用于制造平面显示器的荫罩 本申请要求2002年7月3日提交的韩国申请No.P2002-38347的优先权，其全文引用在此作为参照。技术领域
本发明涉及一种用于制造平面显示器的荫罩(shadow mask)。背景技术
通常，在制造用于形成R、G、B像素的全色平面显示器中使用荫罩，每个R、G、B像素都具有优良的色感以及发光效率。
参照图1A和1B，在制造平面显示器中使用的荫罩装备有基板1，以及位于基板1中的多个通孔2。荫罩可以通过湿式蚀刻或电铸形成。
图2A和2B示出了通过湿式蚀刻形成的荫罩，而图3A和3B示出了通过电铸形成的荫罩。
参照图2A和2B，通过湿式蚀刻形成的荫罩具有顶部尺寸与底部尺寸不相同的通孔。也就是说，所述通孔具有倾斜侧壁。
但是，对于通过湿式蚀刻形成的荫罩，其相邻通孔之间的距离很大，这不适合于制造需要高精度的显示板。
同时，参照图3A和3B，通过电铸形成的荫罩具有顶部尺寸与底部尺寸相同的通孔。也就是说，所述通孔具有垂直侧壁。
但是，对于通过电铸形成的荫罩，当材料通过利用荫罩沉积在显示板上时，会导致取决于沉积源位置的阴影现象。
参照图3B，所述阴影现象会使材料不能够精确沉积到显示板的期望位置上，从而导致发射自像素的不均匀光。发明内容
因此，本发明涉及一种荫罩，这种荫罩充分地避免了一个或多个起因于现有技术的局限性和缺点的问题。
本发明的一个目地在于提供一种适合制造需要高精度的显示器的荫罩。
本发明的另一个目的在于提供一种不具有显示现象和具有高可靠性的荫罩。
本发明的附加特征和优点将在下面的说明书中描述，在某种程度上，在审查下列内容的基础上，这些附加特征和优点对于本领域内的普通技术人员来说是显而易见的，或者可以从本发明的实践中了解这些附加特征和优点。本发明的目的和其他优点将通过书面说明书和说明书的权利要求书以及附图中所特别指出的结构实现和获得。
为了实现这些目的和其他优点，根据本发明在此体现和概括描述的目的，用于制造平面显示器的荫罩包括：一个具有多个第一通孔的第一基板；一个位于第一基板上的第二基板，第二基板具有多个第二通孔，其中，第一通孔和第二通孔彼此重叠布置，并且第二通孔的直径大于第一通孔的直径。
第二基板的厚度大于第一基板的厚度。
多个第一通孔被布置在每个列上，并且一个第二通孔被布置在每个列上。
第一和第二通孔的形状可以是：圆形、多边形和带形。
所述荫罩进一步包括一个桥状构件，该桥状构件形成在第一基板上相邻的第一通孔之间。
所述桥状构件的厚度与第二基板的厚度相同，并且跨接第二通孔形成。
根据本发明的另一个方面，提供了一种用于制造平面显示器的荫罩，其包括：一个具有多个第一通孔的第一基板；一个位于第一基板上的第二基板，第二基板具有多个第二通孔；一个位于第二基板上的第三基板，第三基板具有多个第三通孔，其中，第一、第二，和第三通孔相互重叠布置，第二通孔的直径大于第一通孔的直径，而第三通孔的直径大于第二通孔的直径。
第二基板的厚度大于第一或第三基板的厚度。
多个第一通孔被布置在每个列上，并且一个第二或第三通孔被布置在每个列上。
应理解，本发明的上述描述以及下列的详细描述是示例性的和说明性的，企图对本发明所要求的权利作进一步的解释。
【附图说明】
附图示出了本发明的实施例以及用于解释本发明原理的描述，其中附图用来提供对本发明的进一步理解，并被结合进这个说明书中成为此说明书的一部分。在附图中：
图1A和1B分别示出了现有技术荫罩的平面图和截面图；
图2A和2B分别示出了通过湿式蚀刻形成的现有技术荫罩；
图3A和3B分别示出了通过电铸形成的现有技术荫罩；
图4A和4B分别示出了根据本发明优选实施例的荫罩的平面图和截面图；
图5A示出了根据本发明优选实施例的荫罩的通孔；
图5B示出了形成在相邻通孔之间的桥状构件；
图6A和6B示出了荫罩的厚度和通孔的宽度；和
图7A和7B示出了材料利用本发明的荫罩的沉积。具体实施方式
现在将详细参照本发明的优选实施例，本发明优选实施例的例子在附图中示出。图4A和4B分别示出了根据本发明优选实施例的荫罩的平面图和截面图。
参照图4A和4B，荫罩包括：一个第一基板50；位于第一基板50中的多个第一通孔51；一个位于第一基板50上的第二基板52；和位于第二基板52中的多个第二通孔53。
第一通孔51和第二通孔53彼此重叠布置，并且每个第二通孔53的直径大于每个第一通孔51的直径。
第一通孔51呈矩形，并且多个第一通孔51被形成在每个列中。第二通孔53呈带形，并被形成在与第一通孔51重叠的每个列中。
第一和第二通孔51和53可以呈各种形状，例如圆形、多边形，和带形。
参照图5B，在第一基板50上相邻的第一通孔51之间附加形成了一个桥状构件54，用于防止荫罩的下垂。所述桥状构件形成的厚度与第二基板52的厚度相同，并且跨接第二通孔53。
参照图6A，第二基板52的厚度“b”大于第一基板50的厚度“a”。也就是说，第一基板50大约为1-100μm厚，而第二基板52大约为5-1000μm厚。第一通孔51和第二通孔53之间的直径差“d”大约为1-1000μm。
根据本发明另一个实施例的荫罩，在第二基板52上附加形成了一个具有多个第三通孔的第三基板55。
在此例子中，第三通孔与第二通孔53重叠布置，每个第三通孔的直径都大于第二通孔53的直径。
参照图6B，第三基板55的厚度“c”小于第二基板52的厚度“b”。也就是说，第三基板55的厚度“c”大约为1-100μm厚。第一通孔51和第二通孔53之间的直径差“d”或第二和第三通孔之间的直径差“e”大约为1-1000μm。多个第一通孔被布置在每个列上，并且一个第二或第三通孔被布置在每个列上。
图7A和7B示出了材料利用本发明的荫罩的沉积。
参照图7A和7B，当材料利用本发明的荫罩沉积在显示板上时，所述材料可以在没有阴影现象的情况下沉积在精确像素位置上。
因为消除了阴影现象，所以本发明的荫罩提供了高加工可靠性，从而克服了通过电铸形成的荫罩的缺点。如果采用电铸，本发明适合于制造需要高精度的显示器。
很明显，对本领域的技术人员来说，可以在不背离本发明精神或范围的情况下对本发明做出各种更改和变型。因此，本发明企图覆盖在附属权利要求书和其等价物范围内的更改和变型。