一种环保介电层材料化学机械抛光液.pdf

1、(10)申请公布号 CN 103436183 A (43)申请公布日 2013.12.11 CN 103436183 A *CN103436183A* (21)申请号 201310387802.8 (22)申请日 2013.08.31 C09G 1/02(2006.01) (71)申请人 青岛承天伟业机械制造有限公司 地址 266199 山东省青岛市李沧区郑佛路 17 号综合楼 131 室 (72)发明人 张竹香 (54) 发明名称 一种环保介电层材料化学机械抛光液 (57) 摘要 本发明公开了一种环保介电层材料化学机械 抛光液， 其特征在于， 包括下列重量份数的物质 ： 三甲硅基甲基磷酸二甲

2、酯 12-23 份， 氰尿酸三聚 氰胺 10-16 份， 滑石粉 8-16 份， 液态石蜡 4-9 份， 高岭土 1-3 份， 季戊四醇 1-5 份， 氰尿酸三聚氰胺 盐2-3份， 蒙脱土1-3份， 磷酸二氢钾2-4份， 分子 筛1-2份， 硅藻土1份， 硼酸钠2-4份， 片层结构的 云母粉1份， 空心玻璃微珠1-2 份。 本发明的化学 机械抛光液可抑制低介电材料的抛光速率， 而对 铜和二氧化硅的去除速率影响不大， 同时可减少 被抛光材料的表面污染物。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 1 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书

3、1页 (10)申请公布号 CN 103436183 A CN 103436183 A *CN103436183A* 1/1 页 2 1. 一种环保介电层材料化学机械抛光液， 其特征在于， 包括下列重量份数的物质 ： 三 甲硅基甲基磷酸二甲酯 12-23 份， 氰尿酸三聚氰胺 10-16 份， 滑石粉 8-16 份， 液态石蜡 4-9 份， 高岭土 1-3 份， 季戊四醇 1-5 份， 氰尿酸三聚氰胺盐 2-3 份， 蒙脱土 1-3 份， 磷酸二氢钾 2-4 份， 分子筛 1-2 份， 硅藻土 1 份， 硼酸钠 2-4 份， 片层结构的云母粉 1 份， 空心玻璃微珠 1-2 份。 权 利 要 求

4、 书 CN 103436183 A 2 1/1 页 3 一种环保介电层材料化学机械抛光液 技术领域 0001 本发明涉及一种环保介电层材料化学机械抛光液。 背景技术 0002 传统介电层材料由于具有较高的介电常数， 会导致传导层之间电容增大， 从而影 响集成电路的速度， 使效率降低， 随着集成电路的复杂化和精细化， 这种基底材料越发不能 满足更先进制程的技术要求， 在衬底中引入低介电材料是集成电路技术发展的必然趋势， 随之产生了许多用于低介电材料的抛光浆液。 但目前现有技术中的低介电材料抛光液都没 有达到制造成本和技术表现的完美结合。 发明内容 0003 本发明所要解决的技术问题是提供一种环保

5、介电层材料化学机械抛光液。 0004 为解决上述技术问题， 本发明采用的技术方案是 ： 一种环保介电层材料化学机械抛光液， 其特征在于， 包括下列重量份数的物质 ： 三甲硅 基甲基磷酸二甲酯 12-23 份， 氰尿酸三聚氰胺 10-16 份， 滑石粉 8-16 份， 液态石蜡 4-9 份， 高岭土 1-3 份， 季戊四醇 1-5 份， 氰尿酸三聚氰胺盐 2-3 份， 蒙脱土 1-3 份， 磷酸二氢钾 2-4 份， 分子筛 1-2 份， 硅藻土 1 份， 硼酸钠 2-4 份， 片层结构的云母粉 1 份， 空心玻璃微珠 1-2 份。 0005 本发明的化学机械抛光液可抑制低介电材料的抛光速率， 而

6、对铜和二氧化硅的去 除速率影响不大， 同时可减少被抛光材料的表面污染物。 具体实施方式 0006 实施例 1 一种环保介电层材料化学机械抛光液， 其特征在于， 包括下列重量份数的物质 ： 三甲硅 基甲基磷酸二甲酯 12-23 份， 氰尿酸三聚氰胺 10-16 份， 滑石粉 8-16 份， 液态石蜡 4-9 份， 高岭土 1-3 份， 季戊四醇 1-5 份， 氰尿酸三聚氰胺盐 2-3 份， 蒙脱土 1-3 份， 磷酸二氢钾 2-4 份， 分子筛 1-2 份， 硅藻土 1 份， 硼酸钠 2-4 份， 片层结构的云母粉 1 份， 空心玻璃微珠 1-2 份。 说 明 书 CN 103436183 A 3