部位，利用电解电镀形成第一导体配线36。在此，在本实施例中，因在第一导体层31的另一面的整个面形绝缘层35’，在第一导体层31的另一面未利用电解电镀形成导体层。此外，该电解电镀和实施例1的一样，例如借着将基板材料3浸泡于电解硫酸铜电镀液中进行。
其次，如图3F所示，第一导体配线36例如用对于氯化亚铁或氯化亚铜的酸具有耐药液性的皮膜37被覆。此外，在本实施例中，也和实施例1的一样，在绝缘层35’上也形成一样的皮膜37’。关于皮膜37、37’的较好的材料或厚度，各自和在实施例1的皮膜17、17’一样。
其次，如图3G所示，利用药液在化学上令第一导体层31的另一面的既定部位(在本实施形态也包含皮膜37’及绝缘层35’的既定部位)溶解，形成第二导体配线38。此外，溶解方法和实施例1的一样。
其次，如图3H所示，除去皮膜37、37’、第二绝缘层35以及绝缘层35’。此外，这些除去方法和实施例1的一样。
最后，如图3I所示，除去在第一绝缘层32上残留的导电性薄膜层34，完成具有第一导体配线36及第二导体配线38的双面配线基板30。此外，导电性薄膜层34的除去方法和实施例1的一样。实施例4
图4表示本发明的实施例4的双面配线基板的制造方法的示意图。如图4A所示，在本实施形态的制造方法，也和实施例1一样，使用在第一导体层41的一面形成了第一绝缘层42的基板材料4。关于形成第一导体层41及第一绝缘层42的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图4B所示，对于基板材料4，从第一绝缘层42的既定部位形成只贯穿第一绝缘层42的导通孔43。此外，关于导通孔43的较好的形成方法或孔径，和实施例1的一样。
其次，如图4C所示，在本实施例中，在第一绝缘层42的表面和导通孔43的壁面以及导通孔43的底面，即第一导体层41的露出面形成导电性薄膜层44。此外，关于导电性薄膜层44的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图4D所示，在导电性薄膜层44上的既定部位形成第二绝缘层45。此外，在本实施例中，在第一导体层41的另一面上的既定部位也形成绝缘层45’。此外，关于第二绝缘层45及绝缘层45’的较好的材料或厚度，和在实施例1的第二绝缘层15一样。
其次，如图4E所示，在导电性薄膜层44上的未形成第二绝缘层45的部位，利用电解电镀形成第一导体配线46。在此，在本实施例中，因在第一导体层41的另一面的整个面形绝缘层45’，在第一导体层41的另一面未利用电解电镀形成导体层。此外，该电解电镀和实施例1的一样，例如借着将基板材料4浸泡于电解硫酸铜电镀液中进行。
其次，如图4F所示，第一导体配线46例如用对于氯化亚铁或氯化亚铜的酸具有耐药液性的皮膜47被覆。此外，在本实施例中，也和实施例1的一样，在绝缘层45’上也形成一样的皮膜47’。关于皮膜47、47’的较好的材料或厚度，各自和在实施例1的皮膜17、17’一样。
其次，如图4G所示，利用药液在化学上令第一导体层41的另一面的既定部位(在本实施形态也包含皮膜47’及绝缘层45’的既定部位)溶解，形成第二导体配线48。此外，溶解方法和实施例1的一样。
其次，如图4H所示，除去皮膜47、47’、第二绝缘层45以及绝缘层45’。此外，这些除去方法和实施例1的一样。
最后，如图4I所示，除去在第一绝缘层42上残留的导电性薄膜层44，完成具有第一导体配线46及第二导体配线48的双面配线基板40。此外，导电性薄膜层44的除去方法和实施例1的一样。实施例5
图5表示本发明的实施例5的双面配线基板的制造方法的示意图。如图5A所示，在本实施形态的制造方法，也和实施例1一样，使用在第一导体层51的一面形成了第一绝缘层52的基板材料5。关于形成第一导体层51及第一绝缘层52的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图5B所示，对于基板材料5，从第一绝缘层52的既定部位形成只贯穿第一绝缘层52的导通孔53。此外，关于导通孔53的较好的形成方法或孔径，和实施例1的一样。
其次，如图5C所示，在第一绝缘层52的表面、导通孔53的壁面以及导通孔53的底面形成导电性薄膜层54。此外，关于导电性薄膜层54的较好的材料或厚度，和实施例1的一样。
其次，如图5D所示，在导电性薄膜层54上的既定部位形成第二绝缘层55。此外，在本实施例中，在第一导体层51的另一面的整个面也形成绝缘层55’。此外，关于第二绝缘层55及绝缘层55’的较好的材料或厚度，和在实施例1的第二绝缘层15一样。
其次，如图5E所示，在导电性薄膜层54上的未形成第二绝缘层55的部位，利用电解电镀形成第一导体配线56。在此，在本实施例中，因在第一导体层51的另一面的整个面形绝缘层55’，在第一导体层51的另一面未利用电解电镀形成导体层。此外，该电解电镀和实施例1的一样，例如借着将基板材料5浸泡于电解硫酸铜电镀液中进行。
其次，如图5F所示，第一导体配线56例如用对于氯化亚铁或氯化亚铜的酸具有耐药液性的皮膜57被覆。此外，在本实施例中，也和实施例1的一样，在绝缘层55’上也形成一样的皮膜57’。关于皮膜57、57’的较好的材料或厚度，各自和在实施例1的皮膜17、17’一样。
其次，如图5G所示，利用药液在化学上令第一导体层51的另一面的既定部位(在本实施形态也包含皮膜57’及绝缘层55’的既定部位)溶解，形成第二导体配线58。此外，溶解方法和实施例1的一样。
其次，如图5H所示，除去皮膜57、57’、第二绝缘层55以及绝缘层55’。此外，这些除去方法和实施例1的一样。
最后，如图5I所示，除去在第一绝缘层52上残留的导电性薄膜层54，完成具有第一导体配线56及第二导体配线58的双面配线基板50。此外，导电性薄膜层54的除去方法和实施例1的一样。
此外，利用以上所说明的实施例6～5的制造方法所制造的双面配线基板，有按照需要在第一导体配线及第二导体配线上形成绝缘层(cover lay)，还有按照需要在该绝缘层上进行镀金等表面处理的情况。实施例6
在本实施例，按照图1所示的实施例1的制造方法制造了双面配线基板。首先，在基板材料1上，使用在由厚度12μm的铜箔构成的第一导体层11上直接形成了作为第一绝缘层12的厚度25μm的聚醯亚胺树脂的包铜叠层板(例如新日铁化学制ESPANEX、三井化学制NEOFLEX等)。其次，利用YAG雷射形成了孔径75μm的导通孔13。接着，利用溅镀形成了由厚度500的Ni/Cr合金构成的导电性薄膜层14。接着，在第二绝缘层15上，利用叠层板将厚度15μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如旭化成制SPG152)叠层，经由可遮光既定位置的玻璃屏蔽，对第二绝缘层15照射紫外线后，在碱性溶液中进行解像。接着，借着将基板材料1浸泡于电解硫酸铜电镀液中，以2.5A/dm2电镀约18分钟，形成了由厚度8μm的铜电镀配线构成的第一导体配线16。又，在第一导体层11的另一面的整个面也形成由厚度8μm的铜电镀配线构成的导体层16’，和第一导体层11合在一起，形成了总厚度20μm的铜层。接着，在皮膜17、17’上利用叠层板将厚度10μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如旭化成制SFG102)叠层，按照所要的配线图案将皮膜17’曝光解像后，使用氯化亚铁将该厚度20μm的铜层溶解，形成了第二导体配线18。再将皮膜17、17’、第二绝缘层15以及导电性薄膜层14除去后，得到双面配线基板10。在利用本实施例所制造的双面配线基板10，确认了均匀的形成第一导体配线16，表层的配线宽度和底面的配线宽度极小。又，具备尺寸安定性，难发生卷曲，可得到充分的弯曲特性。实施例7
在本实施例，按照图2所示的实施例2的制造方法制造了双面配线基板。首先，在基板材料2上，使用在由厚度12μm的铜箔构成的第一导体层21上直接形成了作为第一绝缘层22的厚度12μm的聚醯亚胺树脂的包铜叠层板(例如新日铁化学制ESPANEX、三井化学制NEOFLEX等)。其次，利用YAG雷射形成了孔径100μm的导通孔23。接着，利用溅镀形成了由厚度300的Ni/Cr合金构成的导电性薄膜层24。接着，在第二绝缘层25及绝缘层25’上，利用叠层板将厚度15μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如旭化成制SPG152)叠层，经由可遮光既定位置的玻璃屏蔽，对第二绝缘层25及绝缘层25’照射紫外线后，在碱性溶液中进行解像。接着，借着将基板材料2浸泡于电解硫酸铜电镀液中，以2.5A/dm2电镀约20分钟，形成了由厚度10μm的铜电镀配线构成的第一导体配线26。又，在第一导体层21的另一面的整个面的未形成绝缘层25’的部位也形成由厚度10μm的铜电镀配线构成的导体层26’，和第一导体层21合在一起，形成了总厚度系22μm的铜层。接着，在皮膜27、27’上利用叠层板将厚度6μm的感旋光性的绝缘薄膜(日立化成制RY3206)叠层，按照所要的配线图案将皮膜27’曝光解像后，使用氯化亚铁将该厚度22μm的铜层溶解，形成了第二导体配线28。再将皮膜17、17’、第二绝缘层25以及导电性薄膜层24除去后，得到双面配线基板20。在利用本实施例所制造的双面配线基板20，确认了均匀的形成第一导体配线26，表层的配线宽度和底面的配线宽度极小。又，具备尺寸安定性，难发生卷曲，可得到充分的弯曲特性。实施例8
在本实施例，按照图3所示的实施例3的制造方法制造了双面配线基板。首先，在基板材料3上，使用在由厚度18μm的铜箔构成的第一导体层31上直接形成了作为第一绝缘层32的厚度12μm的聚醯亚胺树脂的包铜叠层板(例如新日铁化学制ESPANEX、三井化学制NEOFLEX)。其次，利用冲孔加工形成了孔径150μm的导通孔33。接着，利用溅镀形成了由厚度400的Cr构成的导电性薄膜层34。接着，在第二绝缘层35及绝缘层35’上，利用叠层板将厚度25μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如旭化成制SPG252)叠层，经由可遮光既定位置的玻璃屏蔽，对第二绝缘层35及绝缘层35’照射紫外线后，在碱性溶液中进行解像。接着，借着将基板材料3浸泡于电解硫酸铜电镀液中，以2.5A/dm2电镀约36分钟，形成了由厚度18μm的铜电镀配线构成的第一导体配线36。接着，在皮膜37、37’上利用叠层板将厚度6μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如日立化成制RY3206)叠层，按照所要的配线图案将皮膜37’曝光、解像后，使用氯化亚铁将该厚度18μm的第一导体层31溶解，形成了第二导体配线38。再将皮膜37、37’、第二绝缘层35、绝缘层35’以及导电性薄膜层34除去后，得到双面配线基板30。在利用本实施例所制造的双面配线基板30，确认了均匀的形成第一导体配线36，表层的配线宽度和底面的配线宽度极小。另外，具备尺寸安定性，难发生卷曲，可得到充分的弯曲特性。实施例9
在本实施例，按照图4所示的实施例4的制造方法制造了双面配线基板。首先，在基板材料4上，使用在由厚度18μm的铜箔构成的第一导体层41上直接形成了作为第一绝缘层42的厚度12μm的聚醯亚胺树脂的包铜叠层板(例如新日铁化学制ESPANEX、三井化学制NEOFLEX)。其次，利用药液形成了孔径80μm的导通孔43。接着，利用溅镀形成了由厚度400的Ni/Cr合金构成的导电性薄膜层44。再利用溅镀在导电性薄膜层44上形成了由Cu构成的导电性薄膜层。接着，在第二绝缘层45及绝缘层45’上，利用叠层板将厚度25μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如旭化成制SPG252)叠层，经由可遮光既定位置的玻璃屏蔽，对第二绝缘层45及绝缘层45’照射紫外线后，在碱性溶液中进行解像。接着，借着将基板材料4浸泡于电解硫酸铜电镀液中，以2.5A/dm2电镀约18分钟，形成了由厚度8μm的铜电镀配线构成的第一导体配线46。接着，在皮膜47、47’上利用叠层板将厚度6μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如日立化成制RY3206)叠层，按照所要的配线图案将皮膜47’曝光解像后，使用氯化亚铁将该厚度18μm的第一导体层41溶解，形成了第二导体配线48。再将皮膜47、47’、第二绝缘层45、绝缘层45’以及导电性薄膜层44除去后，得到双面配线基板40。在利用本实施例所制造的双面配线基板40，确认了均匀的形成第一导体配线46，表层的配线宽度和底面的配线宽度极小。而且，具备尺寸安定性，难发生卷曲，可得到充分的弯曲特性。实施例10
在本实施例中，按照图5所示的实施例5的制造方法制造了双面配线基板。首先，在基板材料5上，使用在由厚度18μm的铜箔构成的第一导体层51上直接形成了作为第一绝缘层52的厚度12μm的聚醯亚胺树脂的包铜叠层板。其次，利用药液形成了孔径80μm的导通孔53。接着，利用溅镀形成了由厚度400的Ni/Cr合金构成的导电性薄膜层54。接着，在第二绝缘层55及绝缘层55’上，利用叠层板将厚度25μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如旭化成制SPG252)叠层，经由可遮光既定位置的玻璃屏蔽，对第二绝缘层55及绝缘层55’照射紫外线后，在碱性溶液中进行解像。接着，借着将基板材料5浸泡于电解硫酸铜电镀液中，以2.5A/dm2电镀约36分钟，形成了由厚度18μm的铜电镀配线构成的第一导体配线56。接着，在皮膜57、57’上利用叠层板将厚度6μm的感旋光性的绝缘薄膜(例如日立化成制RY3206)叠层，按照所要的配线图案将皮膜57’曝光解像后，使用氯化亚铁将该厚度18μm的第一导体层51溶解，形成了第二导体配线58。再将皮膜57、57’、第二绝缘层55、绝缘层55’以及导电性薄膜层54除去后，得到双面配线基板50。在利用本实施例所制造的双面配线基板50，确认了均匀的形成第一导体配线56，表层的配线宽度和底面的配线宽度极小。而且，具备尺寸安定性，难发生弯曲，可得到充分的挠曲特性。