防反射膜和显示装置.pdf

1、10申请公布号CN102016650A43申请公布日20110413CN102016650ACN102016650A21申请号200980114354622申请日20090204200813845820080527JPG02B1/11200601G02B5/0220060171申请人夏普株式会社地址日本大阪府72发明人津田和彦74专利代理机构北京市隆安律师事务所11323代理人权鲜枝54发明名称防反射膜和显示装置57摘要本发明提供一种降低在显示装置表面上光的反射并且减低在显示装置内部反射的光的影响的防反射膜。本发明的防反射膜是在表面具有相邻顶点间的宽度在可见光波长以下的细微凹凸构造的防反射膜，

2、是透过两个重叠的该防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在10以上的防反射膜，优选防反射膜在表面一并具有相邻顶点间的宽度在1M以上的散射凹凸构造，或者在内部包含散射体，上述散射体具有与防反射膜的主成分不同的折射率且具有1M以上的粒径。30优先权数据85PCT申请进入国家阶段日2010102286PCT申请的申请数据PCT/JP2009/0519092009020487PCT申请的公布数据WO2009/144970JA2009120351INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书17页附图16页CN102016660A1/1页21一种防反射膜，在表面具有相邻顶

3、点间的宽度在可见光波长以下的细微凹凸构造，其特征在于透过两个重叠的该防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在10以上。2根据权利要求1所述的防反射膜，其特征在于上述半值角在28以下。3根据权利要求1或者2所述的防反射膜，其特征在于上述防反射膜在内部包含散射体，上述散射体具有与防反射膜的主成分不同的折射率且具有1M以上的粒径。4根据权利要求3所述的防反射膜，其特征在于上述散射体隔着1M以上的距离不规则地存在。5根据权利要求1或者2所述的防反射膜，其特征在于上述防反射膜在表面一并具有相邻顶点间的宽度在1M以上的散射凹凸构造。6根据权利要求5所述的防反射膜，其特征在于上述散射凹凸构造每100M2的凸

4、部的个数在60个以上。7一种显示装置，其特征在于在显示面具备权利要求16中的任一项所述的防反射膜。权利要求书CN102016650ACN102016660A1/17页3防反射膜和显示装置技术领域0001本发明涉及防反射膜和显示装置。更为详细地，涉及降低光的反射率的防反射膜和在显示面具备该防反射膜的显示装置。背景技术0002近几年，平板显示器FPDFLATPANELDISPLAY技术在日新月异地发展着，具有FPD的大型等离子电视和液晶电视LCTV正在普及。从这种应用于TV的情形可知，FPD多利用于一般家庭的居室等亮处，不仅在暗处而且在亮处也要求良好的视觉识别性。0003FPD一般是利用由玻璃制成

5、的基板制作出的显示装置，具有如下问题在亮处在显示装置的表面光发生反射，因此由于该反射光，图像变得难以识别。到目前为止的FPD都实施了作为降低表面反射的方法的低反射LRLOWREFLECTION处理和防眩AGANTIGLARE处理。LR处理是指例如在显示装置的表面涂敷折射率在15以下的树脂，并且将该树脂的厚度控制在光波长的1/4程度，由此使空气与树脂之间的界面上的反射和树脂与基板之间的界面上的反射以相反相位重叠并相互抵消，来降低反射率。0004然而，空气与树脂之间的界面上产生的反射和树脂与基板之间的界面上产生的反射通常各自的反射率是不同的，因此这种反射光并不会完全地抵消，作为防反射效果来说是不充

6、分的。因此，仅进行LR处理的情况下会以一定的反射率来反射周围光，所以荧光灯等光源的像会映现在显示中，而变成特别难以识别的显示。因此，还需要进行在显示装置的表面形成凹凸的AG处理，进行使光发生散射由此来模糊化荧光灯等光源的像的处理。0005对此，近几年，作为利用与LR处理和AG处理不同的方法改善在亮处的视觉识别性的技术，能够不使用光干涉而获得超防反射效果的蛾眼MOTHEYE蛾的眼睛构造受到关注。蛾眼构造是在进行防反射处理的物品表面无间隙地排列比AG处理更细微的、光波长以下例如400NM以下间隔的凹凸图案，由此使外界空气与膜表面之间的分界上的折射率的变化模拟地连续，能够与折射率界面无关地让几乎全部

7、的光透过，使在该物品表面的光反射几乎为零例如，参照专利文献1。0006作为在显示装置表面形成蛾眼构造的方法，可举出如下方法首先制作具有细微凹凸图案的模具，在显示装置的表面形成了凹凸图案形成用的膜之后，对该膜表面按压模具而将模具的凹凸图案转印到膜表面参照例如专利文献2、3、57。还可举出将金属膜作为掩模对膜表面进行蚀刻而形成凹凸图案的方法参照例如专利文献4。等。另外，作为形成模具的凹凸图案的方法，可举出进行阳极氧化和蚀刻的方法、电子束描绘法等。0007专利文献1日本特表2001517319号公报0008专利文献2日本特开2004205990号公报0009专利文献3日本特开2004287238号公

8、报说明书CN102016650ACN102016660A2/17页40010专利文献4日本特开2001272505号公报0011专利文献5日本特开2002286906号公报0012专利文献6日本特开200343203号公报0013专利文献7国际公开第2006/059686号小册子发明内容0014发明要解决的问题0015然而，在这些先行技术中，仅着眼于在显示装置表面的低反射处理，对于在显示装置内部反射的光的影响还未进行充分的研究。例如，在一般的LCTV的情况下，以阵列基板和滤色器CF基板这一对基板与被该一对基板夹住的液晶层为中心构成显示装置，但是在该阵列基板中有时会配置有用于控制对液晶层施加的电

9、压的薄膜晶体管TFTTHINFILMTRANSISTOR元件和用于对TFT元件供给电信号的配线。TFT元件和配线通常由金属构成，因此从显示装置表面入射、向显示装置内部行进的外光会被TFT元件和配线反射而射向显示装置表面。0016另外，在LCTV内普遍配置有具有透光性的ITOINDIUMTINOXIDE铟锡氧化物作为用于对液晶施加电压的电极，ITO的折射率是1921，相对于玻璃、树脂、取向膜以及液晶分子的折射率为约15的情况，具有比较高的值。因此，由于ITO与其它部件之间的界面的折射率差，根据入射角的不同，光会在它们的界面上发生反射。在将CF基板配置在比阵列基板靠近观察者侧的情况下，由于滤色器和

10、偏光板的影响，反射光强度被弱化了，但是TFT元件、配线、ITO等界面产生的反射率还会达到0515程度。在采用蛾眼构造作为对显示装置表面的低反射处理时的显示装置表面的反射率低到极低的015，因此反射光映现的影响受来自显示装置内部的反射光支配。0017因此，即使在实施了AG处理的凹凸表面形成蛾眼构造使表面反射的像模糊化，也无法使显示装置内部的反射导致的光源的映现模糊化，因此视觉识别性仍然是低下的。在此，为了防止外光被TFT元件、配线等反射，也可以考虑在CF基板中配置黑矩阵，但是一般而言黑矩阵是以面板开口率优先进行设计，因此不会设计成覆盖全部的TFT元件和配线，另外，阵列基板和CF基板的贴合精度通常

11、是5M程度，因此覆盖全部的TFT元件和配线实质上存在困难。0018本发明是鉴于上述现状而完成的，目的在于提供降低光在显示装置的表面的反射并且降低在显示装置内部反射的光的影响的防反射膜。0019用于解决问题的方案0020本发明人对降低在显示装置内部反射的光的影响的方法进行各种研究过程中，着眼于降低光在显示装置表面的反射的防反射膜的构造。并且发现通过对防反射膜赋予能使透过防反射膜的光具有一定散射性而射出的特性下面也称为透射散射特性，能够降低使在显示装置内部反射的光发生散射并映现的影响。另外，本发明人发现此时发生了散射的光的透射率的分布下面也称为透射散射强度分布具有角度依存性，并且发现当这种散射的光

12、往返透过防反射膜2次时，示出其散射光透射率透射光强度的最大值的一半的散射角下面，也将这种角度称为半值角在10以上时，能够使显示装置内部的反射光造成的像的映现模糊化来改善视觉识别性，想到能够很好地解决上述问说明书CN102016650ACN102016660A3/17页5题，进而有了本发明。0021即，本发明是在表面具有相邻顶点间的宽度为可见光波长以下的细微凹凸构造的防反射膜，是透过两个重叠的上述防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在10以上的防反射膜。0022下面详细说明本发明。0023本发明的防反射膜在表面具有相邻顶点间的宽度间距在可见光波长以下的细微凹凸构造下面，也称为第一凹凸构造或者蛾

13、眼构造。在本说明书中，“可见光波长以下”是指作为一般的可见光波长段下限的400NM以下，更为优选在300NM以下，再优选在作为可见光波长段下限的1/2的200NM以下。当蛾眼构造的间距超过200NM时，有时会带有红波长700NM的颜色，通过将间距设为300NM以下，其影响被充分地抑制，通过将间距设为200NM以下，则完全不会受到影响。0024本发明的防反射膜薄薄地形成在例如基材平面上而使用。作为形成有防反射膜的基材，可举出例如配置在作为构成显示装置的最表面的构件的偏光板、丙烯酸保护板、偏光板表面的硬涂层、配置在偏光板表面的防眩层等。通过这样在显示装置的观察面侧配置本发明的防反射膜，能够使反射光

14、造成的像的映现模糊化来使像不为人所注意。0025在本发明中，透过两个重叠的上述防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在10以上。两个重叠的上述防反射膜是指重叠本发明的防反射膜而构成的样料样品，在实际中使用本发明时也可以不重叠使用防反射膜。本发明抑制一次穿过防反射膜后再次通过防反射膜的光所产生的像的映现，因此使用两个重叠的防反射膜来确定防反射膜的透射散射强度分布的半值角。0026当光穿过本发明的防反射膜后，穿过该防反射膜的光发生散射而出射。在本说明书中，散射角是指光由于穿过本发明的防反射膜而散射的部分的角度，通过从“光从防反射膜出射时的出射角”减去“光入射到防反射膜时的入射角”而算出。此外，本说

15、明书的入射角和出射角是指该光行进方向与防反射膜基材平面的法线方向所成的角度。0027由于穿过防反射膜而发生散射的光的透射率由于散射角的不同而不同。本发明的散射光的透射率在散射角为0时达到最大，随着散射角变大而变小。并且，当将散射角为0时的透射率设为100时，如果散射光透射率当取其一半的值透射率50时的角度半值角为10以上、优选15以上，则即使光在显示装置内部发生反射，也能够对该反射光赋予充分的散射作用，由此能够使荧光灯、人脸等的像的映现充分地模糊化。0028作为本发明的防反射膜的结构，只要必须形成这些结构要素即可，包不包含其它结构要素均可，没有特别限定。例如，在本发明的防反射膜所具备的细微凹凸

16、构造中，相邻顶点间的宽度间距在可见光波长以下是必须的，但是从顶点到底点的高度既可以在可见光波长以下，也可以在可见光波长以上。0029优选上述半值角在28以下。如上所述通过将透射散射强度分布的半值角设为10以上，对于来自面板内部的反射能够得到充分散射的效果，但是当半值角过大时整体平均亮度醒目，观察者会意识到更为强的平面性，有时会失去显示图像的立体感。与说明书CN102016650ACN102016660A4/17页6此相对，半值角在28以下，由此能够进行观察者易于识别纵深感觉的显示。0030下面详细说明本发明的防反射膜的第一优选方式。0031优选上述防反射膜在表面一并具有相邻顶点间宽度在1M以上

17、的散射凹凸构造下面也称为第二凹凸构造。即本方式是在防反射膜的表面形成有顶点间宽度在可见光波长以下的周期小的凹凸构造蛾眼构造，并且形成有与该蛾眼构造分开的、顶点间宽度在可见光波长以上的周期大的凹凸构造的方式，通过采用这种两个等级的凹凸构造，能够提高透过防反射膜的光的透射散射特性，精密地调整透射散射强度分布的半值角。为了对防反射膜赋予有效的散射性，优选形成有具有相对于可见光波长充分大的周期的凹凸面，作为用于得到这种效果的凹凸间距，设定成充分地覆盖作为一般的可见光波长的上限的750NM的1M以上、优选4倍以上的3M以上。此外，在采用1M以上的情况下，相对于红R和蓝B的波长的相对长度会大不相同，但是通

18、过将凹凸间距设为可见光的4倍以上，相对于红R和蓝B的波长的各自相对长度会与红R和蓝B相近，能够得到更为自然的颜色的显示，提高了显示质量。0032优选上述散射凹凸构造是每100M2的凸部个数在60个以上。本说明书中的凸部是指形成在防反射膜表面的凹凸构造中的朝向外界侧延伸的顶端变细的构造部。当散射凹凸构造的凸部数目相对于像素过少时，会以像素为单位产生亮度的偏差，因此在暗处显示时有时会看到显示的闪烁，但是通过将每100M2面积的凸部个数控制在60个以上，能够有效地抑制显示的闪烁。0033下面详细说明本发明的防反射膜的第二优选方式。0034优选上述防反射膜在内部包含散射体，上述散射体具有与防反射膜的主

19、成分不同的折射率且具有1M以上的粒径。对于防反射膜，通过使之含有具有与防反射膜的主成分不同的折射率且具有充分地覆盖作为可见光波长上限的750NM的微米级别1M以上的粒径，能够提高透过防反射膜的光的透射散射特性，有效地调整透射散射强度分布的半值角。在此，作为本发明的防反射膜的主成分，可举出例如树脂。其中，使用光固化性树脂、热固化性树脂等在一定条件下具有固化性的树脂，在形成高精细的蛾眼构造方面是优选的。0035上述散射体只要以能够提高透过防反射膜的光的透射散射特性的方式配置即可，其存在形态没有特别限定，可举出例如在防反射膜的内部分散配置的方式。本方式的散射体的形状可以是球形、多面体形、不定形等，没

20、有特别限定。本说明书的粒径是指散射体的粒子中的最大部分的直径。这种粒径能够使用例如光学显微镜来计测。0036优选上述散射体隔着1M以上的距离不规则地存在。在防反射膜中，隔着充分地覆盖作为可见光波长上限的750NM的微米级别1M以上的距离且不规则随机地包含具有与防反射膜的主成分不同的折射率的上述散射体，由此能够更为提高透射散射特性，更为有效地调节透射散射强度分布的半值角。本说明书的“隔着1M以上的距离”，是指各散射体中心间的距离拉开在1M以上的距离，例如若是多面体形、不定形，则指其重心间的距离拉开在1M以上的距离。0037上面，说明了本发明的防反射膜的第一优选方式和第二优选方式，但是能够根据需要

21、适当地组合，通过组合这二者，能够更为提高散射透射特性，使调整透射散射强度的半值角更为有效。说明书CN102016650ACN102016660A5/17页70038另外，本发明还是在显示面具备上述防反射膜的显示装置。作为本发明的显示装置，可举出阴极射线管CRTCATHODERAYTUBE显示装置、液晶显示LCDLIQUIDCRYSTALDISPLAY装置、等离子显示装置PDPPLASMADISPLAYPANEL以及电致发光ELELECTROLUMINESCENCE显示装置等。这样，在一般的在装置内部使用电极、配线等反射光的材料的显示装置中特别合适利用本发明，根据本发明的显示装置，对由显示面朝向

22、显示面板外侧的面和显示装置内部所引起的任一种反射都能够得到优良的低反射效果。0039发明效果0040根据本发明的防反射膜，由于设定成透过在表面具有蛾眼构造且重叠两个的防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在10以上，因此当设置在例如显示装置的表面上时，能够降低光在显示装置的表面的反射并且能够使在显示装置内部反射的光发生散射，模糊化由于这些反射光而导致光源等向显示画面的像的映现，能够提高显示质量。附图说明0041图1是实施方式1的防反射膜的截面示意图。0042图2是实施方式1的防反射膜的蛾眼构造的立体图。A表示蛾眼构造的单位构造是圆锥状的情况，B是蛾眼构造的单位构造是四棱锥状的情况。0043图3

23、是表示蛾眼构造实现低反射的原理的示意图。A表示防反射膜的截面构造，B表示入射到防反射膜的光的折射率。0044图4是将实施方式1的防反射膜的散射凹凸构造放大了的立体图。0045图5是将阳极氧化多孔氧化铝放大了的立体图。0046图6是表示阳极氧化多孔氧化铝的制造流程的截面示意图，AG表示各制造阶段。0047图7是表示分别将细孔形成量深度方向和蚀刻量宽度方向设为一定，进行多次上述步骤而形成的细孔的形状的截面示意图。A是在图上转印了细孔形状的图，B是细孔截面的立体图。0048图8是表示将模具的凹凸形状转印在膜上的工序的截面示意图。0049图9是为了制作实施例1的防反射膜而使用的模具表面的凹凸构造蛾眼的

24、电子显微镜照片。A是正面图，B是立体图，C是截面图。0050图10是表示实施例1的防反射膜和比较例1的防反射膜的表面反射率的图。0051图11是表示当使用实施例1和比较例2的防反射膜时的荧光灯的映现程度的照片。0052图12是表示透过两个重叠的防反射膜的光的散射的样子的示意图。0053图13是由于位于防反射膜下的反射体而发生反射的光的散射的样子的示意图。0054图14是表示重叠两个防反射膜而形成的样品1的截面示意图。0055图15是表示重叠两个实施例1的防反射膜时和重叠两个比较例2的防反射膜时的各自的透射光强度的角度依存性的图。0056图16是表示具备实施例1的防反射膜的液晶显示装置的反射光强

25、度的角度依存说明书CN102016650ACN102016660A6/17页8性的图。0057图17是透过由评价试验2制作出的样品3、样品4以及样品5的光的透射光强度的角度依存性的图。0058图18是表示由评价试验2制作出的样品3、样品4以及样品5的各个样品的倾斜角分布对倾斜角的占有率的测定值的图。0059图19是表示亮度偏差相对显示个数的图。A是应用实施例1的防反射膜的液晶显示装置，B是应用比较例2的防反射膜的液晶显示装置。0060图20是表示形成在防反射膜表面的凹凸的平面示意图。0061图21是表示每单位面积的凸部的个数和亮度偏差标准偏差的图。0062图22是实施方式2的防反射膜的截面示意

26、图。0063图23是表示当重叠两个实施例7的防反射膜时的透射光强度的角度依存性的图。0064图24是表示具备实施例7的防反射膜的液晶显示装置的反射光强度的角度依存性的图。0065图25是实施方式3的LCD的截面示意图，表示外光在LCD内发生反射的样子。0066附图标记说明006710、184防反射膜；11表面层；12基底层；13第一凹凸构造、细微凹凸构造、蛾眼构造；14第二凹凸构造、散射凹凸构造；21凸部蛾眼构造；22基底部；31凸部散射凹凸构造；41单元；42、63细孔；43阻障层；44、51、61铝基板；52多孔氧化铝层第一次多孔氧化铝层；53多孔氧化铝层第二次多孔氧化铝层；62多孔氧化铝

27、层；71基材膜辊；72模具涂敷机；73、75、76、78夹送辊；74模具辊；77层压膜辊；80固化处理；81基材膜；82涂敷后的树脂膜；83具有凹凸的树脂膜；84层压膜；85层叠膜辊；91凸部模具；92凹部模具；111、121、131防反射膜；122反射体；132TAC膜；133玻璃；141单位面积；142凸部散射凹凸构造；151表面层；152基底层；153透明珠子；161阵列基板；162滤色器基板；163液晶层；171支撑基板阵列基板侧；172电极；173半导体层；174TFT；175层间绝缘膜；176像素电极；181支撑基板滤色器基板侧；182树脂层；183对置电极；191外光在LCD表面

28、发生反射的成分；192外光向LCD内前进的成分。具体实施方式0068下面说明实施方式，参照附图更为详细地说明本发明，但是本发明不限定于这些实施方式。0069实施方式10070图1是实施方式1的防反射膜的截面示意图。如图1所示，实施方式1的防反射膜10的表面，由形成有周期比可见光波长小的凹凸构造第一凹凸构造蛾眼构造13和周期比可见光波长大的凹凸构造第二凹凸构造散射凹凸构造14的两个等级的凹凸构造的表面层11和位于表面层11的下层的基底层12构成。蛾眼构造13是用于降低说明书CN102016650ACN102016660A7/17页9在防反射膜10表面的反射的凹凸构造，散射凹凸构造14是用于当重叠

29、两个实施方式1的防反射膜10时将透过重叠有两个的防反射膜10的光的透射散射强度分布的半值角调整在10以上的凹凸构造。即，实施方式1使用本发明的第一优选方式作为调整透射散射强度分布的半值角的方法。00710072图2是实施方式1的防反射膜的蛾眼构造的立体图。A表示蛾眼构造的单位构造是圆锥状的情况，B是蛾眼构造的单位构造是四棱锥状的情况。如图2所示，实施方式1的防反射膜的蛾眼构造13也能够以周期比可见光波长小的重复单位并列配置多个微小的凸部21。在蛾眼构造13中，凸部21的顶峰部是顶点T，各凸部21相互相接的点是底点B。如图2所示，蛾眼构造13的相邻顶点间的宽度W由从凸部21的顶点T开始各自引垂线

30、到同一平面上为止时的两点之间的距离示出。另外，从蛾眼构造的顶点开始到底点为止的高度H由从凸部21的顶点T开始到底点B存在的平面为止引垂线时的距离示出。0073在实施方式1的防反射膜中，蛾眼构造的相邻顶点间的宽度W在400NM以下，优选在300NM以下，更为优选在200NM以下。此外，在图2中，作为凸部21的单位构造，示出了圆锥和四棱锥，但是在实施方式1中，只要是形成有顶点和底点并且将宽度控制在上述数值范围内的凹凸构造即可，其单位构造没有特别限定。另外，上述宽度实质上整体被控制在这种数值范围内即可，有一部分未被控制在这些数值范围内的区域亦可。0074在此，说明实施方式1的防反射膜能够利用蛾眼构造

31、实现低反射的原理。图3是表示蛾眼构造实现低反射的原理的示意图。A表示防反射膜的截面构造，B表示入射到防反射膜的光的折射率。如图3所示，实施方式1的防反射膜所具备的蛾眼构造13由凸部21和基底部22构成。当光从某一种介质进入到不同的介质中时，会在它们的介质界面中发生折射。折射程度由光进入的介质的折射率决定，例如若是空气则具有约10的折射率，若是树脂则具有约15的折射率。在实施方式1中，形成在防反射膜的表面的凹凸构造的单位构造是锥状的，即具有朝向顶端方向宽度慢慢变小的形状。因此，如图3所示，可以认为在位于空气层与防反射层之间的界面的凸部21XY之间，折射率从作为空气的折射率的约10连续地慢慢地变大

32、到膜构成材料的折射率若为树脂则为约15。光所反射的量与介质间的折射率差成比例，因此，通过模拟使这种光折射界面几乎不存在，几乎全部的光都在防反射膜中穿过，在膜表面的反射率会大幅减少。00750076图4是将实施方式1的防反射膜的散射凹凸构造放大了的立体图。如图4所示，实施方式1的防反射膜的散射凹凸构造也能够以周期比可见光波长大的重复单位并列配置多个微小的凸部31。在散射凹凸构造中，凸部31的顶端部是顶点T，各凸部31相互相接的点是底点B。如图4所示，散射凹凸构造的相邻顶点间的宽度W由从凸部31的顶点T开始各自引垂线到同一平面上为止时的两点之间的距离示出。0077在实施方式1的防反射膜中，散射凹凸

33、构造的相邻顶点间的宽度W在1M以上、优选在3M以上，远大于蛾眼构造的相邻顶点间的宽度W。此外，在图4中，作为凸部的单位构造，图示出了坡度小的山型，但是在实施方式1中，只要是形成有顶点和说明书CN102016650ACN102016660A8/17页10底点且宽度被控制在上述数值范围内即可，其单位构造没有特别限定。另外，上述宽度实质上整体被控制在这种数值范围内即可，有一部分未被控制在这些数值范围内的区域亦可。这样，在防反射膜的表面形成周期比可见光波长大的散射凹凸构造，由此能够提高防反射膜的透射散射特性，能够容易且精密地调整上述透射散射强度分布的半值角。0078下面详细说明实施方式1的防反射膜的制

34、造方法。在下面所示的制造方法中，首先制作用于在实施方式1的防反射膜上形成凹凸的模具，然后对涂敷在基材表面上的树脂膜表面按压该模具，将模具的凹凸形状转印压印到膜表面，与此同时对树脂膜给予规定的条件使转印到防反射膜表面的凹凸形状发生固化来形成规定的凹凸形状。00790080为了在模具的表面形成用于形成防反射膜的散射凹凸构造的凹凸形状，首先准备作为模具材料的铝AL基板，预先对其表面进行喷砂处理，形成可见光波长级别以上的凹凸。具体地，用加压空气喷吹无数的研磨粒子，用该研磨粒子除去粘合面的异物、有机质并且在AL表面形成无数的凹凸。作为研磨粒子，可举出氧化铝、碳化硅、钢铝石、金刚石、砂、石榴石、碳化硼、氧

35、化铁、氧化铬、玻璃粉、焙烧白云石、无水硅酸等，例如将它们变成502000目的粒子并在空气压215KG/CM2的条件下进行喷射来形成凹凸。实施方式1的防反射膜的散射凹凸构造的大小能够利用用于喷砂处理的粒子的直径、粒子的硬度、喷砂处理的时间程度来进行调整，由此能够控制上述半值角的值。0081下面，在模具的表面形成用于形成防反射膜的蛾眼构造的凹凸形状。在此，通过对铝进行阳极氧化在模具的表面制作大范围的形成有多个可见光波长级别以下的微小孔细孔的氧化铝AL2O3下面也称为阳极氧化多孔氧化铝。最终的阳极氧化多孔氧化铝所具有的凹凸的形状是截面为三角形，其形状由阶段性地重复利用铝的阳极氧化的细孔形成和阳极氧化

36、膜的蚀刻来形成。0082下面详细说明阳极氧化多孔氧化铝的构造。图5是将阳极氧化多孔氧化铝层放大了的立体图。如上所述，阳极氧化多孔氧化铝是指对铝基材44进行阳极氧化而得到的多孔质性的氧化铝层，以如图5所示的被称为单元41的一定大小的圆柱状氧化铝层最密填充的构造示意性地示出。各单元41中央形成有细孔42，各细孔42的排列具有规则性。单元41是局部的保护膜溶解和成长的结果形成的，具体地，是在位于被称为阻障层43的细孔42的底部的层，保护膜的溶解和成长同时进行而形成的。细孔42彼此之间的间隔单元大小与阳极氧化时的化成电压的大小成比例，可举出是阻障层43的厚度的约2倍。另外，细孔42的直径依赖于化成液的

37、种类、浓度、温度等条件，可举出单元大小的约1/3。0083在本实施方式中，阳极氧化多孔氧化铝的细孔在相对于基板面垂直的方向形成的现象受到注目，另外，当阳极氧化暂时停止后再以相同条件进行阳极氧化时，在前一过程中形成的细孔的底变成开始点，在其下方再次形成同样的细孔，利用所具有的该特征，将细孔的截面形状控制成三角形。根据利用阳极氧化的多孔质构造体的制造方法，能够大致最密填充状地形成纳米级别的圆柱状的细孔。当在硫酸、草酸、磷酸等酸性电解液或者碱性电解溶液中浸泡被加工物，将其作为阳极施加电压时，能够在被加工物的表面同时进行氧化和溶解，形成在其表面具有细微圆柱的细孔的氧化保护膜。该圆柱的细孔相对于氧化膜垂

38、直取向，在化成电压、电解液的种类、温度等为一定条件下呈现自说明书CN102016650ACN102016660A9/17页11我组织的规则性，通过控制这些条件和时间，可自由地控制大小、形状、密度等。0084图6是表示阳极氧化多孔氧化铝层的制造流程的截面示意图，AG表示各制造阶段。首先准备如A所示的铝基板51，在一定的阳极氧化条件下使氧化膜生长，形成如B所示的具有规定深度的细孔排列的多孔氧化铝层第一次多孔氧化铝层52。此时，优选化成电压保持一定。化成电压的变动会降低细孔排列的规则性，因此阳极氧化基本上都在固定电压条件下进行。在初期阶段所生成的阳极氧化保护膜第一次多孔氧化铝层52具有细孔无序生成的

39、倾向，如C所示，优选利用一定条件下的磷酸处理等来除去。其后，再次以相同的条件进行阳极氧化，形成具有细孔的多孔氧化铝层第二次多孔氧化铝层53，该细孔具有具备如D所示的规定深度的规则性。接着，如E所示，利用对细孔按照规定的量进行各向同性蚀刻处理来扩大孔径。此时如果利用湿工艺，就能大致均等地扩大细孔的壁和阻障层。下面，如F和G所示，多次重复进行通过阳极氧化形成的先前的细孔的底成为开始点的朝向基板方向的细孔形成和各向同性蚀刻处理，就能够制作所期望的凹凸形状。0085图7是表示分别将细孔形成量深度方向和蚀刻量宽度方向设为一定，多次进行上述步骤而形成的细孔的形状的截面示意图。A是在图上转印了细孔形状的图，

40、B是细孔截面的立体图。如图7所示，在利用上述方法对铝基板61进行阳极氧化得到的多孔氧化铝层62上形成的细孔63的形状为大致圆锥体，另外通过增加步骤数目，能够更为严格地接近于圆锥体。实际上，当进行有限次数的重复处理时，作为凹凸构造的特征之一，在细孔的表面上形成有台阶阶梯形状。0086上面，说明对防反射膜形成蛾眼构造第一凹凸构造和散射凹凸构造第二凹凸构造的模具的制造方法，但是模具的制造方法不限于这些方法。就散射凹凸构造而言，除了进行利用如上所述喷砂的表面处理的方法之外，可举出化学蚀刻法等。另外，就蛾眼构造而言，除了进行上述阳极氧化和蚀刻的方法之外，可举出电子束描绘法、进行激光干涉曝光的方法等。00

41、87此外，在模具的表面形成周期重复单位不同的两个等级的凹凸形状的情况下，优选如上述的制造方法所示，预先在阳极氧化处理之前进行喷砂处理。这样，在形成周期小的凹凸构造之前形成周期大的凹凸构造，由此能够精密地形成在表面形成的蛾眼构造和散射凹凸构造中的任一个，能够得到质量高的防反射膜。另外，根据喷砂处理，随机地形成有间距大的凹凸，能够防止由于与表面反射光的干涉而产生的变色，并且使像模糊化。00880089然后进入到将由上述工序制作出的模具的凹凸形状转印到涂敷在基材上的膜上的工序。在此，采用辊到辊方式，其对用传送带方式传送的膜按压转动的轴状模具，顺序地在膜表面转印凹凸形状。图8是表示将模具的凹凸形状转印

42、在防反射膜上的工序的截面示意图。0090首先，转动基材膜辊71并且向图8中的箭头方向从基材膜辊71送出带状基材膜81。然后，利用模具涂敷机72对基材膜81涂敷树脂材料，形成树脂膜82。作为涂敷方法，可举出使用除此之外的狭缝涂敷机、凹版涂敷机等的方法。0091在本制造方法中，作为被涂敷的树脂材料，可以使用光固化性树脂、热固化性说明书CN102016650ACN102016660A10/17页12树脂等固化性树脂。作为光固化性树脂，例如除了吸收光而引发聚合的单体之外，还可以举出如下单体其单独时即使吸收了光也不引发聚合，但是被添加了光聚合引发剂，该光聚合引发剂吸收光而变成活性种来引发聚合。适当地添加

43、光聚合引发剂、光增感剂等亦可。0092在涂敷了树脂膜82之后，基材膜81通过夹送辊73进入到圆筒状的模具辊74。在模具辊74的外周面设有利用上述模具的制造方法而形成的阳极氧化多孔氧化铝。基材膜81沿着该模具辊74的外周面移动半周的量，此时，涂敷在基材膜81上的树脂膜82与模具辊74的外周面相接，由此模具辊74的凹凸形状被转印到树脂膜82上。在基材膜81与模具辊74的外周面相接的位置配置有与模具辊75外周面对置的圆柱状夹送辊75。在该位置，利用模具辊74和夹送辊75夹住基材膜81，模具辊75和树脂膜82加压贴紧，由此在树脂膜82的表面形成具有与模具相同的凹凸的树脂膜83。0093为了利用模具辊7

44、4和夹送辊75均匀地夹住基材膜81，优选基材膜81的宽度小于模具辊74和夹送辊75的宽度。此外，优选夹送辊75是橡胶制的。在树脂膜83的表面转印上凹凸形状后，基材膜81沿着模具辊74的外周面朝向夹送辊76前进，通过夹送辊76进入到下一工序中。0094在基材膜81与模具辊74的外周面相接时，对基材膜81上的树脂模83进行固化处理80。在基材膜81具有光固化性的情况下，选择适于该树脂材料的波长段的光紫外线、可见光线等，进行适于该树脂材料发生固化的强度和时间的光照射。此外，若是利用光照射的固化处理，能够在常温下进行固化处理。在基材膜81具有热固化性的情况下，进行适于该树脂材料发生热固化的温度和时间的

45、加热。通过这种固化处理，转印到树脂膜83上的凹凸形状会固定。0095接着，从层压膜辊77供给的层压膜84被夹送辊78贴附到树脂模83的表面侧。并且在最后，卷起基材膜81、树脂膜83、以及层压膜84的层叠膜来制作层叠膜辊85。通过贴合层压膜84，能够防止树脂膜83表面附着灰尘或者受到划伤。0096如上所述，实施方式1的防反射膜完成了。00970098为了调查实施方式1的防反射膜的特性，实际制作防反射膜作为实施例1的防反射膜，进行评价试验1。下面说明实施例1的防反射膜的制造方法。首先，利用180目的AL2O3在气压08MPA的条件下对铝基板进行喷砂处理后，利用005MOL/L的草酸3作为电解液进行

46、5分钟的阳极氧化，在铝基板表面形成阳极氧化多孔氧化铝层第一次多孔氧化铝层。接着，将在表面包含阳极氧化多孔氧化铝层的铝基板在8MOL/L的磷酸30中浸泡30分钟，除去第一次多孔氧化铝层。接着，在相同条件下交替重复5次进行30秒钟的阳极氧化的步骤和在1MOL/L的磷酸30中浸泡19分钟并进行蚀刻的步骤，最后在相同条件下进行30秒钟的阳极氧化，形成新的阳极氧化多孔氧化铝层第二次多孔氧化铝层。0099图9是为了制作实施例1的防反射膜而使用的模具表面的凹凸构造蛾眼形成用的电子显微镜照片。A是凹凸构造的正面图，B是凹凸构造的立体图，C是凹凸构造的截面图。模具所具有的凹凸构造的相邻顶点间的宽度为约200NM

47、，并且从顶点到底点为止的高度深度为约840NM纵横比约42。模具所具有的凹凸构造的凹部说明书CN102016650ACN102016660A11/17页1392和凸部91被形成为尖的凸部91形状被最密填充地周期性配置。凸部91的表面具有通过重复多阶段的阳极氧化和蚀刻而产生的数个台阶的阶梯形状。0100接着，通过使用由此制作出的模具的实施方式1的辊到辊方式的转印方法，对涂敷在作为基材膜的PETPLOYETHYLENETEREPHTHALATE聚对苯二甲酸乙二酯膜上的UVULTRAVIOLET紫外线固化树脂膜按压凹凸模具而将模具的凹凸形状转印到UV固化树脂膜，接着，对该UV固化树脂膜照射UV，在保

48、持凹凸形状的状态下使之发生固化来形成实施例1的防反射膜。0101然后，作为与实施例1的比较对象，准备在表面未形成蛾眼构造的通常的多层薄膜干涉LR类型的防反射膜，作为比较例1。并且，分别测量实施例1的防反射膜和比较例1的防反射膜各自的表面反射率。图10是表示实施例1的防反射膜和比较例1的防反射膜的表面反射率的坐标图。图10的坐标图表示正反射光的分光反射率，横轴是波长NM，纵轴是反射率。如图10所示，在实施例1的防反射膜中，可见光区域的反射率被抑制到02，另外，未产生反射衍射光。另一方面，在比较例1的防反射膜中，可见光区域的反射率高达07以上，不具有充分的低反射功能。由此，可确认实施例1的防反射膜

49、与以往的多层薄膜干涉类型的防反射膜比较例1相比防反射膜表面的反射率被充分地降低。0102然后，作为与实施例1的比较对象，制作在表面形成有蛾眼构造但是未形成散射凹凸构造的、即通常的在表面具备蛾眼构造的防反射膜，作为比较例2的防反射膜。比较例2的防反射膜除了未进行喷砂处理以外是利用与实施方式1的防反射膜相同的制造方法制作出的。并且，将该实施例1和比较例2的防反射膜应用于下面实施方式3所示的液晶显示装置，在明亮的屋子里目测观察荧光灯的映现程度。图11是表示当使用实施例1和比较例2的防反射膜时的荧光灯的映现程度的照片。其结果，相对于在具备实施例1的防反射膜的液晶显示装置中模糊地看到荧光灯的外形，在具备比较例2的防反射膜的液晶显示装置中清楚地看到荧光灯的外形。0103为了更为详细地调查这些防反射膜特性的不同点，在重叠两个实施例1的防反射膜后，进行了用于调查透过该两个重叠的防反射膜的光呈现何种透射散射特性的实验。图12是表示透过两个重叠的防反射膜的光的散射的样子的示意图。另外，图13是表示由于位于防反射膜下的反射体而发生反射的光的散射的样子的示意图。0104在此，在调查实际上用于显示装置的情况下的防反射膜的反射散射特性时，不仅调查防反射膜显示装置表面的散射特性，还必须调查在显示装置